【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体光电子,更为具体地说,涉及一种发光二极管及其制作方法。
技术介绍
1、发光二极管(light-emitting diode,led)是一种半导体发光器件,其通过电子空穴发生辐射复合释放光子的原理实现发光。发光二极管具有体积小、能耗低、寿命长、环保等一系列传统光源不具备的优点。近年来,发光二极管在白光照明、户外显示、屏幕背光等领域的应用越来越广泛。现有的发光二极管在制备过程中容易形成位错缺陷,不仅对发光二极管的性能造成影响,还降低了发光二极管的制作良率。
技术实现思路
1、有鉴于此,本专利技术提供了一种发光二极管及其制作方法,有效解决现有技术存在的技术问题,降低了发光二极管在制作过程中形成位错缺陷的几率,提高了发光二极管的性能,且提高了发光二极管的制作良率。
2、为实现上述目的,本专利技术提供的技术方案如下:
3、一种发光二极管的制作方法,包括:
4、提供一图形化衬底,所述图形化衬底的生长面包括多个凸起;
5、在所述生长面一
...【技术保护点】
1.一种发光二极管的制作方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,在所述生长面一侧形成第一非掺杂半导体层,所述第一非掺杂半导体层至少裸露所述凸起的顶部,包括:
3.根据权利要求2所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,采用光刻工艺对所述第一非掺杂半导体材料层进行刻蚀,形成至少裸露所述凸起的顶部的第一非掺杂半导体层,包括:
4.根据权利要求2所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,在所述生长面一侧形成第一非掺杂半导体材料层,包括:
5.根据权利要求1所述的发光二极管的制作方法,其特
...【技术特征摘要】
1.一种发光二极管的制作方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,在所述生长面一侧形成第一非掺杂半导体层,所述第一非掺杂半导体层至少裸露所述凸起的顶部,包括:
3.根据权利要求2所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,采用光刻工艺对所述第一非掺杂半导体材料层进行刻蚀,形成至少裸露所述凸起的顶部的第一非掺杂半导体层,包括:
4.根据权利要求2所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,在所述生长面一侧形成第一非掺杂半导体材料层,包括:
5.根据权利要求1所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,在提供所述图形化衬底之后,且在所述生长面一侧形成第一非掺杂半导体层之前,还包括:<...
【专利技术属性】
技术研发人员:滕龙,霍丽艳,章兴洋,吴洪浩,翁聪,刘兆,
申请(专利权)人:江西乾照光电有限公司,
类型:发明
国别省市:
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