一种过滤电弧离子镀膜机中离子束的控制装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种过滤电弧离子镀膜机中离子束的控制装置及方法，所述过滤电弧离子镀膜机包括依次密封连接的放电室、磁过滤管和真空室，磁过滤管是由导向管及在导向管外壁上绕制的线圈构成，包括由连接管和第一线圈组成的聚焦透镜和扫描透镜；连接管的入口与导向管的出口密封连接，第一线圈绕置在连接管上；扫描透镜包括定位筒、第一磁极、第二磁极、第二线圈和第三线圈，定位筒的入口与连接管的出口密封连接，定位筒的出口与真空室的入口密封连接，导向管、连接管和定位筒同轴设置；第二线圈和第三线圈沿定位筒的中心对称绕置在定位筒上；第一磁极和第二磁极的形状和尺寸均相同，第一磁极和第二磁极沿水平方向对称固定插接在定位筒中，第一磁极内侧端与定位筒中心的距离和第二磁极内侧端与定位筒中心的距离相等，增大了薄膜的沉积面积，以及沉积薄膜的均匀性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于碳基薄膜制备领域，具体涉及一种过滤电弧离子镀膜机中离子束的控制装置及方法。

技术介绍

1、近年来，碳基薄膜技术应用越来越广泛，利用过滤电弧离子镀膜方式是制备超硬碳基薄膜的有效方法，利用过滤电弧技术制备非晶碳薄膜，具有超高硬度、低摩擦系数等，十分接近天然金刚石的优异特性，应用较为广泛。

2、目前，非晶超硬碳基薄膜广泛应用于光学、机械、航空航天、微电子、医用器械等多个领域，需求越来越多。但过滤电弧技术在使用中，仍然存在一些问题，如薄膜的沉积工作面较小，不均匀，传输效率低。

3、一个具体的实例是，在过滤电弧离子镀膜机中通过磁场过滤器所形成的离子束存在两个问题，一个是离子束的直径较小，无法达到大面积沉积；二是离开磁场过滤器后，由于边缘场的作用，离子束会发散，形成的离子流是高斯分布，沉积时也不均匀，会产生中心密度大，边缘密度低的问题，同时会损失部分离子，降低传输效率。

技术实现思路

1、针对现有技术中存在的问题，本专利技术提供一种过滤电弧离子镀膜机中离子束的控制装置及方法，增大了薄本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种过滤电弧离子镀膜机中离子束的控制装置，其特征在于，所述过滤电弧离子镀膜机包括依次密封连接的放电室(7)、磁过滤管(8)和真空室(11)，磁过滤管(8)是由导向管(9)及在导向管(9)外壁上绕制的线圈构成，包括由连接管(10)和第一线圈(1)组成的聚焦透镜和扫描透镜(2)；

2.根据权利要求1所述的过滤电弧离子镀膜机中离子束的控制装置，其特征在于，所述放电室(7)的出口与导向管(9)的入口通过第一法兰密封连接，连接管(10)的入口与导向管(9)的出口通过第二法兰密封连接，连接管(10)和导向管(9)的内外径均相同，连接管(10)的出口与定位筒(12)的入口通过第三法兰密...

【技术特征摘要】

1.一种过滤电弧离子镀膜机中离子束的控制装置，其特征在于，所述过滤电弧离子镀膜机包括依次密封连接的放电室(7)、磁过滤管(8)和真空室(11)，磁过滤管(8)是由导向管(9)及在导向管(9)外壁上绕制的线圈构成，包括由连接管(10)和第一线圈(1)组成的聚焦透镜和扫描透镜(2)；

2.根据权利要求1所述的过滤电弧离子镀膜机中离子束的控制装置，其特征在于，所述放电室(7)的出口与导向管(9)的入口通过第一法兰密封连接，连接管(10)的入口与导向管(9)的出口通过第二法兰密封连接，连接管(10)和导向管(9)的内外径均相同，连接管(10)的出口与定位筒(12)的入口通过第三法兰密封连接。

3.根据权利要求1所述的过滤电弧离子镀膜机中离子束的控制装置，其特征在于，所述定位筒(12)由不锈钢制成。

4.根据权利要求1所述的过滤电弧离子镀膜机中离子束的控制装置，其特征在于，所述第二线圈(15)分布在定位筒(12)竖直方向的最高处，第三线圈(16)分布在定位筒(12)竖直方向的最低处，第二线圈(15)和第三线圈(16)的圈数、长度、直径均相同。

5.根据权利要求1所述的过滤电弧离子镀膜机中离子束的控制装置，其特征在于，所述定位筒(12)包括本体和本体两侧的延伸管，所述延伸管和连接管(10)的外径均相同...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵玉清，王炎武，
申请(专利权)人：陕西埃恩束能碳基技术有限公司，
类型：发明
国别省市：