像素界定层制备方法技术

本发明专利技术涉及一种可以形成像素界定层图案的组合物及方法，该组合物及方法在电极基板上实现光学密度高的着色图案，从而使颜色变清晰，还使显示器提升可靠性，延长寿命。即，实施后烘处理后，面板的光学密度满足0.80至1.5/μm要求，从而提高可见性，改善对比度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种利用感光性组合物制备发光显示装置像素界定层的方法。

技术介绍

1、平板显示装置广泛应用液晶显示装置(lcd:liquid crystal display device)、有机发光显示装置(oled:organic light emitting display device)等。其中，有机发光显示装置具有功耗低、响应速度快、色彩再现率高、亮度高、视野角度宽大等优点。

2、所述有机发光显示装置采用偏光膜的目的在于，遮蔽入射外界光后，从面板反射的光。其弊端在于：由于弯曲特性的缺失，不适用于将所述偏光膜应用在柔性设备时。

3、为了解决上述问题，以往建议采用滤色片和黑色矩阵以及上部基板上形成遮光无机膜的方法等。但，该方法在获得所愿水平的防止反射效果方面，具有局限性，且没有具体提供代替偏光膜的方法。

4、另外，着色遮光层，特别是黑色遮光层用于在液晶显示装置阻止红色、绿色、蓝色滤色片之间的色干扰，以提高影像品质。最近，为了使有机发光显示装置同样达到相同的目的、以低反射率提高影像可见性，正在研究所述着色遮光层的使用问题本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种像素界定层制备方法，其特征在于：

2.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：实施所述后烘处理后，涂膜的反射率超过0.01％且6.3％以下。

3.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：实施所述后烘处理后，涂膜的光学密度为0.83/μm至1.4/μm。

4.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：实施所述后烘处理后，涂膜的光学密度为0.9/μm至1.3/μm。

5.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述后烘处理步骤的烤箱温度为250至270℃。

6.根据权利要求1所述...

【技术特征摘要】

1.一种像素界定层制备方法，其特征在于：

2.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：实施所述后烘处理后，涂膜的反射率超过0.01％且6.3％以下。

3.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：实施所述后烘处理后，涂膜的光学密度为0.83/μm至1.4/μm。

4.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：实施所述后烘处理后，涂膜的光学密度为0.9/μm至1.3/μm。

5.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述后烘处理步骤的烤箱温度为250至270℃。

6.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述后烘处理步骤的实施时间为60分钟至120分钟。

7.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述感光性组合物包含着色剂。

8.根据权利要求7所述的像素界定层制备方法，其特征在于：感光性组合物的总量中，所述着色剂的含量为17至35重量％。

9.根据权利要求7所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述着色剂包含无机染料、有机染料、无机颜料及有机颜料中一种以上。

10.根据权利要求7所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述着色剂利用分散剂；或水溶性无机盐及润湿剂；进行预处理。

11.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔慧贞，林宰贤，李昌珉，裵俊，李连洙，文成允，金庆洙，
申请(专利权)人：德山新勒克斯有限公司，
类型：发明
国别省市：