【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及装甲防护,具体而言,涉及一种聚脲-陶瓷双相抗侵彻结构及其制备方法。
技术介绍
1、装甲防护材料指能够抵御弹丸及其碎片进攻,防止其损伤,可有效地吸收或分散弹丸射流能量,并能有效保护物体或人员免受损伤,或者将弹丸侵彻造成的损伤降至最低的一类材料体系,主要用于坦克装甲车辆、自行火炮、武装直升机、军舰、军事设施和人体防护等,装甲防护是提高武器装甲战场生存力最主要的手段之一,也是世界发展研究的重点和热点课题,装甲防护的发展是与新型武器的产生发展相适应的,是防护与毁伤这对矛与盾螺旋促进上升的产物。
2、点阵结构是一种新型空间网架类有序多孔结构,其作为夹芯板应用于装甲防护,具有突出的比强度、比刚度、比吸能性等优点,但现有的点阵结构用于装甲防护时,其多为桁架式金属点阵结构,这种点阵结构在单次抗侵彻后容易失效,无法实现多次抗侵彻,同时在实际应用中其强度和刚度仍有所欠缺。
技术实现思路
1、本专利技术所要解决的问题是现有的装甲防护结构的抗侵彻效果差,强度和刚度仍有所欠缺。
【技术保护点】
1.一种聚脲-陶瓷双相抗侵彻结构,其特征在于,包括多个呈阵列分布的阵列单元,所述阵列单元包括陶瓷点阵结构(1)和聚脲填充结构(3),所述陶瓷点阵结构(1)为凸正多面体型点阵结构,所述聚脲填充结构(3)用于填充所述陶瓷点阵结构(1)的空隙,以构成所述凸正多面体型点阵结构对应的最小正方体结构(2),所述最小正方体结构(2)构成所述聚脲-陶瓷双相抗侵彻结构的所述阵列单元。
2.根据权利要求1所述的聚脲-陶瓷双相抗侵彻结构,其特征在于,所述凸正多面体型点阵结构包括正八面体型点阵结构。
3.根据权利要求2所述的聚脲-陶瓷双相抗侵彻结构,其特征在于,所述陶
...【技术特征摘要】
1.一种聚脲-陶瓷双相抗侵彻结构,其特征在于,包括多个呈阵列分布的阵列单元,所述阵列单元包括陶瓷点阵结构(1)和聚脲填充结构(3),所述陶瓷点阵结构(1)为凸正多面体型点阵结构,所述聚脲填充结构(3)用于填充所述陶瓷点阵结构(1)的空隙,以构成所述凸正多面体型点阵结构对应的最小正方体结构(2),所述最小正方体结构(2)构成所述聚脲-陶瓷双相抗侵彻结构的所述阵列单元。
2.根据权利要求1所述的聚脲-陶瓷双相抗侵彻结构,其特征在于,所述凸正多面体型点阵结构包括正八面体型点阵结构。
3.根据权利要求2所述的聚脲-陶瓷双相抗侵彻结构,其特征在于,所述陶瓷点阵结构(1)包括两两相互固定连接的板结构一(11)、板结构二(12)和板结构三(13),所述板结构三(13)构成所述凸正多面体型点阵结构中心的凸正多面体型支撑部,所述板结构一(11)设置于所述凸正多面体型支撑部的每个顶点处,所述板结构二(12)设置于所述凸正多面体型支撑部的每条棱边处。
4.根据权利要求3所述的聚脲-陶瓷双相抗侵彻结构,其特征在于,所述板结构一(11)、所述...
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