【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及陶瓷制备设备，具体涉及一种陶瓷抛光设备。
技术介绍
1、陶瓷制品在许多领域都有广泛的应用，如化工、医疗、航空航天等，这些领域对陶瓷制品的性能要求极高，抛光后的陶瓷制品需要在密封环境中工作，抛光机也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光及打蜡，其工作原理是：电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的，在陶瓷的制造过程中，抛光是加工环节中十分重要的加工工序，可以填充陶瓷表面的毛孔、划痕以及表面缺陷，显著改善陶瓷表面的光洁度和平滑度，有助于陶瓷的后续加工，还能提升产品的整体外观质量。
2、现有公开号为cn111515840a的中国专利技术专利公开了一种基于节能环保陶瓷抛光设备，其具体公开了包括车床主体以及设置在所述车床主体中的抛光空间，所述抛光空间下端壁中连通设置升降空间，所述升降空间中可滑动地设置有有操作台，所述抛光空间左侧设置有电机腔，在抛光过程中通过转动扇叶吹去空气中的大颗粒物，防止其对抛光效果的影响，提高最终陶瓷成品的质量，通过冷凝块以及回流管道的配合使用对蒸气进行冷凝回流，完成对水资源的循环利用，节约了原料，降低后期运行成本；又如公开号为cn107717705a的中国专利技术专利公开了一种陶瓷设备用的抛光装置，包括抛光机主机、减振器、水管、水槽、电机箱、废料槽、载物台、抛光杆、急停按钮、控制面板、报警灯，抛光机主机底部与电机箱顶部相焊接，减振器底部与电机箱顶部相连接，水管嵌入安装于废料槽底部，水槽右侧与
3、但是，在上述现有技术方案中，在抛光完成后需要人工进行清洗的同时并没有及时对陶瓷进行气密性检测，在对陶瓷进行抛光的过程中可能会出现微小的裂纹或缺陷，导致陶瓷水分渗透以及对陶瓷的气密性产生影响，如果陶瓷的气密性不佳，就可能导致气体渗透或泄漏，从而影响其在密封环境中工作使用甚至存在潜在的风险。
技术实现思路
1、基于此，为解决在抛光完成后需要人工进行清洗的同时并没有及时对陶瓷进行气密性检测，从而影响其在密封环境中工作使用甚至存在潜在的风险，本专利技术的目的在于提供一种陶瓷抛光设备，其具体技术方案如下:
2、一种陶瓷抛光设备，包括上料机构、抛光装置、转移机构以及气密检测装置；所述抛光装置设置在所述上料机构的一侧，所述抛光装置包括旋转机构和抛光机，所述抛光机设置在所述旋转机构的一侧，所述旋转机构用于承载从所述上料机构上移送的陶瓷，所述抛光机用于对所述旋转机构上的陶瓷进行抛光处理；所述转移机构设置在所述抛光装置远离所述上料机构的一侧；所述气密检测装置与所述转移机构抵接，所述气密检测装置包括水槽、传送机构、观察装置和吸附传递机构，所述传送机构设置在所述水槽内，所述传送机构与所述转移机构抵接，所述观察装置设置在所述水槽上并与所述水槽内壁固定连接，所述吸附传递机构设置在所述水槽远离所述转移机构的一端，所述水槽外设置有处理控制装置，所述观察装置和所述吸附传递机构分别与所述处理控制装置电性连接。
3、进一步地，所述观察装置包括定位架、移动组件、伸缩组件、旋转组件和监测装置，所述定位架与所述水槽的两侧连接，所述移动组件与所述定位架连接，所述移动组件、所述伸缩组件、所述旋转组件从上到下依次设置，所述监测装置与所述旋转组件连接，所述移动组件、伸缩组件、旋转组件和监测装置分别与所述处理控制装置电性连接。
4、进一步地，所述监测装置包括封闭圆筒和进水圆筒，所述进水圆筒与所述封闭圆筒的前部连接，所述封闭圆筒内部从靠近所述进水圆筒的一端往远离所述进水圆筒的一端的方向上依次设置有防水透明板、变焦透镜和数字摄像装置，所述数字摄像装置与所述处理控制装置电性连接，所述进水圆筒上设置有进水口和出水口，所述进水口上设置有堵头，所述堵头上设置有目标镜片，当所述堵头封住进水口时，所述目标镜片竖直插入至所述进水圆筒内部。
5、进一步地，所述进水圆筒远离所述封闭圆筒的一端设置有防水光源，所述防水光源的发光面位于所述进水圆筒的一侧，对所述进水圆筒进行照明。
6、进一步地，所述观察装置和所述吸附传递机构之间设置有阻挡结构，所述阻挡结构与所述水槽的内壁连接，所述阻挡结构设置在所述传送机构的上方，所述阻挡结构包括转动轴、连接体和阻挡杆，所述转动轴与所述水槽转动连接，所述连接体套设在所述转动轴上，所述阻挡杆设置在所述连接体上，所述阻挡杆在所述连接体的周向均匀固定连接有四组，每组所述阻挡杆沿所述连接体的长度方向设有多个，所述阻挡杆绕所述转动轴转动时能够伸至所述水槽内，所述阻挡杆远离所述连接体的一端朝逆时针方向弯曲设置。
