【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种利用感光性组合物制备发光显示装置像素界定层的方法。
技术介绍
1、平板显示装置广泛应用液晶显示装置(lcd:liquid crystal display device)、有机发光显示装置(oled:organic light emitting display device)等。其中，有机发光显示装置具有功耗低、响应速度快、色彩再现率高、亮度高、视野角度宽大等优点。
2、所述有机发光显示装置采用偏光膜的目的在于，遮蔽入射外界光后，从面板反射的光。其弊端在于：由于弯曲特性的缺失，不适用于将所述偏光膜应用在柔性设备时。
3、为了解决上述问题，以往建议采用滤色片和黑色矩阵以及上部基板上形成遮光无机膜的方法等。但，该方法在获得所愿水平的防止反射效果方面，具有局限性，且没有具体提供代替偏光膜的方法。
4、另外，着色遮光层，特别是黑色遮光层用于在液晶显示装置阻止红色、绿色、蓝色滤色片之间的色干扰，以提高影像品质。最近，为了使有机发光显示装置同样达到相同的目的、以低反射率提高影像可见性，正在研究所述着色遮光层的使用问题。
5、制造所述着色图案时，将多种有机颜料以及炭黑和无机颜料用作着色剂，其等分散的颜料分散液与其他组合物混合而形成图案。
6、这种图案是光学密度(optical density,od)越高，可见性越优异，这便于遮挡外部投射的光或下部发射的光，采用如此形成的像素制备有机发光显示器时，可以实现更清晰的颜色。但，实际上需要研究如何有效降低对于可见性影响最大的5
技术实现思路
1、所要解决的课题
2、本专利技术的目的在于，提供一种降低对于可见性影响最大的550nm波长附近反射率，以提高可见性的感光性树脂组合物。
3、并且，本专利技术的目的在于，利用所述感光性树脂组合物制备的遮光层以及包括所述遮光层的显示装置。
4、课题解决方案
5、根据本专利技术，像素界定层制备方法包括：感光性组合物的涂布及涂层，该感光性组合物包含颜料平均粒度大小为100nm以下的着色剂；预烘烤；曝光；显影；以及后烘处理步骤，使实施后烘处理步骤后，光学密度(optical density,od)为0.8至1.5/μm以下，优选地，为0.83至1.4/μm以下，进一步优选地，为0.9至1.3/μm以下；反射率超过0.01％且低于6.5％，优选地，超过0.01％且6.3％以下。
6、进一步优选地，所述后烘处理步骤的烤箱温度为250至270℃。
7、进一步优选地，所述后烘处理步骤的实施时间为60分钟至120分钟。
8、优选地，所述感光性组合物包含着色剂。
9、优选地，感光性组合物的总量中，所述着色剂的含量为17至35重量％。
10、优选地，所述着色剂包含无机染料、有机染料、无机颜料及有机颜料中一种以上。
11、优选地，所述着色剂利用分散剂；或水溶性无机盐及润湿剂；进行预处理。
12、优选地，所述感光性组合物包含光刻用树脂，该光刻用树脂包含丙烯酸系粘结剂树脂、cardo系粘结剂树脂或其等的组合。
13、优选地，所述丙烯酸系粘结剂树脂的重量平均分子量为3,000g/mol至150,000g/mol。
14、优选地，所述cardo系粘结剂树脂包括以下化学式1表示的重复结构：
15、<化学式1>
16、
17、所述化学式1中，
18、1)r1及r2相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；c6～c30的芳基(aryl group)；包含o、n、s、si及p中至少一个杂原子(hetero atom)的c2～c30的杂环基(heterocyclylgroup)；c6～c30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；c1～c20的烷基(alkylgroup)；c2～c20的烯基(alkenyl group)；c2～c20的炔基(alkinyl group)；c1～c20的烃氧基(alkoxy group)；c6～c30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或c1～c20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
19、2)r1及r2可以在相邻的基之间形成环，
20、3)m或n相互独立地为0至4的整数，
21、4)a1及a2相互独立地为以下化学式2或化学式3，
22、<化学式2>
23、
24、<化学式3>
25、
26、所述化学式2及化学式3中，
27、4-1)*表示相连部位，
28、4-2)r3～r6相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；c6～c30的芳基(aryl group)；包含o、n、s、si及p中至少一个杂原子(hetero atom)的c2～c30的杂环基(heterocyclylgroup)；c6～c30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；c1～c20的烷基(alkylgroup)；c2～c20的烯基(alkenyl group)；c2～c20的炔基(alkinyl group)；c1～c20的烃氧基(alkoxy group)；c6～c30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或c1～c20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
29、4-3)r3～r6可以在相邻的基之间形成环，
30、4-4)y1及y2相互独立地为以下化学式化学式6或化学式7，
31、<化学式6>
32、
33、<化学式7>
34、
35、所述化学式6及化学式7中，
36、4-4-1)*表示键合位置，
37、4-4-2)r9是氢或甲酯；
