【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及晶圆加工设备，具体涉及一种晶圆背洗机构。
技术介绍
1、晶圆在蚀刻加工后需要对其正面和背面进行清洗，去除晶圆表面的蚀刻液，现有的晶圆背洗机构对晶圆背面进行清洗时，通常将晶圆吸附固定在真空吸盘，带动晶圆旋转，然后通过喷头向晶圆背面喷射清洗液对其进行清洗。然而真空吸盘在吸附晶圆时由于真空吸盘的橡胶吸环与晶圆之间的密封性不足，在清洗时，少量的液体会在橡胶吸环内外侧压力差的作用下沿着橡胶吸环与晶圆之间的缝隙被吸入晶圆背面位于真空吸盘吸附的区域以及被吸入真空吸盘内部，导致晶圆背面位于真空吸盘吸附的区域、橡胶吸环上以及抽真空设备内均会残留蚀刻液。吸入真空设备的蚀刻液会损坏真空管路系统，晶圆背面残留的蚀刻液会对后续与晶圆接触的传送设备、载具等接触装置造成腐蚀、污染。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种晶圆背洗机构，降低在晶圆背洗过程中，晶圆背面位于真空吸盘吸附的区域、橡胶吸环上以及抽真空设备内蚀刻液的残留量的问题。
2、本专利技术的目的可以通过以下技术方案实现：
3、本专利技术提供一种晶圆背洗机构，真空吸盘，包括内部设有真空流道的盘体以及密封固接在所述盘体顶部的橡胶吸环；
4、挡水橡胶环，环设在所述橡胶吸环外侧，与所述橡胶吸环之间沿径向上具有间距，所述挡水橡胶环顶部与所述橡胶吸环顶部大体齐平；
5、多个背洗喷头，均设于所述挡水橡胶环外侧，用于朝向晶圆背面不同位置喷射清洗液；
6、旋转机构，用于驱动所述盘体相对所
7、在专利技术的一个实施例中：所述盘体上开设有贯穿所述盘体的进气孔，所述进气孔连通所述挡水橡胶环与所述橡胶吸环之间的间隙区间。
8、在专利技术的一个实施例中：所述旋转机构包括固定安装在所述盘体底部的转轴，所述转轴内开设有与所述真空流道连通的真空气道以及与所述进气孔连通的供气气道。
9、在专利技术的一个实施例中：所述盘体顶部开设有防水槽，所述防水槽环设在所述挡水橡胶环与所述橡胶吸环之间，所述防水槽底部开设有贯穿所述盘体的第一排水孔，所述第一排水孔向所述防水槽外侧延伸，所述进气孔一端连通所述防水槽，另一端向所述防水槽内侧延伸。
10、在专利技术的一个实施例中：所述防水槽内侧壁上开设有沿径向延伸的第一卡槽，所述橡胶吸环底部密封卡接在所述第一卡槽内。
11、在专利技术的一个实施例中：所述盘体外周面上环设有第二卡槽，所述挡水橡胶环底部密封卡接在所述第二卡槽内。
12、在专利技术的一个实施例中：所述晶圆背洗机构还包括设于所述盘体下方的接水盘、引流环罩以及安装筒，所述旋转机构包括固定安装在所述盘体底部的转轴，所述转轴通过轴承转动连接在所述安装筒内，所述接水盘和所述引流环罩均套设所述安装筒，且沿所述安装筒轴向上，所述引流环罩位于所述接水盘上方，所述接水盘上开设有排水槽，所述引流环罩用于将加工晶圆产生的液体引流至所述排水槽内。
13、在专利技术的一个实施例中：所述引流环罩顶面为凸锥面；
14、和/或，
15、所述引流环罩顶面呈台阶状。
16、在专利技术的一个实施例中：所述晶圆背洗机构还包括挡水环，所述引流环罩具有从其内边缘向上延伸的环口，所述盘体底面设有一凸环，所述凸环位于所述环口上方，所述安装筒顶端面位于所述凸环与所述环口之间，所述挡水环下部密封套设在所述环口外侧面上，所述挡水环顶部设有环状的防渗漏槽，所述凸环间隙配合在所述防渗漏槽内。
17、在专利技术的一个实施例中：多个所述背洗喷头在晶圆背面形成由外至内的流量梯度，靠近所述挡水橡胶环处流量最小。
18、本专利技术上述一个或多个实施例，至少具有如下一种或多种有益效果：
19、1、本申请通过设置橡胶吸环和挡水橡胶环进行双层防护，提高真空吸盘在真空吸附晶圆时盘体与晶圆之间的密封性，避免蚀刻液被吸入橡胶吸环内侧区域，保证晶圆位于真空吸盘吸附的区域、橡胶吸环以及抽真空设备的洁净度。