7、进一步地，所述吸附传递机构包括吸附结构、不合格品放置盒和合格品输送轨，所述吸附结构与所述水槽远离所述所述转移机构的一端连接，所述不合格品放置盒设置在所述吸附结构和所述观察装置之间并与所述水槽固定连接，所述合格品输送轨设置在所述吸附结构远离所述不合格品放置盒的一侧，所述吸附结构与所述处理控制装置电性连接。
8、进一步地，所述吸附结构包括基座、转盘和吸附控制装置，所述基座上设置有第一驱动机构，所述转盘通过所述第一驱动机构实现圆周转动，所述转盘上设置有第一支撑臂，所述第一支撑臂竖向安装有第二支撑臂，所述第二支撑臂与所述第一支撑臂活动连接，所述第二支撑臂上设置有第二驱动机构，所述第二驱动机构控制所述第二支撑臂在第一支撑臂上进行上下运动，所述第二支撑臂远离所述第一支撑臂的一端连有第三支撑臂，所述第三支撑臂上设置有视觉定位器，所述第三支撑臂远离所述第二支撑臂的一端连接有第四支撑臂，所述第四支撑臂远离所述第三支撑臂的一端连接有夹持吸盘，所述第四支撑臂上设置有第三驱动机构，所述第三驱动机构控制所述夹持吸盘吸附，所述吸附控制装置与分别所述第一驱动机构、第二驱动机构和第三驱动机构电性连接。
9、进一步地，所述旋转机构包括旋转轮盘和转动电机，所述旋转轮盘与所述转动电机活动连接，所述旋转轮盘上设置有多个陶瓷放置位，用于承载从所述上料机构上移送的陶瓷。
10、进一步地，所述抛光机包括移动结构、抛光架、抛光轮、旋转轴和抛光电机，所述抛光架与所述移动结构连接，所述旋转轴和所述抛光电机分别设置在所述抛光架上，所述抛光电机通过皮带与所述旋转轴的一端连接，所述抛光轮与所述旋转轴远离所述抛光电机的一端连接，所述抛光轮竖直设置于所述旋转机构的上方。
11、进一步地，所述移动结构包括x轴平移结构、y轴平移结构和z轴平移结构，所述y轴平移结构设置在所述x轴平移结构上，所述z轴平移结构设置在所述y轴平移结构上，所述抛光架设置于所述z轴平移结构上。
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【技术保护点】
1.一种陶瓷抛光设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述观察装置包括定位架、移动组件、伸缩组件、旋转组件和监测装置，所述定位架与所述水槽的两侧连接，所述移动组件与所述定位架连接，所述移动组件、所述伸缩组件、所述旋转组件从上到下依次设置，所述监测装置与所述旋转组件连接，所述移动组件、伸缩组件、旋转组件和监测装置分别与所述处理控制装置电性连接。
3.根据权利要求2所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述监测装置包括封闭圆筒和进水圆筒，所述进水圆筒与所述封闭圆筒的前部连接，所述封闭圆筒内部从靠近所述进水圆筒的一端往远离所述进水圆筒的一端的方向上依次设置有防水透明板、变焦透镜和数字摄像装置，所述数字摄像装置与所述处理控制装置电性连接，所述进水圆筒上设置有进水口和出水口，所述进水口上设置有堵头，所述堵头上设置有目标镜片，当所述堵头封住进水口时，所述目标镜片竖直插入至所述进水圆筒内部。
4.根据权利要求3所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述进水圆筒远离所述封闭圆筒的一端设置有防水光源，所述防水光源的发光面位于所述进水圆筒
5.根据权利要求1所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述观察装置和所述吸附传递机构之间设置有阻挡结构，所述阻挡结构与所述水槽的内壁连接，所述阻挡结构设置在所述传送机构的上方，所述阻挡结构包括转动轴、连接体和阻挡杆，所述转动轴与所述水槽转动连接，所述连接体套设在所述转动轴上，所述阻挡杆设置在所述连接体上，所述阻挡杆在所述连接体的周向均匀固定连接有四组，每组所述阻挡杆沿所述连接体的长度方向设有多个，所述阻挡杆绕所述转动轴转动时能够伸至所述水槽内，所述阻挡杆远离所述连接体的一端朝逆时针方向弯曲设置。
6.根据权利要求1所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述吸附传递机构包括吸附结构、不合格品放置盒和合格品输送轨，所述吸附结构与所述水槽远离所述转移机构的一端连接，所述不合格品放置盒设置在所述吸附结构和所述观察装置之间并与所述水槽固定连接，所述合格品输送轨设置在所述吸附结构远离所述不合格品放置盒的一侧，所述吸附结构与所述处理控制装置电性连接。
