【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及芯片封装,具体涉及一种静磁场屏蔽封装结构及应用。
技术介绍
1、磁随机存储器(mram)利用磁矩的不同取向记录数据信息,在高速读写、写入次数、非易失性等性能上优于其他存储技术。mram的数据信息是由磁参考层和磁自由层的相对取向记录的。当两层方向相同时,元件处于低阻态(逻辑0)。两层方向相反时,元件处于高阻态(逻辑1)。磁自由层的稳定性较弱,因而可以多种方式改变其磁矩方向,从而实现数据的写入。
2、外部磁场会显著影响磁自由层的稳定性。磁自由层稳定性升高会导致写入电压的提高,从而降低元件的写入次数,或导致写入错误。磁自由层稳定性降低则会导致芯片存储数据的出错。因此对mram而言,外部磁场必须予以有效屏蔽。可以从多个维度进行外部磁场屏蔽,主要包括:1.器件层面;2.封装层面;3.应用层面。其中封装层面的屏蔽因其屏蔽效果好、方便客户使用、不需改动器件生产线等优点,最为受人关注。
3、现有常规的技术方案中,设置的磁屏蔽结构由于键合线需从侧壁通过,因此通常情况下不设置侧壁,或是在侧壁上开设较大的用于键合线通过的
...【技术保护点】
1.一种静磁场屏蔽封装结构,其特征在于,包括,
2.根据权利要求1所述的静磁场屏蔽封装结构,其特征在于,所述侧壁上开设有与所述电极柱适配的容纳孔,所述电极柱通过粘合剂固定设置于所述容纳孔内。
3.根据权利要求1所述的静磁场屏蔽封装结构,其特征在于,所述电极柱的柱体内埋设有金属走线(243),位于所述柱体两端的电极通过所述金属走线进行连通。
4.根据权利要求3所述的静磁场屏蔽封装结构,其特征在于,所述柱体为长方体。
5.根据权利要求4所述的静磁场屏蔽封装结构,其特征在于,所述电极柱的制造工艺包括多层印刷电路板工艺或硅半导体
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【技术特征摘要】
1.一种静磁场屏蔽封装结构,其特征在于,包括,
2.根据权利要求1所述的静磁场屏蔽封装结构,其特征在于,所述侧壁上开设有与所述电极柱适配的容纳孔,所述电极柱通过粘合剂固定设置于所述容纳孔内。
3.根据权利要求1所述的静磁场屏蔽封装结构,其特征在于,所述电极柱的柱体内埋设有金属走线(243),位于所述柱体两端的电极通过所述金属走线进行连通。
4.根据权利要求3所述的静磁场屏蔽封装结构,其特征在于,所述柱体为长方体。
5.根据权利要求4所述的静磁场屏蔽封装结构,其特征在于,所述电极柱的制造工艺包括多层印刷电路板工艺或硅半导体...
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