20、2、通过在盘体上增设连通挡水橡胶环与所述橡胶吸环之间的间隙区间的进气孔，使橡胶吸环内侧的负压区可通过进气孔从外界补充气压，消除橡胶吸环与挡水橡胶环之间的间隙区域与橡胶吸环外侧区域气压差避免挡水橡胶环外侧的蚀刻液和清洗液从挡水橡胶环与晶圆背面之间被吸入挡水橡胶环内侧，避免位于挡水橡胶环内侧区域的晶圆背面受到蚀刻液的污染，且避免了蚀刻液残留在橡胶吸环上污染后续的晶圆。
21、3、通过多个背洗喷头在晶圆背面形成由外至内的流量梯度，靠近挡水橡胶环处流量最小，减少清洗液与晶圆背面接触后反溅至挡水橡胶环上的清洗液量，避免挡水橡胶环上的残余清洗液二次污染晶圆背面。
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1.一种晶圆背洗机构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种晶圆背洗机构,其特征在于，所述盘体上开设有贯穿所述盘体的进气孔，所述进气孔连通所述挡水橡胶环与所述橡胶吸环之间的间隙区间。
3.根据权利要求2所述的一种晶圆背洗机构,其特征在于，所述旋转机构包括固定安装在所述盘体底部的转轴，所述转轴内开设有与所述真空流道连通的真空气道以及与所述进气孔连通的供气气道。
4.根据权利要求2所述的一种晶圆背洗机构,其特征在于，所述盘体顶部开设有防水槽，所述防水槽环设在所述挡水橡胶环与所述橡胶吸环之间，所述防水槽底部开设有贯穿所述盘体的第一排水孔，所述第一排水孔向所述防水槽外侧延伸，所述进气孔一端连通所述防水槽，另一端向所述防水槽内侧延伸。
5.根据权利要求4所述的一种晶圆背洗机构,其特征在于，所述防水槽内侧壁上开设有沿径向延伸的第一卡槽，所述橡胶吸环底部密封卡接在所述第一卡槽内。
6.根据权利要求1所述的一种晶圆背洗机构,其特征在于，所述盘体外周面上环设有第二卡槽，所述挡水橡胶环底部密封卡接在所述第二卡槽内。
7
8.根据权利要求7所述的一种晶圆背洗机构,其特征在于，所述引流环罩顶面为凸锥面；
9.根据权利要求7所述的一种晶圆背洗机构,其特征在于，所述晶圆背洗机构还包括挡水环，所述引流环罩具有从其内边缘向上延伸的环口，所述盘体底面设有一凸环，所述凸环位于所述环口上方，所述安装筒顶端面位于所述凸环与所述环口之间，所述挡水环下部密封套设在所述环口外侧面上，所述挡水环顶部设有环状的防渗漏槽，所述凸环间隙配合在所述防渗漏槽内。
10.根据权利要求1所述的一种晶圆背洗机构,其特征在于，多个所述背洗喷头在晶圆背面形成由外至内的流量梯度，靠近所述挡水橡胶环处流量最小。
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆背洗机构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种晶圆背洗机构,其特征在于，所述盘体上开设有贯穿所述盘体的进气孔，所述进气孔连通所述挡水橡胶环与所述橡胶吸环之间的间隙区间。
3.根据权利要求2所述的一种晶圆背洗机构,其特征在于，所述旋转机构包括固定安装在所述盘体底部的转轴，所述转轴内开设有与所述真空流道连通的真空气道以及与所述进气孔连通的供气气道。
4.根据权利要求2所述的一种晶圆背洗机构,其特征在于，所述盘体顶部开设有防水槽，所述防水槽环设在所述挡水橡胶环与所述橡胶吸环之间，所述防水槽底部开设有贯穿所述盘体的第一排水孔，所述第一排水孔向所述防水槽外侧延伸，所述进气孔一端连通所述防水槽，另一端向所述防水槽内侧延伸。
5.根据权利要求4所述的一种晶圆背洗机构,其特征在于，所述防水槽内侧壁上开设有沿径向延伸的第一卡槽，所述橡胶吸环底部密封卡接在所述第一卡槽内。
6.根据权利要求1所述的一种晶圆背洗机构,其特征在于，所述盘体外周面上环设有第二卡槽，所述挡水橡胶环底部密封卡接在所述第二卡槽内。
7.根据权利要求1-6任一项...
【专利技术属性】
技术研发人员：江峰，洪成都，
申请(专利权)人：苏州桔云科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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