【技术实现步骤摘要】
专利技术属于微波等离子体法化学气相沉积,具体涉及一种tm多模微波等离子体化学气相沉积装置。
技术介绍
0、技术背景
1、微波等离子体化学气相沉积(microwave plasma chemical vapor deposition,mpcvd)法制备的金刚石膜具有优异的光学、电学、力学和热学性能,使其在传统和新兴行业中都具有广泛的应用前景。根据使用微波源的频率,可以将mpcvd装置分为915mhz和2.45ghz装置。目前2.45ghz装置制备的多晶金刚石膜典型尺寸为难以达到大尺寸窗口、散热器的应用要求。同时,915mhz装置制备的多晶金刚石薄膜的尺寸已达到能够满足大尺寸热沉、红外和微波窗口等应用的要求。然而,915mhz装置造价昂贵,设备成本是同类型2.45ghz装置的10倍以上,这严重限制了大尺寸金刚石膜在上述领域中的大规模应用。
2、另一方面,为了发挥金刚石在紫外探测器、辐照探测器和场效应晶体管等关键领域的应用优势,需要英寸级大尺寸单晶金刚石。异质外延生长是一种制备高质量大尺寸单晶金刚石的有效技术。在异质外
...【技术保护点】
1.一种TM多模微波等离子体化学气相沉积装置,包括2.45GHz微波电源、矩形波导、三销钉调配器、短路活塞、同轴线模式转换器、环形石英窗、非圆柱形微波谐振腔、测温窗口、观察窗口、进气口、排气口、冷却水口、沉积台、可升降式衬底台调谐结构、偏压电极,其特征在于:
2.如权利要求1所述的TM多模微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述的非圆柱形微波谐振腔为不锈钢材质,由两个不同直径的圆柱体构成;上部圆柱直径较小,用于在微波谐振腔产生TM01模;下部圆柱直径较大,用于在微波谐振腔产生TM02模;两个圆柱的直径比用以满足产生多种谐振模式的要求;TM01/TM0
...【技术特征摘要】
1.一种tm多模微波等离子体化学气相沉积装置,包括2.45ghz微波电源、矩形波导、三销钉调配器、短路活塞、同轴线模式转换器、环形石英窗、非圆柱形微波谐振腔、测温窗口、观察窗口、进气口、排气口、冷却水口、沉积台、可升降式衬底台调谐结构、偏压电极,其特征在于:
2.如权利要求1所述的tm多模微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述的非圆柱形微波谐振腔为不锈钢材质,由两个不同直径的圆柱体构成;上部圆柱直径较小,用于在微波谐振腔产生tm01模;下部圆柱直径较大,用于在微波谐振腔产生tm02模;两个圆柱的直径比用以满足产生多种谐振模式的要求;tm01/tm02多模混合不仅可以增强微波电场和提升等离子体密度,而且可使等离子体在大尺寸衬底表面上方分布更加均匀。
3.如权利要求1所述的tm多模微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述的非圆柱形微波谐振腔上方设有4个进气口,在沉积台径向中心位置沿轴向方向设有6个排气口,保证金刚石生长过程中反应气体在腔室内分布的均匀性。
4.如权利要求1所述的tm多模微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述的非圆柱形微波谐振腔上方中间处设有1个钨制偏压电极,用于在异质外延单晶金刚石生长过程中提供偏压电场,增强金刚石形核。
5.如权利要求1所述的tm多模微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述的非圆柱形微波谐振腔为不锈钢材质,通过同轴线模式转换器与矩形波导相连。
6.如权利要求1所述的tm多模微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述的环形石英窗安置于沉积台下方,远离等离子体区域,避免了等离子对石英介质窗口的刻蚀。
7.如权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:李成明,杨志亮,郭之健,刘宇晨,魏俊俊,陈良贤,刘金龙,张建军,欧阳晓平,
申请(专利权)人:北京科技大学,
类型:发明
国别省市:
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