【技术实现步骤摘要】
本申请涉及全息光刻领域，尤其涉及一种光源对准的确定方法和装置、电子设备和存储介质。
技术介绍
1、激光全息光刻是一种很有潜力的光刻技术，它的基本原理是通过全息成像，照射经过特别设计的全息掩模，在硅片上得到想要的图形。在照射过程中，往往需要光源对准，在现有的全息光刻领域里，对准需要通过引入一套额外的对准系统来进行，但是引入一套额外的对准系统，往往意味着一套额外的光路和专门的对准光源，这带来了成本的上升和系统复杂性、不稳定性的增加。
2、因此，现有的相关技术中存在引入额外对准系统导致的成本过高、系统较复杂且稳定性不足致使对准不精确的问题。
技术实现思路
1、本申请提供了一种光源对准的确定方法和装置、电子设备和存储介质，以至少解决相关技术中存在引入额外对准系统导致的成本过高、系统较复杂且稳定性不足致使对准不精确的问题。
2、根据本申请实施例的一个方面，提供了一种光源对准的确定方法，该方法包括：
3、获取由全息成像生成的干涉图样或对掩膜进行调整后的目标掩膜；p>
4、根据所本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种光源对准的确定方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述干涉图样，得到照射在光栅之后所检测到的透过所述光栅的光照强度，包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述光照强度生成对应的线条变化图，包括：
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据目标掩膜，得到照射在光栅之后所检测到的透过所述光栅的光照强度，包括：
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据所述光照强度生成对应的线条变化图，包括：
6.根据权利要求4所述的方法，其特征在...
【技术特征摘要】
1.一种光源对准的确定方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述干涉图样，得到照射在光栅之后所检测到的透过所述光栅的光照强度，包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述光照强度生成对应的线条变化图，包括：
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据目标掩膜，得到照射在光栅之后所检测到的透过所述光栅的光照强度，包括：
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据所述光照强度生成对应的线条变化图，包括：
6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：谢稳，牛志元，丛敏，程智，秦宏鹏，王凯诚，
申请(专利权)人：光科芯图北京科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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