【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及生长半导体,具体为一种判断mocvd尾气管道堵塞的方法。
技术介绍
1、mocvd在生长inp基光通信半导体激光器时,会产生砷、磷及碳化合物,mocvd(金属有机物气相沉积)是一种生长半导体外延材料的设备,以iii族、ⅱ族元素的有机化合物和v、vi族元素的氢化物等作为晶体生长源材料,以热分解反应方式在衬底上进行气相外延,生长各种iii-v族、ⅱ-vi族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料,有机源与热气反应生成的三五族化合物部分沉积到衬底上,大部分的原材料随气流流动到排气系统,其中有部分生成物被二级颗粒过滤器过滤掉,还有部分沉积到排气系统的管道内壁上,随着时间的延长,日积月累,管道的内径会逐渐变小,影响气流的流动,所以需要及时判断排气管道内壁的附着物的厚度,及时的做出判断,以便准确的把控维护时间点,避免影响设备运行,为了有效的解决尾气管道堵塞问题,提出一种判断mocvd尾气管道堵塞的方法。
2、通常判断的方法是根据排气系统管道上安装的压力表,利用其前后端压力表的差值变化,来判断管道是否堵塞,如果压差很小
...【技术保护点】
1.一种判断MOCVD尾气管道堵塞的方法,其优化方法:温度传感器选择,位置选择,加装伴热带,安装方式,数据收集,数据计算,数据分析,及时响应,与其他参数关联,其特征在于:包括以下九个步骤:
2.根据权利要求1所述的一种判断MOCVD尾气管道堵塞的方法,其特征在于:在所述步骤二中,在Y1管的5a,Y2管的5b处绑定热电偶探测器,在Y3管的6a,Y4管的6b处绑定热电偶探测器,在Y5管的7a,Y6管的7b,Y7管的7c处绑定热电偶探测器,实时监测反应室以下各支路的温度变化,如果相邻两个温度计的温度差若是生产磷化铟体系材料大于5℃即判断为管道堵塞,若是生长砷化镓
...【技术特征摘要】
1.一种判断mocvd尾气管道堵塞的方法,其优化方法:温度传感器选择,位置选择,加装伴热带,安装方式,数据收集,数据计算,数据分析,及时响应,与其他参数关联,其特征在于:包括以下九个步骤:
2.根据权利要求1所述的一种判断mocvd尾气管道堵塞的方法,其特征在于:在所述步骤二中,在y1管的5a,y2管的5b处绑定热电偶探测器,在y3管的6a,y4管的6b处绑定热电偶探测器,在y5管的7a,y6管的7b,y7管的7c处绑定热电偶探测器,实时监测反应室以下各支路的温度变化,如果相邻两个温度计的温度差若是生产磷化铟体系材料大于5℃即判断为管道堵塞,若是生长砷化镓材料温度差值大于10℃即为堵塞,若是其它材料温度差值大于15℃即判定为堵塞,能够做到准确实时,根据不同的生长材料制定不同的温差标准。
3.根据权利要求1所述的一种判断mocvd尾气管道堵塞的方法,其特征在于:在所述步骤二中,在反应室以下排气口的各支路处安装温度监控装置,通过相邻...
【专利技术属性】
技术研发人员:蒋波,孔庆军,张龙,杨皓宇,
申请(专利权)人:南京镭芯光电有限公司,
类型:发明
国别省市:
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