【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及镀膜领域，特别涉及一种镀膜方法。
技术介绍
1、现有的镀膜方法在利用等离子体增强化学气相沉积(plasma enhanced chemicalvapor deposition，pecvd)法镀膜时，基材在镀膜装置中逐层卷绕和/或解卷，并且，同时在基材表面沉积镀膜原料进行镀膜。
2、然而，现有的镀膜方法镀膜效率低、均匀性差。
技术实现思路
1、本专利技术一个目的在于提供改进的镀膜方法。
2、针对以上目的，本专利技术实施例的一方面涉及一种镀膜方法，其包括：步骤s101.提供包括等离子体激发部和载送部的镀膜装置，载送部包括复数个辊；步骤s102.使基材卷绕复数个辊并首尾相接；以及步骤s103.通过复数个辊的运动带动基材相对于等离子体激发部运动以对基材镀膜。
3、一些实施例中，步骤s102包括使一层或多层基材以局部缠绕的方式卷绕复数个辊中的每一个。
4、一些实施例中，载送部包括传送件，步骤s102包括将传送件首尾相接地缠绕于复数个辊外侧，并使基材卷绕于传送件的远离复数个辊的一侧。
5、一些实施例中，载送部包括可安装复数个辊的支架，支架包括彼此连接的承载部和支撑部，复数个辊安装于承载部。
6、一些实施例中，承载部包括彼此平行的第一承载件和第二承载件，以及于第一承载件的两端沿远离第二承载件的方向延伸的第三承载件，复数个辊包括安装于第三承载件的远离第一承载件的一侧的两个辊和安装于第一承载件和第二承载件的分别靠近
7、一些实施例中，步骤s102包括使基材依次卷绕安装于第三承载件的两个辊和安装于第二承载件的侧端两个辊。
8、一些实施例中，若干辊被等离子体激发部间隔成若干组，步骤s102包括使基材依次交替卷绕各组辊中安装于第一承载件的辊和相邻安装于第二承载件的辊。
9、一些实施例中，步骤s102包括使基材依次卷绕分别属于若干组中相邻两组的、相邻安装于第二承载件的两个辊。
10、一些实施例中，支撑部包括在第一承载件与第二承载件之间竖直延伸的支撑件，步骤s103包括通过复数个辊的运动带动基材沿平行、垂直于支撑件的延伸方向的方向运动。
11、一些实施例中，载送部包括驱动部，复数个辊包括与驱动部连接的主动辊，步骤s103包括通过驱动部驱使主动辊转动、进而由主动辊带动基材循环运动。
12、一些实施例中，复数个辊包括从动辊，步骤s103包括主动辊和/或基材带动从动辊转动。
13、一些实施例中，步骤s103中，基材的彼此相反的第一表面和第二表面均可直接面对等离子体激发部产生的等离子体区。
14、一些实施例中，等离子体激发部包括电极元件，步骤s103包括通过电极元件激发镀膜原料以对基材镀膜。
15、一些实施例中，电极元件包括彼此间隔、平行延伸的第一电极和第二电极，步骤s103中，基材环绕第一电极、未环绕第二电极运动。
16、一些实施例中，步骤s103中，第一电极面对基材的第一表面，第二电极面对基材的与第一表面相反的第二表面。
17、一些实施例中，电极元件包括复数个第一电极和/或复数个第二电极，复数个第一电极和/或复数个第二电极彼此间隔、平行延伸。
18、一些实施例中，载送部包括可安装复数个辊的支架，支架包括彼此连接的承载部和支撑部，复数个辊安装于承载部，复数个第一电极位于支架内侧，复数个第二电极位于支架外侧。
19、一些实施例中，承载部包括彼此平行的第一承载件和第二承载件，以及于第一承载件的两端沿远离第二承载件的方向延伸的第三承载件，复数个辊包括安装于第三承载件的远离第一承载件的一侧的两个辊和安装于第一承载件和第二承载件的分别靠近第三承载件的一侧的若干辊。
20、一些实施例中，步骤s102包括使基材依次卷绕安装于第三承载件的两个辊和安装于第二承载件的侧端两个辊。
21、一些实施例中，若干辊被复数个第一电极间隔成若干组，步骤s102包括使基材依次交替卷绕各组辊中安装于第一承载件的辊和相邻安装于第二承载件的辊。
22、一些实施例中，步骤s102包括使基材依次卷绕分别属于若干组中相邻两组的、相邻安装于第二承载件的两个辊。
23、一些实施例中，支撑部包括在第一承载件与第二承载件之间竖直延伸的支撑件，步骤s103包括通过复数个辊的运动带动基材沿平行、垂直于支撑件的延伸方向的方向运动。
24、本专利技术实施例的技术方案可有利于镀膜效率高、镀膜均匀性好等。
25、在技术条件允许的情况下，本申请中各实施例的技术方案可以进行任意组合。
26、下文将结合附图对本申请进行进一步的描述。图中可能使用相同、类似的标号指代不同实施例中相同、类似的元件、器件、形状、构造，也可能省略不同实施例中相同、类似的元件、器件、形状、构造、特征、效果的描述以及与现有技术相同、类似的元件、器件、形状、构造、特征、效果等的描述。
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1.一种镀膜方法(10)，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述步骤S102包括使一层或多层所述基材(20)以局部缠绕的方式卷绕所述复数个辊(28)中的每一个。
