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本发明公开了一种晶圆背洗机构，涉及晶圆加工设备技术领域，包括：真空吸盘，包括内部设有真空流道的盘体以及密封固接在盘体顶部的橡胶吸环；挡水橡胶环，环设在橡胶吸环外侧，与橡胶吸环之间沿径向上具有间距，挡水橡胶环顶部与橡胶吸环顶部大体齐平；多个背...
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