【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及适合用于例如柔性器件的基板等电子器件用途的聚酰亚胺前体组合物、聚酰亚胺膜和聚酰亚胺膜/基材层积体。
技术介绍
1、聚酰亚胺膜由于耐热性、耐化学药品性、机械强度、电学特性、尺寸稳定性等优异而广泛地用于电气/电子器件领域、半导体领域等领域中。另一方面，近年来，伴随着高度信息化社会的到来，正在推进光通信领域的光纤及光波导等、显示装置领域的液晶取向膜及滤色器用保护膜等光学材料的开发。特别是，在显示装置领域中，作为玻璃基板的替代物，正在积极地进行轻量且柔性优异的塑料基板的研究、以及能够弯曲或卷曲的显示器的开发。
2、在液晶显示器或有机el显示器等显示器中，形成用于驱动各像素的tft(薄膜晶体管)等半导体元件。因此，对于基板而言要求耐热性及尺寸稳定性。聚酰亚胺膜由于耐热性、耐化学药品性、机械强度、电学特性、尺寸稳定性等优异而有望作为显示器用途的基板。
3、通常，柔性的膜难以维持平面性，因此难以在柔性的膜上均匀且精度良好地形成tft等半导体元件、微细布线等。为了解决该问题，例如，专利文献1中记载了“一种作为显示器件或光接受器件的柔性器件的制造方法，其包括下述各工序：将特定的前体树脂组合物涂布到载体基板上并成膜，形成固体状的聚酰亚胺树脂膜的工序；在上述树脂膜上形成电路的工序；将表面形成有上述电路的固体状的树脂膜从上述载体基板剥离的工序”。
4、另外，在专利文献2中，作为制造柔性器件的方法，公开了下述方法，其包括：在玻璃基板上形成聚酰亚胺膜而得到的聚酰亚胺膜/玻璃基材层积体上形成器件所需要的元件和
5、在专利文献1、2中记载的柔性电子器件的制造方法中，为了处理聚酰亚胺膜/玻璃基材层积体，在聚酰亚胺膜与玻璃基材之间需要适当的密合性。
6、聚酰亚胺通常着色为黄褐色，因此在具备背光源的液晶显示器等透过型器件中的使用受限，但是，近年来，已开发出除了机械特性、热特性以外透光性也优异的聚酰亚胺膜，其作为显示器用途的基板的期望进一步提高。例如专利文献3中记载了除了透光性以外机械特性、耐热性等也优异的半脂环式聚酰亚胺。
7、另一方面，作为柔性电子器件基板用途的芳香族系的聚酰亚胺，例如，专利文献4、5中公开了一种聚酰亚胺，其使用了包含2,2’-双(三氟甲基)联苯胺(tfmb)之类的含氟芳香族二胺的二胺成分。另外，作为该用途，专利文献6、7、8中公开了使用包含含有酯键的芳香族二胺化合物的二胺成分的例子。以含有酯键的芳香族二胺化合物为成分的聚酰亚胺还已知有覆铜层积板用途(例如专利文献9)、用于形成剥离层的用途(专利文献10)。此外，专利文献11～15中也公开了使用包含含有酯键的芳香族二胺化合物的二胺成分的例子。
8、现有技术文献
9、专利文献
10、专利文献1：日本特开2010-202729号公报
11、专利文献2：国际公开第2018/221607号公报
12、专利文献3：国际公开第2012/011590号公报
13、专利文献4：国际公开第2009/107429号公报
14、专利文献5：国际公开第2019/188265号公报
15、专利文献6：日本特开2021-175790
16、专利文献7：国际公开第2017/051827号公报
17、专利文献8：中国专利申请公开第110003470号公报
18、专利文献9：日本特开2021-195380号公报
19、专利文献10：国际公开第2016/129546号公报
20、专利文献11：国际公开第2021/261177号
21、专利文献12：美国专利申请公开第2022/0135797号说明书
22、专利文献13：日本特开平7-133349号公报
23、专利文献14：日本特开2020-164704号公报
24、专利文献15：美国专利申请公开第2021/0017336号说明书
技术实现思路
1、专利技术所要解决的课题
2、近年来，tft的成膜方法也不断改良，与以往相比，成膜温度的低温化不断发展，但在特定的工艺中仍需要高温处理，另外，工艺裕度越大则成品率越好，因此优选基板膜的耐热性尽可能高。芳香族系聚酰亚胺在着色方面存在问题，但通常耐热性优异，因此，若尽可能降低着色，则有可能能够用作显示器用途的基板。
3、特别是，在搭载有屏下摄像头的智能手机等中，光通过显示器而到达照相机，因此对该显示器用的聚酰亚胺膜要求高透光率，特别是在传感器的灵敏度区域要求高透光率。另外，例如为了防止可弯折的柔性显示器中的弯折部分的白化等，要求高弹性模量。
4、如上所述，在专利文献4、5中公开了2,2’-双(三氟甲基)联苯胺(tfmb)的使用例，但本专利技术人进行了研究，结果发现了如下问题：在由使用tfmb作为单体成分的聚酰亚胺膜/玻璃基材层积体形成电子器件的过程中，聚酰亚胺膜容易从玻璃基材剥离。在聚酰亚胺膜/玻璃基材层积体上形成有具有气体阻隔功能的无机薄膜后，层积体暴露于高温时，容易发生剥离。
