【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及钙钛矿太阳能电池制备领域领域，具体而言，涉及一种补偿型涂布装置及涂布工艺。
技术介绍
1、钙钛矿材料，既不是钙也不是钛，而是具备相同晶体结构的一类“陶瓷氧化物”的统称，分子式为abx3。a代表“大半径阳离子”，b代表“金属阳离子”，x则代表“卤族阴离子”。这三种离子通过不同元素的排列组合，或者调整彼此之间的距离，可以呈现许多神奇的物理特性，包括但不限于绝缘、铁电、反铁磁、巨磁效应等。钙钛矿作为最具潜力的新型材料，可作为太阳能电池的吸收层，其具有众多优异的光电特性，如可调节的带隙、高吸光系数、低激子束缚能、高载流子迁移率、高缺陷容忍度等。同时，钙钛矿制备工艺简单，可实现半透明、超轻、超薄、柔性等效果。此外，钙钛矿原材料来源广泛且含量丰富。这些优势都让钙钛矿太阳能电池成为颠覆晶硅和薄膜太阳能电池的新一代技术。
2、目前大多是采用溶液法制备钙钛矿层，即将配置好的钙钛矿粉末加入溶剂，制成钙钛矿前驱体溶液，利用旋涂、狭缝、刮涂或微凹等涂布技术将钙钛矿前驱体溶液均匀涂覆在基底表面，形成液膜，然后滴加反溶剂、风刀或vcd(vacuum concentrate drying，真空干燥浓缩)，使溶剂快速挥发，最后进行高温退火形成多晶钙钛矿薄膜。因刮涂和狭缝涂布技术制备过程比较简单、快速、成本低、可大面积制备等优点，在钙钛矿领域逐渐成为比较重要的涂布技术。
3、如图1和2所示，现有的涂布装置主要包括大理石基台、刮刀或狭缝涂布头、以及刮刀支撑架，在涂布过程中刮涂或狭缝涂布是从起始位置匀速涂布到末端结束位置的，涂布
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种补偿型涂布装置及涂布工艺，该补偿型涂布装置可以通过两次涂布作用对第一次涂布可能产生的孔洞进行二次覆盖或削除，从而减少结晶后钙钛矿薄膜中的孔洞等缺陷，进而提高钙钛矿太阳能电池的性能。
2、本专利技术的实施例可以这样实现：
3、第一方面，本专利技术提供了一种补偿型涂布装置，包括：
4、基台，用于放置基底；
5、涂布机构，设于所述基台上方；
6、支撑架，用于支撑固定所述涂布机构；
7、至少一预涂布机构，设于所述涂布机构涂布方向上且不与所述涂布机构接触；所述预涂布机构通过支架与所述支撑架连接，所述预涂布机构与所述涂布机构在涂布过程中同步进行匀速运动。
8、相比于现有技术，本专利技术提供的补偿型涂布装置通过增设预涂布机构，可以在涂布过程中先进行预涂布，再进行补偿式的二次涂布，从而可以将预涂布时由于基底因素可能形成的孔洞及时进行覆盖或削除，这大幅减少后续结晶后钙钛矿薄膜中的孔洞，有效提高钙钛矿太阳能电池器件的性能。同时，预涂布机构与涂布机构可用同一套驱动系统，节省了涂布装置的空间，并可以提高涂布装置的涂布效率。
9、优选地，支架为伸缩支架，所述预涂布机构与所述涂布机构的间距为5～30cm。
10、在一些实施方式中，预涂布机构与基底的距离小于所述涂布机构与基底的距离，所述预涂布机构在基底上预涂后所述涂布机构在预涂形成的液膜上进行二次涂布。
11、在其它实施方式中，预涂布机构与基底的距离大于所述涂布机构与基底的距离，所述预涂布机构在基底上预涂后所述涂布机构在预涂形成的液膜上进行削薄加工。
12、优选地，预涂布机构与所述支撑架可拆卸连接。
13、在一些实施方式中，至少设有两套所述预涂布机构；所述支架上带有刻度，至少两套所述预涂布机构均与所述支架可拆卸连接。
14、进一步地，上述涂布机构既可以是刮刀也可以是狭缝涂布头。
15、第二方面，本专利技术还提供一种补偿型涂布工艺，包括以下步骤：
