【技术实现步骤摘要】
本技术涉及蚀刻设备，具体是指一种汽化蚀刻装置。
技术介绍
1、蚀刻是使用化学反应或物理撞击作用而移除部分材料的技术。蚀刻技术可以分为湿法蚀刻和干法蚀刻两类。
2、最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
3、目前常用的湿法蚀刻模式主要有喷淋式、浸泡式及涂布式，对于喷淋式的湿蚀刻设备，通常采用喷淋管将蚀刻液喷淋在蚀刻板上，如申请号cn201710262995.2一种湿法蚀刻设备及湿法蚀刻方法。本专利技术的湿法蚀刻设备包括用于传送基板的传送装置、及多个设于所述传送装置上方用于向基板表面喷淋蚀刻液的喷淋管；所述传送装置的承载面划分为多个区域，所述多个喷淋管在承载面多个区域的上方对应划分为与承载面之间高度不相同的多个组。其缺陷在于，现有技术中的喷淋管通常采用普通的方式，如泵取蚀刻液，通过管路末端的喷头形成喷淋的效果，但这种喷头喷出的蚀刻液水滴颗粒度较大，分布在蚀刻板上后无法形成均匀覆盖的效果。
4、鉴于以上，有必要提出一种汽化蚀刻装置来解决上述问题。
技术实现思路
1、本技术的目的是为了解决上述技术问题，而提供一种汽化蚀刻装置。
2、为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：一种汽化蚀刻装置，包括操作箱体、蚀刻液储槽，还包括雾化槽，
3、进一步的，所述供气管还设有分支管，所述分支管与雾化槽呈并联形式设置，分支管连接至操作箱体内，所述分支管上设有文丘里管，所述雾化出口管连接至文丘里管的窄喉部侧壁。
4、进一步的，所述锥形喷管内部设有喷气腔，所述喷气腔由下向上呈直径逐渐缩短的锥形腔，所述喷气腔上端贯穿锥形喷管顶壁设有细径管。
5、进一步的，所述锥形罩的内壁贴合在锥形喷管外壁设置，所述锥形罩在锥形内壁上沿径向设有多个吸液管形成的供液间隙，所述吸液管为锥形罩内壁上内凹形成的凹型槽。
6、进一步的，所述锥形罩顶端的开口与细径管位置相对应设置，所述开口的上端设有撞击针，所述撞击针下端垂直朝向开口设置，所述撞击针上部两侧连接设有连接翼，连接翼的下端连接在锥形罩的外壁上端。
7、进一步的，所述锥形罩的下缘环绕设有多个支撑脚，所述支撑脚将锥形罩顶起使锥形罩下缘与雾化槽底面形成进液口，使进液口与吸液管下端相连通；所述锥形罩通过支撑脚与雾化槽底部固定连接。
8、进一步的，所述蚀刻液储槽通过供液管与雾化槽相连接，供液管上设有控制雾化槽内液位高度的液位控制阀。
9、进一步的，所述分支管的前端设有气量控制阀。
10、与现有技术相比，本技术的有益效果是：本申请汽化蚀刻装置，利用气体穿过锥形喷管形成的负压吸引效应，将蚀刻液通过吸液管吸引至开口处，并与高速的气流相撞击从而形成颗粒度均匀细密的汽化的蚀刻液，再通过分支管上的文丘里管吸引并喷射至操作箱体内放置的蚀刻板表面上，从而可以做到将蚀刻液均匀覆盖在蚀刻板上的效果，并且蚀刻液颗粒度细腻均匀，使用效果好。
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1.一种汽化蚀刻装置，包括操作箱体(1)、蚀刻液储槽(2)，其特征在于，还包括雾化槽(3)，所述雾化槽(3)与蚀刻液储槽(2)相连接，所述雾化槽(3)内设有多组锥形雾化结构(4)，所述雾化槽(3)底部设有供气管(5)，所述锥形雾化结构(4)包括锥形喷管(6)、锥形罩(7)，所述锥形喷管(6)固定设置在雾化槽(3)底部，供气管(5)与锥形喷管(6)底部相连通，所述锥形罩(7)罩设在锥形喷管(6)上，锥形罩(7)与锥形喷管(6)之间的圆锥侧壁表面形成供液间隙(8)，锥形罩(7)上端设有与锥形喷管(6)上端相对应的开口(9)；所述雾化槽(3)上端呈锥形，雾化槽(3)顶部连接设有雾化出口管(10)，雾化出口管(10)连接至操作箱体(1)内。
