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本发明提供了一种聚脲‑陶瓷双相抗侵彻结构及其制备方法，涉及装甲防护技术领域，该聚脲‑陶瓷双相抗侵彻结构包括多个呈阵列分布的阵列单元，所述阵列单元包括陶瓷点阵结构和聚脲填充结构，所述陶瓷点阵结构为凸正多面体型点阵结构，所述聚脲填充结构用于填充...
该专利属于武汉理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉理工大学授权不得商用。

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