本技术公开一种镀镍阳极镍饼铜杂质清除装置，涉及镍饼清洗技术领域；包括外箱，外箱内设置有内箱，外箱与内箱之间设置有输送组件，外箱的顶面设置有升降组件，升降组件固定连接有若干个伸缩组件，伸缩组件固定连接有夹紧组件，夹紧组件可拆卸连接有滚筒，滚筒与输送组件可拆卸连接，输送组件用于带动滚筒转动，升降组件用于控制滚筒的高度，伸缩组件能够使滚筒与输送组件抵接。本技术通过升降组件使滚筒处于内箱内，并与使滚筒与输送组件抵接，同时通过伸缩组件能够使滚筒与输送组件紧密抵接，再通过输送组件能够带动滚筒转动，便于清洗溶液对镍饼表面的铜杂质进行清洗；提高了清洗效率和效果。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及镍饼清洗，特别是涉及一种镀镍阳极镍饼铜杂质清除装置。
技术介绍
1、铁基引线框架镍上银工艺通常需要经过除油、活化前处理，然后镀底镍、镀底铜、加厚镀铜、镀镍、预镀银、局部镀银等工序，引线框架铜上银工艺则在预镀银前不再镀镍，即在镀铜层上直接镀银，一条引线框架电镀生产线一般有两个电镀通道，两种电镀工艺同时开启时，镀铜上银工艺的引线框架经过镀镍槽时不通电流，引线框架表面的镀铜层会有少量溶入镀镍溶液中，经过日积月累，镀镍溶液的铜被置换到镀镍阳极镍饼表面上，造成电镀镍上银工艺的镀镍层里有铜，影响镀镍层的性能；同时，镍饼上置换铜后，阳极的活性下降，通过电流溶解到镀液的速度减慢，严重时镍饼钝化，几乎不溶解，此时增加氨基磺酸镍溶液的消耗量，增加了镀镍的成本。
2、为了保持镀镍阳极镍饼表面无铜，因此，亟需一种镀镍阳极镍饼铜杂质清除装置，能够通过清洗溶液定期清除镍饼表面的铜杂质。
技术实现思路
1、本技术的目的是提供一种镀镍阳极镍饼铜杂质清除装置，以解决上述现有技术存在的问题。
>2、为实现上述目的本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种镀镍阳极镍饼铜杂质清除装置，其特征在于：包括外箱(1)，所述外箱(1)内设置有内箱(2)，所述外箱(1)与内箱(2)之间设置有输送组件，所述外箱(1)的顶面设置有升降组件，所述升降组件固定连接有若干个伸缩组件，所述伸缩组件固定连接有夹紧组件，所述夹紧组件可拆卸连接有滚筒，所述滚筒与所述输送组件可拆卸连接，所述输送组件用于带动所述滚筒转动，所述升降组件用于控制所述滚筒的高度，所述伸缩组件能够使所述滚筒与所述输送组件抵接。
2.根据权利要求1所述的镀镍阳极镍饼铜杂质清除装置，其特征在于：所述输送组件包括传送带(4)，所述传送带(4)的两端均传动连接有传动轮，两个所述传动轮...
【技术特征摘要】
1.一种镀镍阳极镍饼铜杂质清除装置，其特征在于：包括外箱(1)，所述外箱(1)内设置有内箱(2)，所述外箱(1)与内箱(2)之间设置有输送组件，所述外箱(1)的顶面设置有升降组件，所述升降组件固定连接有若干个伸缩组件，所述伸缩组件固定连接有夹紧组件，所述夹紧组件可拆卸连接有滚筒，所述滚筒与所述输送组件可拆卸连接，所述输送组件用于带动所述滚筒转动，所述升降组件用于控制所述滚筒的高度，所述伸缩组件能够使所述滚筒与所述输送组件抵接。
2.根据权利要求1所述的镀镍阳极镍饼铜杂质清除装置，其特征在于：所述输送组件包括传送带(4)，所述传送带(4)的两端均传动连接有传动轮，两个所述传动轮与所述外箱(1)的内壁转动连接，任一所述传动轮传动连接有第一电机(3)，所述第一电机(3)与所述外箱(1)的外壁固定连接，所述传送带(4)的上部伸入所述内箱(2)内且与所述滚筒可拆卸连接。
3.根据权利要求2所述的镀镍阳极镍饼铜杂质清除装置，其特征在于：所述升降组件包括对称设置在所述外箱(1)顶面两侧的支撑板(5)，所述支撑板(5)的底面与所述外箱(1)的顶面固定连接，两个所述支撑板(5)相对的一侧均开设有滑槽(6)，所述滑槽(6)内转动连接有丝杠(7)，所述丝杠(7)的一端贯穿所述支撑板(5)的顶面传动连接有第二电机(8)，所述丝杠(7)的另一端与所述外箱(1)的顶面转动连接，所述丝杠(7)螺纹连接有滑块(9)，所述滑块(9)与所述滑槽(6)滑动连接，两个所述滑块(9)之间固定连接有第一连接板(10)，所述第一连接板(10)的底面与若干个所述伸缩组件固定连接。...
【专利技术属性】
技术研发人员：张利民，韩宏亮，罗培，向富久，孙杨，
申请(专利权)人：江门市鼎翔电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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