一种深矢高非球面光学元件铣磨方法技术

本发明专利技术公开了光学元件铣磨领域的一种深矢高非球面光学元件铣磨方法，包括以下步骤：准备加工磨轮，磨轮分别设有移动平台和旋转平台；构建BP神经网络，在光学元件非球面子午截面曲线上进行样本采集，获取基础加工轨迹，将待插补曲线的切点选取作为采集样本，对BP神经网络进行大量训练优化基础加工轨迹，每次训练均测量磨轮实际尺寸；收集训练中磨轮实际尺寸变化函数，以单个磨轮为单位，得到变化函数库；利用基础加工轨迹进行数控加工，选择若干个加工次数节点，采集磨轮实际尺寸数据，带入变化函数库中得到与加工次数节点数据拟合的变化函数，对基础加工轨迹进行修正。采用本发明专利技术的技术方案，能够对磨轮磨损量产生的精度偏差进行补偿。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学元件铣磨领域，具体是一种深矢高非球面光学元件铣磨方法。

技术介绍

1、近些年来，非球面光学元件凭借其优越的光学特性和无与伦比的成像效果，在光学系统中得到广泛应用，成为不可或缺的光学元件。在光学系统设计中，多个球面镜片堆叠组合的成像效果用一个非球面镜片就可以达到，这样就大大简化了光学仪器的结构组成。非球面光学元件应用在光学仪器中具有轻量化、成像效果佳、低成本、使得光学系统设计更为灵活等特点，因此非球面光学元件在军事、航空航天以及高新技术民用工业等领域应用频繁。

2、现有技术中利用基于神经网络的插补方法进行轨迹控制，以优化加工工艺流程，但铣磨过程中，磨轮会逐渐磨损，直至寿命耗尽后更换，在此过程中，会导致磨轮与原有尺寸不符，使实际加工轨迹出现偏离。

技术实现思路

1、为了解决上述问题，本专利技术的目的是提供一种深矢高非球面光学元件铣磨方法，对磨轮磨损量产生的精度偏差进行补偿。

2、为了实现上述目的，本专利技术的技术方案如下：一种深矢高非球面光学元件铣磨方法，包括以下步骤：<本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种深矢高非球面光学元件铣磨方法，其特征在于：包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的深矢高非球面光学元件铣磨方法，其特征在于：BP神经网络的学习率在0.4至0.6之间。

3.根据权利要求2所述的深矢高非球面光学元件铣磨方法，其特征在于：BP神经网络的迭代次数至少为3000次。

4.根据权利要求3所述的深矢高非球面光学元件铣磨方法，其特征在于：步骤四中ω的值为0.05rad/s。

5.根据权利要求4所述的深矢高非球面光学元件铣磨方法，其特征在于：磨轮选择金刚石砂轮。

6.根据权利要求5所述的深矢高非球面光学元件铣磨方法，其特...

【技术特征摘要】

1.一种深矢高非球面光学元件铣磨方法，其特征在于：包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的深矢高非球面光学元件铣磨方法，其特征在于：bp神经网络的学习率在0.4至0.6之间。

3.根据权利要求2所述的深矢高非球面光学元件铣磨方法，其特征在于：bp神经网络的迭代次数至少为3000次。

4.根据权利要求3所述的深矢高非球面光学元件铣磨方法，其特征在于：步骤四中ω的值为0.0...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴庆玲，韩天格，曹玥，
申请(专利权)人：吉林交通职业技术学院，
类型：发明
国别省市：