7.根据权利要求6所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述吸附结构包括基座、转盘和吸附控制装置，所述基座上设置有第一驱动机构，所述转盘通过所述第一驱动机构实现圆周转动，所述转盘上设置有第一支撑臂，所述第一支撑臂竖向安装有第二支撑臂，所述第二支撑臂与所述第一支撑臂活动连接，所述第二支撑臂上设置有第二驱动机构，所述第二驱动机构控制所述第二支撑臂在第一支撑臂上进行上下运动，所述第二支撑臂远离所述第一支撑臂的一端连有第三支撑臂，所述第三支撑臂上设置有视觉定位器，所述第三支撑臂远离所述第二支撑臂的一端连接有第四支撑臂，所述第四支撑臂远离所述第三支撑臂的一端连接有夹持吸盘，所述第四支撑臂上设置有第三驱动机构，所述第三驱动机构控制所述夹持吸盘吸附，所述吸附控制装置与分别所述第一驱动机构、第二驱动机构和第三驱动机构电性连接。
8.根据权利要求1所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述旋转机构包括旋转轮盘和转动电机，所述旋转轮盘上设置有多个陶瓷放置位，用于承载从所述上料机构上移送的陶瓷。
9.根据权利要求1所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述抛光机包括移动结构、抛光架、抛光轮、旋转轴和抛光电机，所述抛光架与所述移动结构连接，所述旋转轴和所述抛光电机分别设置在所述抛光架上，所述抛光电机通过皮带与所述旋转轴的一端连接，所述抛光轮与所述旋转轴远离所述抛光电机的一端连接，所述抛光轮竖直设置于所述旋转机构的上方。
10.根据权利要求9所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述移动结构包括X轴平移结构、Y轴平移结构和Z轴平移结构，所述Y轴平移结构设置在所述X轴平移结构上，所述Z轴平移结构设置在所述Y轴平移结构上，所述抛光架设置于所述Z轴平移结构上。
...【技术特征摘要】
1.一种陶瓷抛光设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述观察装置包括定位架、移动组件、伸缩组件、旋转组件和监测装置，所述定位架与所述水槽的两侧连接，所述移动组件与所述定位架连接，所述移动组件、所述伸缩组件、所述旋转组件从上到下依次设置，所述监测装置与所述旋转组件连接，所述移动组件、伸缩组件、旋转组件和监测装置分别与所述处理控制装置电性连接。
3.根据权利要求2所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述监测装置包括封闭圆筒和进水圆筒，所述进水圆筒与所述封闭圆筒的前部连接，所述封闭圆筒内部从靠近所述进水圆筒的一端往远离所述进水圆筒的一端的方向上依次设置有防水透明板、变焦透镜和数字摄像装置，所述数字摄像装置与所述处理控制装置电性连接，所述进水圆筒上设置有进水口和出水口，所述进水口上设置有堵头，所述堵头上设置有目标镜片，当所述堵头封住进水口时，所述目标镜片竖直插入至所述进水圆筒内部。
4.根据权利要求3所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述进水圆筒远离所述封闭圆筒的一端设置有防水光源，所述防水光源的发光面位于所述进水圆筒的一侧，对所述进水圆筒进行照明。
5.根据权利要求1所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述观察装置和所述吸附传递机构之间设置有阻挡结构，所述阻挡结构与所述水槽的内壁连接，所述阻挡结构设置在所述传送机构的上方，所述阻挡结构包括转动轴、连接体和阻挡杆，所述转动轴与所述水槽转动连接，所述连接体套设在所述转动轴上，所述阻挡杆设置在所述连接体上，所述阻挡杆在所述连接体的周向均匀固定连接有四组，每组所述阻挡杆沿所述连接体的长度方向设有多个，所述阻挡杆绕所述转动轴转动时能够伸至所述水槽内，所述阻挡杆远离所述连接体的一端朝逆时针方向弯曲设置。
6.根据权利要求1所述的陶瓷抛光设备，其特征在于，所述吸附传递机构包括吸附结构、不合格品放置盒和合格品输送轨，所述吸附结构与所述水槽远...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄行彬，霍建荣，胡迅，
申请(专利权)人：佛山市高明贝斯特陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：
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