3.如权利要求2所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述载送部(18)包括传送件(30)，所述步骤S102包括将所述传送件(30)首尾相接地缠绕于所述复数个辊(28)外侧，并使所述基材(20)卷绕于所述传送件(30)的远离所述复数个辊(28)的一侧。
4.如权利要求1所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述载送部(18)包括可安装所述复数个辊(28)的支架(34)，所述支架(34)包括彼此连接的承载部(54)和支撑部(56)，所述复数个辊(28)安装于所述承载部(54)。
5.如权利要求4所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述承载部(54)包括彼此平行的第一承载件(58)和第二承载件(60)，以及于所述第一承载件(58)的两端沿远离所述第二承载件(60)的方向延伸的第三承载件(62)，所述复数个辊(28)包括安装于所述第三承载
6.如权利要求5所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述步骤S102包括使所述基材(20)依次卷绕安装于所述第三承载件(62)的所述两个所述辊(28)和安装于所述第二承载件(60)的侧端两个所述辊(28)。
7.如权利要求6所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述若干所述辊(28)被所述等离子体激发部(16)间隔成若干组，所述步骤S102包括使所述基材(20)依次交替卷绕各组所述辊(28)中安装于所述第一承载件(58)的所述辊(28)和相邻安装于所述第二承载件(60)的所述辊(28)。
8.如权利要求7所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述步骤S102包括使所述基材(20)依次卷绕分别属于所述若干组中相邻两组的、相邻安装于所述第二承载件(60)的两个所述辊(28)。
9.如权利要求4所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述支撑部(56)包括在所述第一承载件(58)与所述第二承载件(60)之间竖直延伸的支撑件(64)，所述步骤S103包括通过所述复数个辊(28)的运动带动所述基材(20)沿平行、垂直于所述支撑件(64)的延伸方向(T)的方向运动。
10.如权利要求1所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述载送部(18)包括驱动部(48)，所述复数个辊(28)包括与所述驱动部(48)连接的主动辊(50)，所述步骤S103包括通过所述驱动部(48)驱使所述主动辊(50)转动、进而由所述主动辊(50)带动所述基材(20)循环运动。
11.如权利要求10所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述复数个辊(28)包括从动辊(52)，所述步骤S103包括所述主动辊(50)和/或所述基材(20)带动所述从动辊(52)转动。
12.如权利要求1所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述步骤S103中，所述基材(20)的彼此相反的第一表面(22)和第二表面(24)均可直接面对所述等离子体激发部(16)产生的等离子体区(26)。
13.如权利要求1所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述等离子体激发部(16)包括电极元件(66)，所述步骤S103包括通过所述电极元件(66)激发镀膜原料以对所述基材(20)镀膜。
14.如权利要求13所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述电极元件(66)包括彼此间隔、平行延伸的第一电极(68)和第二电极(70)，所述步骤S103中，所述基材(20)环绕所述第一电极(68)、未环绕所述第二电极(70)运动。
15.如权利要求14所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述步骤S103中，所述第一电极(68)面对所述基材(20)的第一表面(22)，所述第二电极(70)面对所述基材(20)的与所述第一表面(22)相反的第二表面(24)。
16.如权利要求14或15所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述电极元件(66)包括复数个所述第一电极(68)和/或复数个所述第二电极(70)，所述复数个所述第一电极(68)和/或所述复数个所述第二电极(70)彼此间隔、平行延伸。
17.如权利要求16所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述载送部(18)包括可安装所述复数个辊(28)的支架(34)，所述支架(34)包括...
