【技术实现步骤摘要】
本技术涉及水下清洗的,尤其涉及一种射流结构。
技术介绍
1、水下设备长时间处于水下工作环境下,容易遭受腐蚀以及水下生物的粘附,导致水下设备的表面出现污染物,因此可通过水下清洗设备的冲洗组件用于洗刷此类污染物。
2、在一些相关的技术中,水下设备的射流结构固定设置于水下设备的底部,此类射流结构由于为固定设置,一般用于清洗直面状的清洗面,若曲面状的清洗面具有多处污染物时,则难以针对清洗曲面状的清洗面进行清洗,无法满足清洗要求。
技术实现思路
1、为了克服现有技术方案存在有难以针对清洗曲面状的清洗面进行清洗的技术问题,本技术实施例提供了一种射流结构。
2、本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:
3、一种射流结构,所述射流结构包括:
4、基座,所述基座可拆卸设置于水下清洗装置上,所述基座的底部设置有连接部,所述连接部上形成有弧形槽;
5、转动射流器,所述转动射流器与所述基座转动连接,所述弧形槽沿所述转动射流器的转动方向延伸;
...
【技术保护点】
1.一种射流结构,其特征在于,所述射流结构包括:
2.根据权利要求1所述的一种射流结构,其特征在于,所述安装座包括两块间隔设置的侧板,所述连接部的两侧分别与两块所述侧板相抵接,用于防止所述转动射流器晃动。
3.根据权利要求1所述的一种射流结构,其特征在于,所述限位件为插销。
4.根据权利要求3所述的一种射流结构,其特征在于,所述插销的外侧壁套设有挡圈。
5.根据权利要求1所述的一种射流结构,其特征在于,所述转动射流器的顶部设置有与所述基座转动连接的支撑座。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的一种射流结构,其
...【技术特征摘要】
1.一种射流结构,其特征在于,所述射流结构包括:
2.根据权利要求1所述的一种射流结构,其特征在于,所述安装座包括两块间隔设置的侧板,所述连接部的两侧分别与两块所述侧板相抵接,用于防止所述转动射流器晃动。
3.根据权利要求1所述的一种射流结构,其特征在于,所述限位件为插销。
4.根据权利要求3所述的一种射流结构,其特征在于,所述插销的外侧壁套设有挡圈。
5.根据权利要求1所述的一种射流结构,其特征在于,所述转动射流器的顶部设置有与所述基座转动连接的支撑座。
6.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘航君,李昶兴,
申请(专利权)人:广东深蓝水下特种设备科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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