【技术实现步骤摘要】
本技术涉及电池生产设备，具体地，涉及一种规正设备。
技术介绍
1、在半导体制造工艺中，单晶硅棒经过金刚线切割，变成单晶方棒并被用来生产各种芯片、集成电路等元器件，在对单晶硅棒进行转运、加工之前，需要对单晶硅棒进行规正操作，以便于对单晶硅棒进行夹持等操作。相关技术中的规正设备在将单晶方棒规正至设定位置的过程中对单晶方棒的表面产生磨损。
技术实现思路
1、本技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本技术的实施例提出一种规正设备，该规正设备具有对工件的磨损较小的优点。
2、本技术实施例的规正设备包括机架和基准靠边，所述基准靠边固定设于所述机架的上侧；推板和活动板，所述推板和所述活动板均可滑移地设置于所述机架的上侧，所述推板平行于所述基准靠边延伸，所述活动板设于所述推板和所述基准靠边之间且沿水平方向延伸，所述活动板上适于放置工件，所述推板适于将所述工件推抵于所述基准靠边以规正所述工件，所述活动板随所述工件移动；多个滚动件，多个所述滚动件设于所述机架和所述活动板之间，所述机架和所述活动板中的任意一者设有多个滑动槽，所述滑动槽沿所述推板的运动方向延伸，且多个所述滑动槽沿所述基准靠边的长度方向均匀间隔布置，多个所述滚动件均布于多个所述滑动槽内。
3、本技术实施例的规正设备在对工件进行规正时，将工件置于活动板上，由推板将工件推抵于基准靠边，使工件沿基准靠边规正，在工件移动过程中，工件连同活动板移动，从而减少活动板和工件之间的相对位移，进而减少活动板对工件
4、本技术实施例的规正设备在活动板或机架上设置滑动槽，在滑动槽的槽底设置滚动件，一方面能够将活动板与机架之间的摩擦作用降低至小于活动板与工件之间的摩擦作用，在工件相对于机架移动的过程中，使活动板跟随工件同步运动，从而避免工件摩擦受损，另一方面将滚动件设于多个滑动槽内，多个滑动槽槽底的加工面积较小、多个滑动槽槽底的平面度较高，从而提高了多个滚动件上顶点的平面度，使多个工件连同活动板沿水平方向移动，进一步地降低了活动板对工件的摩擦作用，从而使本技术实施例的规正设备具有对工件的磨损较小的优点。
5、在一些实施例中，所述滑动槽设于所述机架朝向所述活动板的一侧，所述滚动件可转动地装配于所述滑动槽内，且单个所述滑动槽内的多个滚动件沿所述推板的运动方向间隔布置。
6、在一些实施例中，所述滚动件可相对于所述滑动槽的槽底沿任意方向转动，且所述滚动件可相对于所述活动板滚动，以使所述活动板和所述机架之间的摩擦作用小于所述活动板和所述工件之间的摩擦作用。
7、在一些实施例中，所述规正设备还包括驱动件，且所述驱动件位于所述推板背离所述基准靠边的一侧，以适于驱动所述推板沿正交于所述基准靠边的长度方向滑移。
8、在一些实施例中，所述活动板位于所述推板的下侧，以使在所述推板将所述工件推抵于所述基准靠边时，所述推板作用于所述工件，所述活动板与所述工件之间的静摩擦力大于所述活动板相对于所述机架运动的阻力，以使所述活动板随所述工件移动。
9、在一些实施例中，所述规正设备还包括复位组件，所述复位组件设于所述活动板和所述机架之间，所述复位组件适于在活动板上的工件完成规正并取下后，驱动所述活动板在所述推板的移动方向上复位。
10、在一些实施例中，所述机架上侧设有固定板，所述滑动槽设于所述固定板，所述固定板位于所述活动板的下侧，所述固定板上设有v型槽，所述v型槽沿所述固定板的厚度方向贯穿所述固定板，且所述v型槽的开口朝向所述基准靠边的长度方向，所述复位组件包括连轴，所述连轴与所述活动板的下端相连且至少部分所述连轴装配于所述v型槽内，所述连轴可配合至所述v型槽的槽底以使所述活动板在所述推板的移动方向上复位。
11、在一些实施例中，所述固定板上还设有矩形槽，所述矩形槽设于所述v型槽的开口处，所述连轴可配合至所述矩形槽内并在所述矩形槽内沿推板的运动方向移动，以供所述活动板连同所述连轴在推板的运动方向移动。
12、在一些实施例中，所述复位组件还包括第一气缸和第二气缸，所述第一气缸适于把连轴推抵至所述v型槽的槽底，所述第二气缸适于把连轴从所述v型槽推送至所述矩形槽内，以使所述活动板在所述推板移动方向上浮动。
13、在一些实施例中，所述v型槽和所述矩形槽有多个，多个所述矩形槽和多个所述v型槽一一对应，所述连轴有多个，多个所述连轴与多个v型槽一一对应，所述第一气缸与多个所述连轴中的任意一者对应布置，所述第二气缸与多个所述连轴中的另一者对应布置。