38、4-4-3)r10～r13相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；c6～c30的芳基(arylgroup)；包含o、n、s、si及p中至少一个杂原子(hetero atom)的c2～c30的杂环基(heterocyclyl group)；c6～c30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；c1～c20的烷基(alkyl group)；c2～c20的烯基(alkenyl group)；c2～c20的炔基(alkinyl group)；c1～c20的烃氧基(alkoxy group)；c6～c30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种像素界定层制备方法，其特征在于：
2.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：实施所述后烘处理后，涂膜的反射率超过0.01％且6.3％以下。
3.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：实施所述后烘处理后，涂膜的光学密度为0.83/μm至1.4/μm。
4.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：实施所述后烘处理后，涂膜的光学密度为0.9/μm至1.3/μm。
5.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述后烘处理步骤的烤箱温度为250至270℃。
6.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述后烘处理步骤的实施时间为60分钟至120分钟。
7.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述感光性组合物包含着色剂。
8.根据权利要求7所述的像素界定层制备方法，其特征在于：感光性组合物的总量中，所述着色剂的含量为17至35重量％。
9.根据权利要求7所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述着色剂包含无机染
10.根据权利要求7所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述着色剂利用分散剂；或水溶性无机盐及润湿剂；进行预处理。
11.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述感光性组合物包含光刻用树脂，该光刻用树脂包含丙烯酸系粘结剂树脂、cardo系粘结剂树脂或其等的组合。
12.根据权利要求11所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述丙烯酸系粘结剂树脂的重量平均分子量为3,000g/mol至150,000g/mol。
13.根据权利要求11所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述cardo系粘结剂树脂包括以下化学式1表示的重复结构：
14.根据权利要求11所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述cardo系树脂的重量平均分子量为1,000至100,000g/mol。
15.根据权利要求11所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述感光性组合物的总量中，所述cardo系树脂的含量为1至30重量％。
16.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述感光性组合物包含：在其总量中含量为1至40重量％的反应性不饱和化合物。
17.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述感光性组合物包含：在其总量中含量为0.01至10重量％的光引发剂。
18.一种根据权利要求1制备而成的像素界定层。
19.一种包括权利要求18所述像素界定层的有机发光显示装置。
20.一种电子装置，其特征在于：包括权利要求19所述显示装置以及用于驱动所述显示装置的控制部。
...【技术特征摘要】
1.一种像素界定层制备方法，其特征在于：
2.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：实施所述后烘处理后，涂膜的反射率超过0.01％且6.3％以下。
3.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：实施所述后烘处理后，涂膜的光学密度为0.83/μm至1.4/μm。
4.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：实施所述后烘处理后，涂膜的光学密度为0.9/μm至1.3/μm。
5.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述后烘处理步骤的烤箱温度为250至270℃。
6.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述后烘处理步骤的实施时间为60分钟至120分钟。
7.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述感光性组合物包含着色剂。
8.根据权利要求7所述的像素界定层制备方法，其特征在于：感光性组合物的总量中，所述着色剂的含量为17至35重量％。
9.根据权利要求7所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述着色剂包含无机染料、有机染料、无机颜料及有机颜料中一种以上。
10.根据权利要求7所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述着色剂利用分散剂；或水溶性无机盐及润湿剂；进行预处理。
11.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：崔慧贞，林宰贤，李昌珉，裵俊，李连洙，文成允，金庆洙，
申请(专利权)人：德山新勒克斯有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。