【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于校正粒子光学(particle-optical)装置中的畸 变的方法，该粒子光学装置包括 粒子源，用于产生粒子束， 物平面，其上可以放置所要成像的物体， 聚光系统(condenser system),用于利用粒子束照射物体， 投影系统，用于通过将透过物体的粒子成像到像平面上来形成 物体的放大图像，该投影系统引起畸变，以及 检测器，用于检测该放大图像， 所述方法包括 形成畸变被至少部分校正的图像。 本专利技术还涉及一种确定畸变的方法。
技术介绍
F. Hue等人在Microsc. Microanal. 11 (supplement 2), 2005， pages 552-553， (DOI:10.1017/S143192760551081X)中发表的Calibration of projector lens distortions for quantitative high-resolution TEM，，中公开了 这种方法，并且该方法用于校正由透射电子显微镜(TEM)的投影系 统引起的畸变。在TEM中，利用电子束照射物体(也称作样本...
【技术保护点】
一种用于校正粒子光学装置的畸变的方法，该粒子光学装置包括： .粒子源（１０１），用于生成粒子束， .物平面，其上可放置将要成像的物体（１１１）， .聚光系统（１０４），用于利用粒子束照射物平面， .投影系统（１０６），用于通过将透过 物体的粒子成像到像平面上来形成物平面的放大图像，该投影系统引起畸变，以及 .检测器（１５０），用于检测该放大图像， 该方法包括： .形成畸变被至少部分校正的图像， 其特征在于 .该检测器包括多极（１５２），并且 .按照至少部分校 正放大图像中的畸变的方式激励多极。
【技术特征摘要】
EP 2008-9-22 08164799.21.一种用于校正粒子光学装置的畸变的方法，该粒子光学装置包括·粒子源(101)，用于生成粒子束，·物平面，其上可放置将要成像的物体(111)，·聚光系统(104)，用于利用粒子束照射物平面，·投影系统(106)，用于通过将透过物体的粒子成像到像平面上来形成物平面的放大图像，该投影系统引起畸变，以及·检测器(150)，用于检测该放大图像，该方法包括·形成畸变被至少部分校正的图像，其特征在于·该检测器包括多极(152)，并且·按照至少部分校正放大图像中的畸变的方式激励多极。2. 根据权利要求1所述的方法，其中在形成物体的放大图像之 前通过以下步骤确定冲殳影系统的畸变 生成图案， 形成所述图案的放大图像， 测量所引起的畸变，以及激励多极以至少部分校正畸变。3. 根据权利要求2所述的方法，其中通过利用粒子束照射具有 已知图案透明区域的光阑(200)来生成图案。4. 根据权利要求2所述的方法，其中通过以已知扫描模式扫描 粒子束来生成图案。5. 根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员：AF德琼，U卢肯，PC蒂梅杰，HN斯林杰兰，
申请(专利权)人：FEI公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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