【技术实现步骤摘要】
本技术属于玻璃强化,具体为一种光刻玻璃浸液强化处理装置。
技术介绍
1、玻璃可作为光刻系统的专用基片,在玻璃加工的过程中,可通过化学强化法来加强玻璃的抗拉和抗压强度,从而提高玻璃在后续使用的强度。
2、目前化学强化法需要将玻璃置于温度为410-430℃的玻璃强化液中,恒温浸泡10-14h,浸泡完成后还需水中浸泡10-14h,然后用去离子清洗、烘干,获得强化玻璃。
3、申请人发现浸液和水中浸泡的时间近似相同,目前现在的强化处理装置在浸液后需要利用移载设备移动到下一工序设备(清洗)内进行清洗,中间移载的时间会影响到整体的工作效率;其次,由于浸泡和清洗时间很长,如何利用这一段时间,来提高整体的工作效率,是目前需要解决的问题。
4、鉴于此,提出了一种光刻玻璃浸液强化处理装置。
技术实现思路
1、本技术的目的在于:为了解决上述提出的问题,提供一种光刻玻璃浸液强化处理装置。
2、本技术采用的技术方案如下:一种光刻玻璃浸液强化处理装置,包括:
3、强化箱,其两端分别设有浸液室和清洗室;
4、转动组件,其设与所述强化箱的上端中部,所述转动组件包括电动旋转座以及设与所述电动旋转座的旋转部的转杆,所述转杆的上方对称设有连接杆,两个所述连接杆的相离一端分别设有放置组件;
5、所述放置组件包括气缸、上盖板以及可拆安装在上盖板下方的放置篮。
6、在一优选的实施方式中,所述放置篮的侧壁和底壁均匀开设有多个透液孔。<
...【技术保护点】
1.一种光刻玻璃浸液强化处理装置,包括:
2.如权利要求1所述的一种光刻玻璃浸液强化处理装置,其特征在于:所述放置篮的侧壁和底壁均匀开设有多个透液孔。
3.如权利要求1所述的一种光刻玻璃浸液强化处理装置,其特征在于:所述放置篮的上端面周向分布有多个定位块,所述定位块的中心贯穿开设有安装孔;
4.如权利要求1所述的一种光刻玻璃浸液强化处理装置,其特征在于:所述上盖板与浸液室和清洗室的形状相同,所述上盖板的尺寸大于所述浸液室和清洗室的尺寸。
5.如权利要求1所述的一种光刻玻璃浸液强化处理装置,其特征在于:所述气缸设在所述连接杆上,所述气缸的伸缩端与所述上盖板上端相连。
6.如权利要求1所述的一种光刻玻璃浸液强化处理装置,其特征在于:所述浸液室与所述强化箱之间的夹层设有加热盘管。
7.如权利要求1所述的一种光刻玻璃浸液强化处理装置,其特征在于:所述浸液室和清洗室的底部一侧均设有带有阀门的排废口。
【技术特征摘要】
1.一种光刻玻璃浸液强化处理装置,包括:
2.如权利要求1所述的一种光刻玻璃浸液强化处理装置,其特征在于:所述放置篮的侧壁和底壁均匀开设有多个透液孔。
3.如权利要求1所述的一种光刻玻璃浸液强化处理装置,其特征在于:所述放置篮的上端面周向分布有多个定位块,所述定位块的中心贯穿开设有安装孔;
4.如权利要求1所述的一种光刻玻璃浸液强化处理装置,其特征在于:所述上盖板与浸液室和清洗室的形状相同,所述上...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵瑞昆,高小良,
申请(专利权)人:徐州良萌半导体科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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