【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造,尤其涉及一种校准结构、校准方法及晶圆传输方法。
技术介绍
1、目前,半导体集成电路(ic)产业已经经历了指数式增长。ic材料和设计中的技术进步已经产生了数代ic,其中,每代ic都比前一代ic具有更小和更复杂的电路。在ic发展的过程中,功能密度(即每一芯片面积上互连器件的数量)已普遍增加,而几何尺寸(即使用制造工艺可以产生的最小部件)却已减小。除了ic部件变得更小和更复杂之外,在其上制造ic的晶圆变得越来越大,这就对晶圆的质量要求越来越高。
2、在半导体结构的制造过程中,经常需要利用机械手臂在不同的器件结构之间转移晶圆,例如将晶圆从foup(front opening unified pod,前开式晶圆传送盒)中取出后放置至刻蚀机台或者膜层沉积机台。在利用机械手臂传输晶圆之前,需要对机械手臂进行校准定位,以确保晶圆能够顺利的传输。但是,当前机械手臂的校准仅仅采用人工肉眼观察,没有明确的量化数据标准。人工调试往往需要重复调教多次,调试校准的时间较长,从而导致了机械手臂调试校准的效率较低。而且,人工肉眼观
...【技术保护点】
1.一种校准结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的校准结构,其特征在于,还包括:
3.根据权利要求2所述的校准结构,其特征在于,所述塞块呈立方体形状,所述塞块的数量为多个,且多个所述塞块用于一一与所述机械手臂上的多个定位点接触。
4.根据权利要求1所述的校准结构,其特征在于,所述夹具底面上具有多个所述定位块,且多个所述定位块环绕所述定位销孔在所述夹具底面上的投影的中心间隔分布。
5.根据权利要求4所述的校准结构,其特征在于,所述主夹具还包括:
6.根据权利要求1所述的校准结构,其特征在于,所述机械
...【技术特征摘要】
1.一种校准结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的校准结构,其特征在于,还包括:
3.根据权利要求2所述的校准结构,其特征在于,所述塞块呈立方体形状,所述塞块的数量为多个,且多个所述塞块用于一一与所述机械手臂上的多个定位点接触。
4.根据权利要求1所述的校准结构,其特征在于,所述夹具底面上具有多个所述定位块,且多个所述定位块环绕所述定位销孔在所述夹具底面上的投影的中心间隔分布。
5.根据权利要求4所述的校准结构,其特征在于,所述主夹具还包括:
6.根据权利要求1所述的校准结构,其特征在于,所述机械手臂包括手臂本体以及两个叉指,所述叉指包括与所述手臂本体连接的第一端部和与所述第一端部相对的第二端部;
7.根据权利要求1所述的校准结构,其特征在于,所述定位销包括销本体和连接于所述销本体的顶端的销帽,所述工装销孔的直径等于所述销本体的直径,所述销帽的宽度大于所述工装销孔的直径。
8.一种校准方法,其特征在于,包括如下步骤:
9.根据权利要求8所述的校准方法,其特征在于,放置主夹具至半导体机台的工位上的具...
【专利技术属性】
技术研发人员:任嘉惠,刘纵曙,刘磊,
申请(专利权)人:上海积塔半导体有限公司,
类型:发明
国别省市:
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