【技术实现步骤摘要】
本技术涉及篮子相关，具体为一种光刻胶过滤回收装置。
技术介绍
1、光掩膜版是集成电路制造工艺中的一个重要环节，它是一种在曝光中能把设计的图形转移到整个硅片中(或另一张光掩模版上)的工具。由于在制作过程中存在一定的设备或工艺局限，光掩膜版上的图形并不可能与设计图形完全一致，如尘埃颗粒、气泡在光掩膜版上可造成掩膜版图形出现针孔、断线等缺陷，这些缺陷会伴随着后续的光刻工艺被引入到芯片制造进程。因此，光掩膜板的品质将直接影响到芯片的良率和稳定性。
2、光刻工艺是整个行业的起始点，光刻工艺中主要的耗材成本来自光刻胶，使得光刻工艺成本较高。在生产制造的过程中，因匀胶异常排查、优化等工艺动作，使得大量光刻胶浪费在工艺优化的过程中，增加成本。因此，在光刻工艺中，如何提高光刻胶的利用率成为了成本管控与技术开发的重中之重。为了提高光刻胶的利用率，通过对光刻胶进行回收，而回收光刻胶含有较多杂质，易对供胶系统形成二次污染，导致良率有较大波动。而现有采用的外壳体进行过滤的在过滤的过程中，光刻胶具有一定的黏度，外壳体对于光刻胶的过滤效率较低；且也容易发
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种光刻胶过滤回收装置，其特征在于，包括外壳体（1），所述外壳体（1）的底部中心处设有向上凸起的托台（2），且所述托台（2）上设有转动轴（3），所述转动轴（3）的内端部设有旋转网筒架（4），且所述旋转网筒架（4）的侧壁上设有过滤网（5），且所述外壳体（1）的底部设有用于驱动转动轴（3）转动的驱动电机（6），且所述外壳体（1）的端部设有竖直向下且伸入到旋转网筒架（4）内的进胶管（7），所述外壳体（1）的上设有出胶管（8）。
2.根据权利要求1所述的一种光刻胶过滤回收装置，其特征在于，所述旋转网筒架（4）的上端部为开口。
3.根据权利要求1所述...
【技术特征摘要】
1.一种光刻胶过滤回收装置，其特征在于，包括外壳体（1），所述外壳体（1）的底部中心处设有向上凸起的托台（2），且所述托台（2）上设有转动轴（3），所述转动轴（3）的内端部设有旋转网筒架（4），且所述旋转网筒架（4）的侧壁上设有过滤网（5），且所述外壳体（1）的底部设有用于驱动转动轴（3）转动的驱动电机（6），且所述外壳体（1）的端部设有竖直向下且伸入到旋转网筒架（4）内的进胶管（7），所述外壳体（1）的上设有出胶管（8）。
2.根据权利要求1所述的一种光刻胶过滤回收装置，其特征在于，所述旋转网筒架（4）的上端部为开口。
【专利技术属性】
技术研发人员：谢红，谢丁生，吕学飞，王韶华，晏建发，赵振浩，林伟旺，
申请(专利权)人：上海亚曼光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。