【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及激光薄膜制备，尤其是一种高损伤阈值激光反射镜低应力薄膜制备的工艺方法。
技术介绍
1、高损伤阈值激光反射镜广泛应用于科学研究、军事国防、工业制造领域。通过精确调整和控制反射镜的位置和角度，可以实现对激光束的控制和定向，从而达到预期的效果。激光反射镜的高反射率和精确性使其成为许多激光应用中不可或缺的一部分。随着现代光学技术的发展，人们对大口径高面形精度的激光反射镜提出了越来越高的要求。高损伤阈值激光反射镜由于膜层应力导致的面形变化一直是困扰高精度光学系统实现的难题。
2、通常激光反射镜薄膜附着于基体光学元件，薄膜的结构和性能受到光学元件基体材料的重要影响。因此薄膜与基体之间构成相互联系、相互作用的统一体，这种相互作用宏观上以两种力的形式表现出来：其一是薄膜与基体接触界面间的附着力；其二是薄膜单位截面所承受的来自基体约束的作用力—薄膜应力。薄膜应力在作用方向上有张应力和压应力之分。若薄膜具有沿膜面收缩的趋势则基体对薄膜产生张应力，反之，薄膜沿膜面的膨胀趋势造成压应力。薄膜和基体间附着力的存在是薄膜应力产生的前提条件...
【技术保护点】
1.一种高损伤阈值激光反射镜低应力薄膜制备的工艺方法，基于离子源辅助电子束蒸镀工艺，其特征在于，包括步骤：
2.根据权利要求1所述的一种高损伤阈值激光反射镜低应力薄膜制备的工艺方法，其特征在于，所述Ta2O5膜层的工艺参数包括蒸发温度、蒸发速率、离子源能量和束流。
3.根据权利要求1所述的一种高损伤阈值激光反射镜低应力薄膜制备的工艺方法，其特征在于，所述步骤3中另一套霍尔型离子源的工艺参数包括：霍尔型离子源位置、离子能量和束流、氧气与氩气混气比。
4.根据权利要求3所述的一种高损伤阈值激光反射镜低应力薄膜制备的工艺方法，其特征在于，...
【技术特征摘要】
1.一种高损伤阈值激光反射镜低应力薄膜制备的工艺方法，基于离子源辅助电子束蒸镀工艺，其特征在于，包括步骤：
2.根据权利要求1所述的一种高损伤阈值激光反射镜低应力薄膜制备的工艺方法，其特征在于，所述ta2o5膜层的工艺参数包括蒸发温度、蒸发速率、离子源能量和束流。
3.根据权利要求1所述的一种高损伤阈值激光反射镜低应力薄膜制备的工艺方法，其特征在于，所述步骤3中另一套霍尔型离子源的工艺参数包括：霍尔型离子源位置、离子能量和束流、氧气与氩气混气比。
4.根据权利要求3所述的一种高损伤阈值激光反射镜低应力薄膜制备的工艺方法，其特征在于，步骤3中另一套霍尔型离子源的工艺参数调整方法为：调整该霍尔型离子源远离与其配套的电子束蒸发源的距离，随着距离的变远，离子束能量相应调低，同时调整氧气与氩气的混气比例，当sio2薄膜表现为张应力的无吸收膜层时即为调...
【专利技术属性】
技术研发人员：田杰，王晋峰，谢多，路金豪，王俊，宗卫杰，
申请(专利权)人：中国科学院南京天文光学技术研究所，
类型：发明
国别省市：
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