【技术实现步骤摘要】
本技术涉及围绕垂直轴或微陡斜轴旋转的，具体为一种硅片清洗干燥装置。
技术介绍
1、晶硅片指硅的单晶体，是一种具有基本完整的点阵结构的晶体。不同的方向具有不同的性质，是一种良好的半导材料，用于制造半导体器件、太阳能电池等，在单晶硅片生产过程中需要对硅片进行物理和化学清洗，将硅片依次放置在不同的溶剂中，清洗后需要干燥装置将硅片表面残留的试剂干燥。
2、但是现有的硅片清洗干燥装置通常是在工作人员对硅片进行清洗后再将其放入烘干箱内部进行烘干，并且再通过旋转将其表面的水渍甩干从而加快烘干速度，但是在实际的使用当中因为硅片清洗过后其表面比较光滑，因此会出现多个硅片吸附在一起的情况，从而其表面的清洗液或水滴可能在烘干后会留下水渍，严重影响硅片清洗烘干的质量，甚至需要工作人员进行二次清洗后再次烘干，并且在旋转的过程中可能会出现硅片之间碰撞的问题，易造成硅片的损伤，实用性较低，鉴于此，我们提出一种硅片清洗干燥装置来解决上述问题。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本技术提供了一种硅片清洗干燥...
【技术保护点】
1.一种硅片清洗干燥装置，包括烘干箱本体（1），其特征在于：所述烘干箱本体（1）内部中空，烘干箱本体（1）的内部设置有四个放置板（2），放置板（2）的上表面开设有第一凹槽（3），第一凹槽（3）延伸出放置板（2）的下表面，第一凹槽（3）的内壁开设有卡槽（4），卡槽（4）的两侧内壁均开设有第二凹槽（5），两个第二凹槽（5）的内部均设置有压板（6），放置板（2）的外部设置有固定机构，四个放置板（2）之间均固定连接有两个固定杆（14），四个放置板（2）的下部均设置有漏网（13）。
2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗干燥装置，其特征在于：所述固定机构包括第一蜗杆（...
【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗干燥装置，包括烘干箱本体（1），其特征在于：所述烘干箱本体（1）内部中空，烘干箱本体（1）的内部设置有四个放置板（2），放置板（2）的上表面开设有第一凹槽（3），第一凹槽（3）延伸出放置板（2）的下表面，第一凹槽（3）的内壁开设有卡槽（4），卡槽（4）的两侧内壁均开设有第二凹槽（5），两个第二凹槽（5）的内部均设置有压板（6），放置板（2）的外部设置有固定机构，四个放置板（2）之间均固定连接有两个固定杆（14），四个放置板（2）的下部均设置有漏网（13）。
2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗干燥装置，其特征在于：所述固定机构包括第一蜗杆（7），第一蜗杆（7）转动贯穿进放置板（2）的内部，第一蜗杆（7）位于放置板（2）内部的一端固定连接有第二蜗杆（8），第二蜗杆（8）和放置板（2）的内壁转动连接，第一蜗杆（7）和第二蜗杆（8）为两个反向的蜗杆，第一蜗杆（7）和第二蜗杆（8）的外表面均啮合连接有第一蜗轮（9），两个第一蜗轮（9）的内部均套设有第三蜗杆（10）。
3.根据权利要求2所述的一种硅片清洗干燥装置，其特征在于：两个所述第三蜗杆（10）的两端均延伸出第一蜗轮（9）内部，两个第三蜗杆（10）的上端均和最上侧放置板（2）顶壁转动连接，两个第三蜗杆（10）的下端均转动贯穿进最下侧放置板（2）的内部并和最下侧放置板（2）的底壁转动连接。
4.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：张尔吾，颜建平，王健军，陆建军，熊文文，徐镇，李小兴，
申请(专利权)人：新疆东方希望光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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