5、另外，在柔性电子器件的制造中，有时包括将大张的聚酰亚胺膜/玻璃基材层积体(包括元件形成后)切分成各个柔性电子器件(中间制品)的工序。若聚酰亚胺膜与玻璃基材间的密合性不充分，则在该工序中有时在聚酰亚胺膜与玻璃基材间产生剥离。认为其原因在于：聚酰亚胺容易吸收水分，因此欲从切割后的端面(上部为阻隔膜)吸收大气中的水分而膨胀，在密合性弱的情况下产生剥离。另外，在将聚酰亚胺膜从玻璃基材剥离的激光剥离工序中，聚酰亚胺膜与玻璃基材间的密合强度高时，激光强度小即可，因此加工后的聚酰亚胺的变化少(没有变化)，另一方面，密合性弱时，需要增强激光强度，因此有时加工后的聚酰亚胺发生变色或发生机械特性的降低。因此，要求聚酰亚胺膜与玻璃基材间的密合性、即剥离强度极高。
6、上述文献6～15完全未公开本申请专利技术，而且作为柔性显示器基板用途的聚酰亚胺膜存在问题。专利文献6、7中记载了包含4-氨基苯基-4-氨基苯甲酸酯(apab；本申请中简称为4-baab)的二胺成分的使用例，但在膜的着色性方面不充分。在专利文献8中，需要特定结构的二胺化合物，在膜的着色性和膜的弹性模量方面不充分。专利文献11、14、15中记载的聚酰亚胺前体组合物也需要特定结构的二胺化合物，在雾度等柔性显示器基板用途的方面无法令人满意。另外，由专利文献9、10、12、13中记载的其他用途的聚酰亚胺前体组合物得到的聚酰亚胺膜不满足包括密合性在内的显示器用途所需的性能。
7、因此，本专利技术的目的在于提供一种聚酰亚胺前体组合物，其用于利用耐热性和线性热膨胀系数等芳香族系聚酰亚胺膜的优点，同时制造透光性、聚酰亚胺膜/基材层积体中的密合性等柔性电子器件用途、特别是柔性显示器基板用途的聚酰亚胺膜。进而，本专利技术的目的在于提供由该聚酰亚胺前体得本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种聚酰亚胺前体组合物，其含有：重复单元由下述通式(I)表示的聚酰亚胺前体；和相对于所述聚酰亚胺前体的重复单元1摩尔为小于1摩尔的量的作为任选成分的至少1种咪唑化合物，
2.如权利要求1所述的聚酰亚胺前体组合物，其特征在于，X1的60摩尔％以上为式(1-1)所示的结构。
3.如权利要求1所述的聚酰亚胺前体组合物，其中，Y1的80摩尔％以上为式(B)所示的结构。
4.如权利要求1所述的聚酰亚胺前体组合物，其中，相对于所述聚酰亚胺前体的重复单元1摩尔以0.01摩尔以上且小于1摩尔的量进一步含有至少1种咪唑化合物。
5.如权利要求4所述的聚酰亚胺前体组合物，其特征在于，所述咪唑化合物为选自由1,2-二甲基咪唑、1-甲基咪唑、2-甲基咪唑、2-苯基咪唑、1-苯基咪唑、咪唑和苯并咪唑组成的组中的至少1种。
6.如权利要求1所述的聚酰亚胺前体组合物，其中，相对于制造聚酰亚胺前体组合物时的四羧酸二酐与二胺化合物的合计100质量份以超过0质量份且60质量份以下的量含有具有Si-ORa结构的至少1种硅烷化合物，其中，Si-ORa结构中
7.如权利要求6所述的聚酰亚胺前体组合物，其中，所述硅烷化合物为下式：
8.一种聚酰亚胺膜，其由权利要求1所述的聚酰亚胺前体组合物得到。
9.一种聚酰亚胺膜/基材层积体，其特征在于，其具有：
10.如权利要求9所述的层积体，其中，在所述层积体的聚酰亚胺膜上还具有无机薄膜层。
11.如权利要求9或10所述的层积体，其中，所述基材为玻璃基板。
12.一种聚酰亚胺膜/基材层积体的制造方法，其具有下述工序：
13.如权利要求12所述的层积体的制造方法，其中，在所述工序(b)之后，还具有：(c)在所述层积体的聚酰亚胺膜上形成无机薄膜层的工序。
14.一种柔性电子器件的制造方法，其具有下述工序：
15.一种柔性电子器件，其包含权利要求8所述的聚酰亚胺膜。
16.一种柔性电子器件基板，其由权利要求8所述的聚酰亚胺膜构成。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种聚酰亚胺前体组合物，其含有：重复单元由下述通式(i)表示的聚酰亚胺前体；和相对于所述聚酰亚胺前体的重复单元1摩尔为小于1摩尔的量的作为任选成分的至少1种咪唑化合物，
2.如权利要求1所述的聚酰亚胺前体组合物，其特征在于，x1的60摩尔％以上为式(1-1)所示的结构。
3.如权利要求1所述的聚酰亚胺前体组合物，其中，y1的80摩尔％以上为式(b)所示的结构。
4.如权利要求1所述的聚酰亚胺前体组合物，其中，相对于所述聚酰亚胺前体的重复单元1摩尔以0.01摩尔以上且小于1摩尔的量进一步含有至少1种咪唑化合物。
5.如权利要求4所述的聚酰亚胺前体组合物，其特征在于，所述咪唑化合物为选自由1,2-二甲基咪唑、1-甲基咪唑、2-甲基咪唑、2-苯基咪唑、1-苯基咪唑、咪唑和苯并咪唑组成的组中的至少1种。
6.如权利要求1所述的聚酰亚胺前体组合物，其中，相对于制造聚酰亚胺前体组合物时的四羧酸二酐与二胺化合物的合计100质量份以超过0质量份且60质量份以下的量含有...
【专利技术属性】
技术研发人员：冈卓也，根本雄基，小滨幸德，伊藤太一，
申请(专利权)人：UBE株式会社，
类型：发明
国别省市：
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