一种NiZn铁氧体薄膜磁性能及取向生长的调控方法技术

一种NiZn铁氧体薄膜磁性能及取向生长的调控方法，属于磁性薄膜材料技术领域。本发明专利技术使用旋转喷涂设备，基于吸附‑旋转‑加热‑成膜的制备顺序，先将喷嘴接入去离子水溶液，经过高速旋转的液滴在基板表面形成均匀的水膜，待温度稳定后接入还原剂溶液和氧化剂溶液，通过水解反应促进薄膜的成核及生长，最终制得NiZn铁氧体薄膜。本发明专利技术通过引入种子层降低薄膜与衬底之间的应力，诱导薄膜生长调控晶体的微观形貌，不仅使制得的薄膜具有更好的磁性能，而且得到了(222)和(511)取向生长的薄膜，提高了薄膜的均匀性。同时，通过控制种子层的厚度，控制晶面沉积速率，调控薄膜生长取向，优化薄膜生长过程，提高晶粒的均匀性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于磁性薄膜材料，具体涉及一种种子层诱导nizn铁氧体薄膜磁性能及取向生长的调控方法。

技术介绍

1、随着近年来通讯设备的不断升级，各类电子设备对高频化、小型化和集成化的需求愈来愈高，而和电容、电阻一起被称作电子学三大基本无源器件的电感，需要能够适应不断变化的电子领域要求，并为电子设备的性能提升和创新打下基础，因此薄膜电感便成为元器件发展的重点方向。如在电源管理系统中，用于dc-dc控制器、开关电源、降压/升压变换器等电路中，帮助稳定电源的输出、降低噪声、滤除高频干扰等。传统金属薄膜因其电阻率过低，在高频时涡流损耗严重，因此难以应用于mhz乃至ghz频段，而尖晶石铁氧体薄膜不仅涡流损耗小，且采用旋转喷涂法能够在低温下与半导体工艺兼容，因此在5g新时代的大背景下有极大的应用潜力。

2、目前旋转喷涂技术可在多种类型的基板上低温晶化成膜，且操作简单，成膜效率高，能够实现片上系统的集成化。m.abe等人(abe masanori,and yutaka tamaura."ferrite-plating in aqueous solution:a本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种NiZn铁氧体薄膜磁性能及取向生长的调控方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的NiZn铁氧体薄膜磁性能及取向生长的调控方法，其特征在于，步骤4中，先将喷嘴接入去离子水形成水膜，待基板温度稳定后，再将喷嘴接入种子层的氧化剂溶液和种子层的还原剂溶液，在玻璃基板上制备种子层。

【技术特征摘要】

1.一种nizn铁氧体薄膜磁性能及取向生长的调控方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的nizn铁氧体薄膜磁性能及取向生长的调...

【专利技术属性】
技术研发人员：余忠，陈婧莎，宋兴连，孙科，廖文举，邬传健，李启帆，蒋晓娜，兰中文，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：