一种视觉检测运动三轴平台制造技术

本发明专利技术涉及晶圆检测技术领域，公开了一种视觉检测运动三轴平台，包括底座，所述底座上设有Y轴气浮导轨，且Y轴气浮导轨上设有X轴气浮导轨，所述底座上还安装有Z轴支架，且Z轴支架上设有Z轴气浮导轨；所述X轴滑块上设有限位翻转组件，用于对放置在X轴滑块上的晶圆进行翻转，对晶圆进行双面检测，并对晶圆的活动位置进行限位，使得在对晶圆进行X轴和Y轴移动时，晶圆能够在X轴滑块上保持稳定。本发明专利技术有效地解决了平台定位精度差，以及，在较高精度运动下，受环境影响很大，对于已经达到纳米级精度，材料的轻微受热就会引起变形，从而影响精度的技术问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及晶圆检测，更具体地说，它涉及一种视觉检测运动三轴平台。

技术介绍

1、平整度是圆晶最主要的参数之一，主要是因为光刻工艺对局部位置的平整度是非常敏感的，圆晶平整度是指在通过硅片的直线上的厚度变化，常用两组上下相对的光谱聚焦传感器进行检测圆晶的上表面和下表面，早期圆晶的平面度及厚度检测平台主要为三轴运动平台。

2、目前市场常用的三轴运动平台均由旋转电机控制丝杆运动，常用于常规机械零件的加工，定位精度在几个um之间，相对来说满足不了半导体行业的需求，其次，在较高精度运动下，受环境影响很大，对于已经达到纳米级精度，材料的轻微受热就会引起变形，从而影响精度。

技术实现思路

1、本专利技术提供一种视觉检测运动三轴平台，解决相关技术中常用的三轴运动平台定位精度差，其次，在较高精度运动下，受环境影响很大，对于已经达到纳米级精度，材料的轻微受热就会引起变形，从而影响精度的技术问题。

2、本专利技术提供了一种视觉检测运动三轴平台，包括：

3、底座，所述底座上设有y轴气浮导轨，且y本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种视觉检测运动三轴平台，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种视觉检测运动三轴平台，其特征在于，所述X轴导轨（402）上安装有第一光栅尺读头（303），所述底座（1）上安装有Y轴直线电机（304），用于控制Y轴气浮导轨（3）进行移动，并通过第一光栅尺读头（303）反馈位置；

3.根据权利要求1所述的一种视觉检测运动三轴平台，其特征在于，所述底座（1）的下方设有支撑组件（6），且支撑组件（6）包括设于底座（1）下方的支撑架（603），所述支撑架（603）与底座（1）之间安装有多个伸缩气缸，且伸缩气缸的伸缩端安装有上脚杯（601），用于气浮弹簧（701...

【技术特征摘要】

1.一种视觉检测运动三轴平台，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种视觉检测运动三轴平台，其特征在于，所述x轴导轨（402）上安装有第一光栅尺读头（303），所述底座（1）上安装有y轴直线电机（304），用于控制y轴气浮导轨（3）进行移动，并通过第一光栅尺读头（303）反馈位置；

3.根据权利要求1所述的一种视觉检测运动三轴平台，其特征在于，所述底座（1）的下方设有支撑组件（6），且支撑组件（6）包括设于底座（1）下方的支撑架（603），所述支撑架（603）与底座（1）之间安装有多个伸缩气缸，且伸缩气缸的伸缩端安装有上脚杯（601），用于气浮弹簧（701）断气时保护气浮弹簧（701）以及运输保护，所述支撑架（603）的四周还安装有下脚杯（602），且下脚杯（602）用于对底座（1）的水平度进行初步调节。

4.根据权利要求3所述的一种视觉检测运动三轴平台，其特征在于，所述支撑架（603）与底座（1）之间还设有抗干扰组件（7），且抗干扰组件（7）包括多个安装在底座（1）和支撑架（603）之间的气浮弹簧（701），所述支撑架（603）上还安装有多个调节阀（702），且调节阀（702）与气浮弹簧（701）相连接，用于对底座（1）进行水平调节。

5.根据权利要求1所述的一种视觉检测运动三轴平台，其特征在于，所述限位翻转组件（9）包括安装在x轴滑块（401）两侧的侧板（901），且侧板（901）上安装有电动推杆（902），所述电动推杆（902）的伸缩端安装有连接座（903），且连接座（903）内轴承连接有连接轴（904），两组所述连接轴（904）相靠近的一端...

【专利技术属性】
技术研发人员：周盈，熊清平，罗勇发，潘权，关胜敏，
申请(专利权)人：深圳华中数控有限公司，
类型：发明
国别省市：