一种双球磨轴式抛光装置制造方法及图纸

本技术涉及一种双球磨轴式抛光装置，包括装置本体，其用于大米抛光加工，加料组件，其设置于装置本体上，下料组件，其包括调节部、驱动部和导料部，其中，调节部，其对称设置于所述加料组件内，驱动部，其用于驱动所述调节部滑动相互靠近或者远离，导料部，其对称设置于所述加料组件内，且位于所述调节部上方，通过调节部与加料组件的配合，能够在驱动部的驱动下在加料组件内整体运动，使得推升或者下降调整调节部运动方向，控制之间的距离，配合导料部调整加料组件的进料速度，实现调节部由加料组件与驱动部共同支撑，受冲击位移小，同时对驱动部的影响小。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及大米加工领域，具体涉及一种双球磨轴式抛光装置。

技术介绍

1、抛光是把稻谷变成大米的一道重要工序，用来去掉米粒的外表带有的少量的糠粉，通过将大米加入到抛光辊和筛板之间的空间形成抛光室，在翻滚、挤压的作用下进行表面抛光，而现有的双球磨轴式抛光装置通过双辊的组合方式，对加入的大米摩擦抛光，减小抛光辊与阻力壁之间的相对运动产生碎米量，提高大米的质量。

2、根据中国专利cn214599214u一种自动调整剂量的双球磨轴式大米抛光装置，其具有便对大米的进料剂量进行调节，且可以对进料速度进行调节，实用性好等优点，但挡料板由一侧运动，不论打开瞬间或者关闭期间，只通过齿轮啮合静止限制的第一导料板依旧会受到大米冲击，出现向下摆动，使齿轮啮合转动，带动皮带轮与皮带摩擦，加大接触部分磨损，可能后续调节皮带轮打滑，无法对进料速度进行调节。

技术实现思路

1、基于上述表述，本技术提供了一种双球磨轴式抛光装置，以解决挡料板由一侧运动，不论打开瞬间或者关闭期间，只通过齿轮啮合静止限制的第一导料板依旧会受到大米冲击，出本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种双球磨轴式抛光装置，其特征在于，包括

2.根据权利要求1所述的双球磨轴式抛光装置，其特征在于，所述加料组件(2)包括设置于装置螺旋推送部上方的调节料箱(21)，所述调节料箱(21)上设置有料斗(22)，所述调节料箱(21)与料斗(22)之间设置有开关部(23)。

3.根据权利要求2所述的双球磨轴式抛光装置，其特征在于，所述调节料箱(21)上对称开设有滑道，所述调节部(31)包括设置于调节料箱(21)内的导料板(311)，所述导料板(311)上设置有可沿滑道滑动的滑动件(312)，所述滑动件(312)的一端延伸至调节料箱(21)外。>

4.根据权利...

【技术特征摘要】

1.一种双球磨轴式抛光装置，其特征在于，包括

2.根据权利要求1所述的双球磨轴式抛光装置，其特征在于，所述加料组件(2)包括设置于装置螺旋推送部上方的调节料箱(21)，所述调节料箱(21)上设置有料斗(22)，所述调节料箱(21)与料斗(22)之间设置有开关部(23)。

3.根据权利要求2所述的双球磨轴式抛光装置，其特征在于，所述调节料箱(21)上对称开设有滑道，所述调节部(31)包括设置于调节料箱(21)内的导料板(311)，所述导料板(311)上设置有可沿滑道滑动的滑动件(312)，所述滑动件(312)的一端延伸至调节料箱(21)外。

4.根据权利要求3所述的双球磨轴式抛光装置，其特征在于，所述滑动件(312)一端设置有挡料组件(4)，所述挡料组件(4)包括设置于滑动件(312)上的挂钩部(41)，所述挂钩部(41)上设置有挡料...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘萍，
申请(专利权)人：武汉天禾正汉粮食机械设备有限公司，
类型：新型
国别省市：