一种微图案石墨烯抗病毒表面及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种微图案石墨烯抗病毒表面及其制备方法，具体步骤如下：准备厚度为1‑30nm的氧化石墨烯薄膜样品，将该样品放置于X‑Y位移平台，通过控制激光直写系统中激光参数及扫描参数，对氧化石墨烯薄膜进行还原并在其表面进行微纳加工，制备出石墨烯纳米结构特征尺寸为1‑400nm、微图案为周期10‑100μm的光栅。与现有技术相比，本发明专利技术利用激光直写还原氧化石墨烯，该方法快速、高效，属于非接触性加工、降低了石墨烯材料损伤，可进行大面积制备，该微图案石墨烯抗病毒表面能够实现特异性抗病毒。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于抗病毒表面材料制备领域，特别是一种微图案石墨烯抗病毒表面及其制备方法。

技术介绍

1、传统的石墨烯材料制备方法，如机械剥离法和化学气相沉积法等通常步骤复杂且成本高昂，在制备的过程中常常会引入氧化物、氮化物，这些杂质会影响石墨烯的品质和性能。激光直写技术能够精确控制氧化石墨烯的还原程度，使用的激光器具体参数可控(如激光功率、激光频率和扫描速度等)，在微图案加工上有着显著优势。另一方面，从生物相容性的角度来说，可以针对对不同的病毒制备出具有不同微图案、不同还原程度的还原氧化石墨烯，使其抗病毒效果可控。本专利技术旨在利用激光直写技术针对不同病毒制备具有微图案的特异性抗病毒的还原氧化石墨烯表面。

2、有关石墨烯抗病毒方面的研究，主要集中在利用石墨烯分散液将石墨烯与金属材料或者无机材料相结合，其主要目的是在原有材料的性能基础上复合石墨烯材料的特点，从而得到具有抗病毒能力的结合物。例如中国专利公开号cn114808172b公开的一种石墨烯多功能抗病毒抗菌软体芯片及其制备方法，是将石墨烯材料加入到硅溶胶中进行反应，获得含有石墨烯成分的多功能纳米本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种微图案石墨烯抗病毒表面制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的微图案石墨烯抗病毒表面制备方法，其特征在于：所述氧化石墨烯薄膜样品的厚度为1-30nm。

3.根据权利要求1所述的微图案石墨烯抗病毒表面制备方法，其特征在于：所述激光波长为200-1064nm。

4.根据权利要求3所述的微图案石墨烯抗病毒表面制备方法，其特征在于：所述激光能量密度为300-600mJ/cm2。

5.一种如权利要求1-4任一所述的方法制备的微图案石墨烯抗病毒表面，其特征在于：所述微图案为周期10-100μm的光栅结构。

【技术特征摘要】

1.一种微图案石墨烯抗病毒表面制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的微图案石墨烯抗病毒表面制备方法，其特征在于：所述氧化石墨烯薄膜样品的厚度为1-30nm。

3.根据权利要求1所述的微图案石墨烯抗病毒表面制备方法，其特征在于：所述激光波长为...

【专利技术属性】
技术研发人员：王璐，孔繁岳，董莉彤，王作斌，陈玉娟，胡翠华，左斐月，王莹，高嘉雪，
申请(专利权)人：长春理工大学，
类型：发明
国别省市：