【技术特征摘要】
1.一种镀膜方法(10)，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述步骤s102包括使一层或多层所述基材(20)以局部缠绕的方式卷绕所述复数个辊(28)中的每一个。
3.如权利要求2所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述载送部(18)包括传送件(30)，所述步骤s102包括将所述传送件(30)首尾相接地缠绕于所述复数个辊(28)外侧，并使所述基材(20)卷绕于所述传送件(30)的远离所述复数个辊(28)的一侧。
4.如权利要求1所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述载送部(18)包括可安装所述复数个辊(28)的支架(34)，所述支架(34)包括彼此连接的承载部(54)和支撑部(56)，所述复数个辊(28)安装于所述承载部(54)。
5.如权利要求4所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述承载部(54)包括彼此平行的第一承载件(58)和第二承载件(60)，以及于所述第一承载件(58)的两端沿远离所述第二承载件(60)的方向延伸的第三承载件(62)，所述复数个辊(28)包括安装于所述第三承载件(62)的远离所述第一承载件(58)的一侧的两个所述辊(28)和安装于所述第一承载件(58)和所述第二承载件(60)的分别靠近所述第三承载件(62)的一侧的若干所述辊(28)。
6.如权利要求5所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述步骤s102包括使所述基材(20)依次卷绕安装于所述第三承载件(62)的所述两个所述辊(28)和安装于所述第二承载件(60)的侧端两个所述辊(28)。
7.如权利要求6所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述若干所述辊(28)被所述等离子体激发部(16)间隔成若干组，所述步骤s102包括使所述基材(20)依次交替卷绕各组所述辊(28)中安装于所述第一承载件(58)的所述辊(28)和相邻安装于所述第二承载件(60)的所述辊(28)。
8.如权利要求7所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述步骤s102包括使所述基材(20)依次卷绕分别属于所述若干组中相邻两组的、相邻安装于所述第二承载件(60)的两个所述辊(28)。
9.如权利要求4所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述支撑部(56)包括在所述第一承载件(58)与所述第二承载件(60)之间竖直延伸的支撑件(64)，所述步骤s103包括通过所述复数个辊(28)的运动带动所述基材(20)沿平行、垂直于所述支撑件(64)的延伸方向(t)的方向运动。
10.如权利要求1所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述载送部(18)包括驱动部(48)，所述复数个辊(28)包括与所述驱动部(48)连接的主动辊(50)，所述步骤s103包括通过所述驱动部(48)驱使所述主动辊(50)转动、进而由所述主动辊(50)带动所述基材(20)循环运动。
11.如权利要求10所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述复数个辊(28)包括从动辊(52)，所述步骤s103包括所述主动辊(50)和/或所述基材(20)带动所述从动辊(52)转动。
12.如权利要求1所述的镀膜方法(100)，其特征在于，所述步骤s103中，所述基材(20)的彼此相反的第一表面(22)和第二表面(24)均可直...
【专利技术属性】
技术研发人员：宗坚，
申请(专利权)人：江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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