一种减少片盒金属颗粒残留的清洗设备及工艺制造技术

本发明专利技术提供一种减少片盒金属颗粒残留的清洗设备及工艺，包括用于承载片盒的承载平台，所述承载平台上端安装有清洗装置，所述承载平台表面设置有若干个承载开口，多个所述片盒位于对应的承载开口内阵列布置，同一纵列多个所述片盒的外边缘极限端点位于同一虚拟的接触线上；还包括导电装置，所述导电装置包括活动设置的导电丝，所述导电丝与接触线平行，所述导电丝具有靠近片盒的第一位置和远离片盒的第二位置。该发明专利技术能够一次对多个片盒进行静电释放，提高了静电释放的效率，并且导电丝接触面积小，控制方法简单，提高了静电释放的效率以及降低了静电释放难度和成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及片盒清洗，尤其涉及一种减少片盒金属颗粒残留的清洗设备及工艺。

技术介绍

1、片盒在片盒清洗机经过氮气吹干及高速旋转一定时间后，由于腔体内的高温以及气体摩擦片盒表面形成了静电，部分金属颗粒残留于片盒表面，难以完全清洁去除，同时，片盒表面含有的静电对存放晶圆存在影响。

2、通过设置导电装置能够对片盒表面的静电进行释放，消除片盒内部存在的静电，满足晶圆存储的需要；同时，在片盒内部的静电消除后，片盒表面被静电吸引的金属颗粒杂质便于清理，可以通过气体处理的方式将金属颗粒排出，清洗效果好，片盒表面清洗彻底。

3、部分导电装置单点的接触方式依次对多个片盒进行静电释放，影响静电释放的效率，部分多点位的静电释放装置能够解决多个片盒同步静电释放的问题，但是该类型的静电释放设备结构复杂，尺寸较大，设备的操作要求高；并且，当片盒的尺寸发生变化后需要对设备的静电释放点位进行调整，操作过程繁琐，切换过程复杂，故障率较高，维修成本大。

技术实现思路

1、针对上述问题，本专利技术提供一种减少片盒金属颗粒本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种减少片盒金属颗粒残留的清洗设备，包括用于承载片盒（300）的承载平台（100），所述承载平台（100）上端安装有清洗装置，其特征在于：

2.根据权利要求1所述的减少片盒金属颗粒残留的清洗设备，其特征在于，同一纵列所述的片盒（300）左右两侧均设置有导电丝，两个所述导电丝之间安装有伸缩装置（600）。

3.根据权利要求2所述的减少片盒金属颗粒残留的清洗设备，其特征在于，所述伸缩装置（600）包括两组伸缩组件，所述伸缩组件位于同一纵列所述的片盒（300）的前后两侧。

4.根据权利要求2所述的减少片盒金属颗粒残留的清洗设备，其特征在于，两个所述导电丝...

【技术特征摘要】

1.一种减少片盒金属颗粒残留的清洗设备，包括用于承载片盒（300）的承载平台（100），所述承载平台（100）上端安装有清洗装置，其特征在于：

2.根据权利要求1所述的减少片盒金属颗粒残留的清洗设备，其特征在于，同一纵列所述的片盒（300）左右两侧均设置有导电丝，两个所述导电丝之间安装有伸缩装置（600）。

3.根据权利要求2所述的减少片盒金属颗粒残留的清洗设备，其特征在于，所述伸缩装置（600）包括两组伸缩组件，所述伸缩组件位于同一纵列所述的片盒（300）的前后两侧。

4.根据权利要求2所述的减少片盒金属颗粒残留的清洗设备，其特征在于，两个所述导电丝表面均固定有柔性的定位垫（530），相邻的两个定位垫（530）之间具有预定间距。

5.根据权利要求4所述的减少片盒金属颗粒残留的清洗设备，其特征在于，所述承载平台（100...

【专利技术属性】
技术研发人员：张重宠，韩五静，刘牛，冉玉林，
申请(专利权)人：安徽富乐德长江半导体材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：