16、先将待涂布的基底放置于上述任一实施方式中的涂布装置的基台上，开始涂布后，对基底依次进行至少两次涂布。
17、在一些实施方式中，涂布时，移液枪依次给预涂布机构和涂布机构滴液，涂布机构在预涂布机构涂布形成的液膜上进行二次涂布。
18、在另一些实施方式中，涂布时，移液枪仅给预涂布机构滴液，涂布机构在预涂布机构涂布形成的液膜上进行削薄加工。
19、本专利技术提供的补偿型涂布装置，可以在现有的涂布装置基础上增设一套或多套的预涂布机构，通过和现有的涂布机构共用一套驱动系统，既节省了空间，又可以确保预涂布机构和涂布机构的同步运行。预涂布机构和涂布机构二者之间间隔一定的距离，在涂布开始后二者同时开始匀速运动，预涂布机构由于设于涂布机构的涂布方向上，其会先对基底进行预涂布，而由于基底可能存在的灰尘或表面缺陷等情况导致预涂布可能有形成孔洞，而涂布机构随之进行的二次涂布则可以很好地进行补偿，将孔洞覆盖或者削除，从而对预涂布形成的液膜起到加工的作用，有效减少了后续结晶得到的钙钛矿薄膜的孔洞等缺陷。基于该补偿型涂布装置的涂布工艺可以有效避免涂布形成的液膜上孔洞缺陷的产生，提高最终钙钛矿太阳能电池器件的良品率和性能。
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1.一种补偿型涂布装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的补偿型涂布装置，其特征在于，所述支架为伸缩支架，所述预涂布机构与所述涂布机构的间距为5～30cm。
3.根据权利要求1所述的补偿型涂布装置，其特征在于，所述预涂布机构与基底的距离小于所述涂布机构与基底的距离，所述预涂布机构在基底上预涂后所述涂布机构在预涂形成的液膜上进行二次涂布。
4.根据权利要求1所述的补偿型涂布装置，其特征在于，所述预涂布机构与基底的距离大于所述涂布机构与基底的距离，所述预涂布机构在基底上预涂后所述涂布机构在预涂形成的液膜上进行削薄加工。
5.根据权利要求1所述的补偿型涂布装置，其特征在于，所述预涂布机构与所述支撑架可拆卸连接。
6.根据权利要求1所述的补偿型涂布装置，其特征在于，至少设有两套所述预涂布机构；所述支架上带有刻度，至少两套所述预涂布机构均与所述支架可拆卸连接。
7.根据权利要求1所述的补偿型涂布装置，其特征在于，所述涂布机构为刮刀或狭缝涂布头。
8.一种补偿型涂布工艺，其特征在于，包括以下步骤：<...
【技术特征摘要】
1.一种补偿型涂布装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的补偿型涂布装置，其特征在于，所述支架为伸缩支架，所述预涂布机构与所述涂布机构的间距为5～30cm。
3.根据权利要求1所述的补偿型涂布装置，其特征在于，所述预涂布机构与基底的距离小于所述涂布机构与基底的距离，所述预涂布机构在基底上预涂后所述涂布机构在预涂形成的液膜上进行二次涂布。
4.根据权利要求1所述的补偿型涂布装置，其特征在于，所述预涂布机构与基底的距离大于所述涂布机构与基底的距离，所述预涂布机构在基底上预涂后所述涂布机构在预涂形成的液膜上进行削薄加工。
5.根据权利要求1所述的补偿型涂布装置，其特征在于，所述预涂布机构与...
【专利技术属性】
技术研发人员：包征，杨晓宇，涂用广，叶冯俊，
申请(专利权)人：北京烁威光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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