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1.一种规正设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的规正设备，其特征在于，所述滑动槽设于所述机架朝向所述活动板的一侧，所述滚动件可转动地装配于所述滑动槽内，且单个所述滑动槽内的多个滚动件沿所述推板的运动方向间隔布置。
3.根据权利要求2所述的规正设备，其特征在于，所述滚动件可相对于所述滑动槽的槽底沿任意方向转动，且所述滚动件可相对于所述活动板滚动，以使所述活动板和所述机架之间的摩擦作用小于所述活动板和所述工件之间的摩擦作用。
4.根据权利要求1所述的规正设备，其特征在于，还包括驱动件，所述驱动件位于所述推板背离所述基准靠边的一侧，以适于驱动所述推板沿正交于所述基准靠边的长度方向滑移。
5.根据权利要求1所述的规正设备，其特征在于，所述活动板位于所述推板的下侧，以使在所述推板将所述工件推抵于所述基准靠边时，所述推板作用于所述工件，所述活动板与所述工件之间的静摩擦力大于所述活动板相对于所述机架运动的阻力，以使所述活动板随所述工件移动。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的规正设备，其特征在于，还包括复位组件，所述复
7.根据权利要求6所述的规正设备，其特征在于，所述机架上侧设有固定板，所述滑动槽设于所述固定板，所述固定板位于所述活动板的下侧，所述固定板上设有V型槽，所述V型槽沿所述固定板的厚度方向贯穿所述固定板，且所述V型槽的开口朝向所述基准靠边的长度方向，所述复位组件包括连轴，所述连轴与所述活动板的下端相连且至少部分所述连轴装配于所述V型槽内，所述连轴可配合至所述V型槽的槽底以使所述活动板在所述推板的移动方向上复位。
8.根据权利要求7所述的规正设备，其特征在于，所述固定板上还设有矩形槽，所述矩形槽设于所述V型槽的开口处，所述连轴可配合至所述矩形槽内并在所述矩形槽内沿推板的运动方向移动，以供所述活动板连同所述连轴在推板的运动方向移动。
9.根据权利要求8所述的规正设备，其特征在于，所述复位组件还包括第一气缸和第二气缸，所述第一气缸适于把连轴推抵至所述V型槽的槽底，所述第二气缸适于把连轴从所述V型槽推送至所述矩形槽内，以使所述活动板在所述推板移动方向上浮动。
10.根据权利要求9所述的规正设备，其特征在于，所述V型槽和所述矩形槽有多个，多个所述矩形槽和多个所述V型槽一一对应，所述连轴有多个，多个所述连轴与多个V型槽一一对应，所述第一气缸与多个所述连轴中的任意一者对应布置，所述第二气缸与多个所述连轴中的另一者对应布置。
...【技术特征摘要】
1.一种规正设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的规正设备，其特征在于，所述滑动槽设于所述机架朝向所述活动板的一侧，所述滚动件可转动地装配于所述滑动槽内，且单个所述滑动槽内的多个滚动件沿所述推板的运动方向间隔布置。
3.根据权利要求2所述的规正设备，其特征在于，所述滚动件可相对于所述滑动槽的槽底沿任意方向转动，且所述滚动件可相对于所述活动板滚动，以使所述活动板和所述机架之间的摩擦作用小于所述活动板和所述工件之间的摩擦作用。
4.根据权利要求1所述的规正设备，其特征在于，还包括驱动件，所述驱动件位于所述推板背离所述基准靠边的一侧，以适于驱动所述推板沿正交于所述基准靠边的长度方向滑移。
5.根据权利要求1所述的规正设备，其特征在于，所述活动板位于所述推板的下侧，以使在所述推板将所述工件推抵于所述基准靠边时，所述推板作用于所述工件，所述活动板与所述工件之间的静摩擦力大于所述活动板相对于所述机架运动的阻力，以使所述活动板随所述工件移动。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的规正设备，其特征在于，还包括复位组件，所述复位组件设于所述活动板和所述机架之间，所述复位组件适于在活动板上的工件完成规正并取下后，驱动所述活动板在所述推板的移动方向上复位。
7.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱亮，李宏，胡普查，胡家辉，景健，
申请(专利权)人：杭州中为光电技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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