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本发明涉及用于校正粒子光学装置中的畸变的方法。本发明涉及一种用于校正由ＴＥＭ的投影系统（１０６）引起的畸变的方法。本领域技术人员知道，畸变可能限制ＴＥＭ的分辨率，特别是当利用Ｘ射线断层摄影术对特征进行３Ｄ重建时。而且，当在ＴＥＭ中利用应变分...
该专利属于ＦＥＩ公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＦＥＩ公司授权不得商用。

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