一种发光二极管及其制作方法技术

技术编号:41337008 阅读:26 留言:0更新日期:2024-05-20 09:56
本发明专利技术提供了一种发光二极管及其制作方法,由于第二非掺杂半导体层中形成有空心柱,在第二非掺杂半导体层上生长后续结构层时,由空心柱来释放生长过程中产生的应力,降低了发光二极管在制作过程中形成位错缺陷的几率,减小了在第一方向上的位错缺陷的密度,进而,改善了由于位错缺陷而出现的漏电通道和非辐射复合中心的问题,提高了发光二极管的性能,且提高了发光二极管的制作良率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体光电子,更为具体地说,涉及一种发光二极管及其制作方法


技术介绍

1、发光二极管(light-emitting diode,led)是一种半导体发光器件,其通过电子空穴发生辐射复合释放光子的原理实现发光。发光二极管具有体积小、能耗低、寿命长、环保等一系列传统光源不具备的优点。近年来,发光二极管在白光照明、户外显示、屏幕背光等领域的应用越来越广泛。现有的发光二极管在制备过程中容易形成位错缺陷,不仅对发光二极管的性能造成影响,还降低了发光二极管的制作良率。


技术实现思路

1、有鉴于此,本专利技术提供了一种发光二极管及其制作方法,有效解决现有技术存在的技术问题,降低了发光二极管在制作过程中形成位错缺陷的几率,提高了发光二极管的性能,且提高了发光二极管的制作良率。

2、为实现上述目的,本专利技术提供的技术方案如下:

3、一种发光二极管的制作方法,包括:

4、提供一图形化衬底,所述图形化衬底的生长面包括多个凸起;

5、在所述生长面一侧形成第一非掺杂半导本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种发光二极管的制作方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,在所述生长面一侧形成第一非掺杂半导体层,所述第一非掺杂半导体层至少裸露所述凸起的顶部,包括:

3.根据权利要求2所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,采用光刻工艺对所述第一非掺杂半导体材料层进行刻蚀,形成至少裸露所述凸起的顶部的第一非掺杂半导体层,包括:

4.根据权利要求2所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,在所述生长面一侧形成第一非掺杂半导体材料层,包括:

5.根据权利要求1所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,在提供所述图...

【技术特征摘要】

1.一种发光二极管的制作方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,在所述生长面一侧形成第一非掺杂半导体层,所述第一非掺杂半导体层至少裸露所述凸起的顶部,包括:

3.根据权利要求2所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,采用光刻工艺对所述第一非掺杂半导体材料层进行刻蚀,形成至少裸露所述凸起的顶部的第一非掺杂半导体层,包括:

4.根据权利要求2所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,在所述生长面一侧形成第一非掺杂半导体材料层,包括:

5.根据权利要求1所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,在提供所述图形化衬底之后,且在所述生长面一侧形成第一非掺杂半导体层之前,还包括:<...

【专利技术属性】
技术研发人员:滕龙霍丽艳章兴洋吴洪浩翁聪刘兆
申请(专利权)人:江西乾照光电有限公司
类型:发明
国别省市:

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