2.根据权利要求1所述的一种汽化蚀刻装置，其特征在于，所述供气管(5)还设有分支管(11)，所述分支管(11)与雾化槽(3)呈并联形式设置，分支管(11)连接至操作箱体(1)内，所述分支管(11)上设有文丘里管(12)，所述雾化出口管(10)连接至文丘里管(12)的窄喉部(13)侧壁。
3.根据权利要求1所述的一种汽化蚀刻装置
4.根据权利要求3所述的一种汽化蚀刻装置，其特征在于，所述锥形罩(7)的内壁贴合在锥形喷管(6)外壁设置，所述锥形罩(7)在锥形内壁上沿径向设有多个吸液管(16)形成的供液间隙(8)，所述吸液管(16)为锥形罩(7)内壁上内凹形成的凹型槽。
5.根据权利要求4所述的一种汽化蚀刻装置，其特征在于，所述锥形罩(7)顶端的开口(9)与细径管(15)位置相对应设置，所述开口(9)的上端设有撞击针(17)，所述撞击针(17)下端垂直朝向开口(9)设置，所述撞击针(17)上部两侧连接设有连接翼(18)，连接翼(18)的下端连接在锥形罩(7)的外壁上端。
6.根据权利要求5所述的一种汽化蚀刻装置，其特征在于，所述锥形罩(7)的下缘环绕设有多个支撑脚(19)，所述支撑脚(19)将锥形罩(7)顶起使锥形罩(7)下缘与雾化槽(3)底面形成进液口(23)，使进液口(23)与吸液管(16)下端相连通；所述锥形罩(7)通过支撑脚(19)与雾化槽(3)底部固定连接。
7.根据权利要求1所述的一种汽化蚀刻装置，其特征在于，所述蚀刻液储槽(2)通过供液管(20)与雾化槽(3)相连接，供液管(20)上设有控制雾化槽(3)内液位高度的液位控制阀(21)。
8.根据权利要求2所述的一种汽化蚀刻装置，其特征在于，所述分支管(11)的前端设有气量控制阀(22)。
...【技术特征摘要】
1.一种汽化蚀刻装置，包括操作箱体(1)、蚀刻液储槽(2)，其特征在于，还包括雾化槽(3)，所述雾化槽(3)与蚀刻液储槽(2)相连接，所述雾化槽(3)内设有多组锥形雾化结构(4)，所述雾化槽(3)底部设有供气管(5)，所述锥形雾化结构(4)包括锥形喷管(6)、锥形罩(7)，所述锥形喷管(6)固定设置在雾化槽(3)底部，供气管(5)与锥形喷管(6)底部相连通，所述锥形罩(7)罩设在锥形喷管(6)上，锥形罩(7)与锥形喷管(6)之间的圆锥侧壁表面形成供液间隙(8)，锥形罩(7)上端设有与锥形喷管(6)上端相对应的开口(9)；所述雾化槽(3)上端呈锥形，雾化槽(3)顶部连接设有雾化出口管(10)，雾化出口管(10)连接至操作箱体(1)内。
2.根据权利要求1所述的一种汽化蚀刻装置，其特征在于，所述供气管(5)还设有分支管(11)，所述分支管(11)与雾化槽(3)呈并联形式设置，分支管(11)连接至操作箱体(1)内，所述分支管(11)上设有文丘里管(12)，所述雾化出口管(10)连接至文丘里管(12)的窄喉部(13)侧壁。
3.根据权利要求1所述的一种汽化蚀刻装置，其特征在于，所述锥形喷管(6)内部设有喷气腔(14)，所述喷气腔(14)由下向上呈直径逐渐缩短的锥形腔，所述喷气腔(14)上端贯穿锥形喷管(6)顶壁设有细径管(15)。
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【专利技术属性】
技术研发人员：顾洪卫，刘海斌，卢静华，吴宏程，浦陈龙，
申请(专利权)人：江阴江化微电子材料股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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