待测衬底的检测方法以及检测装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种待测衬底的检测装置以及待测衬底的检测方。所述待测衬底表面具有第一待测点和第二待测点，所述待测衬底的检测装置包括：发射单元，所述发射单元相所述待测衬底发射特征图案对所述待测衬底执行位移测量处理；采集单元，所述采集单元获取所述发射单元形成的特征图案的图像；以及处理单元，所述处理单元获取所述第一待测点与第二待测点之间沿所述第一测量方向之间的第一目标距离。本发明专利技术通过向待测衬底表面分别投射在第一测量方向上具有可识别的第一特征点和第二特征点的特征图案，通过图案形貌的变化来推断待测点之间的距离，能够准确获取不同待测点之间的相对位置信息。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及衬底检测领域，尤其涉及一种待测衬底的检测方法以及检测装置。

技术介绍

1、衬底表面图形检测是通过观察衬底表面的图形来获取衬底图形信息的方法。在观测过程中，使用者除了获取图形的数量信息之外，还需要获取不同的图形之间的相对位置信息。但现有技术中，由于图形之间的距离较远，无法在同一个显微镜的视野下显示，因此不同图形之间的位置信息只能通过显微镜的镜头的位移来判断。而显微镜的镜头位移是由步进电机等机械装置完成的，精确度很低，不能够满足测量的需求。因此，在衬底表面图形检测的过程中，如何准确获取不同图形之间的相对位置信息，是现有技术需要解决的问题。

技术实现思路

1、本专利技术所要解决的技术问题是，提供一种待测衬底的检测方法以及检测装置，能够准确获取不同图形之间的相对位置信息。

2、为了解决上述问题，本专利技术提供了一种待测衬底的检测装置，所述待测衬底表面具有第一待测点和第二待测点，所述装置包括：发射单元，所述发射单元相所述待测衬底发射特征图案对所述待测衬底执行位移测量处理，所述位移测量处理包括：本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种待测衬底的检测方法，其特征在于，所述待测衬底表面具有第一待测点和第二待测点，所述检测方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，测量所述采集单元的检测视野与待测衬底沿着所述测量方相对移动的距离，得到第一移动距离，包括：

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，根据所述第一定位图像获取第一待测点与第一特征点之间沿第一测量方向的第一位移，包括：根据所述第一定位图像获取与所述第一待测点距离最小的周期单元作为第一特征点；获取所述第一特征点到所述第一待测点之间沿第一测量方向的相对位移得到所述第一位移...

【技术特征摘要】

1.一种待测衬底的检测方法，其特征在于，所述待测衬底表面具有第一待测点和第二待测点，所述检测方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，测量所述采集单元的检测视野与待测衬底沿着所述测量方相对移动的距离，得到第一移动距离，包括：

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，根据所述第一定位图像获取第一待测点与第一特征点之间沿第一测量方向的第一位移，包括：根据所述第一定位图像获取与所述第一待测点距离最小的周期单元作为第一特征点；获取所述第一特征点到所述第一待测点之间沿第一测量方向的相对位移得到所述第一位移；

5.根据权利要求1-4任意一项所述的方法，其特征在于，通过特征图案对所述待测衬底执行多次位移测量处理；

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述预设关系为：多次位移测量处理的第一特征距离的差或和为预设值；或者，

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述特征图案为周期图案；

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，多次位移测量处理的第一特征距离和为预设值y；

9.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：李青格乐，王岩松，
申请(专利权)人：深圳镭赫技术有限公司，
类型：发明
国别省市：