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低相干光干涉型四方柱阵列微结构形貌精密检测装置及方法制造方法及图纸

技术编号:41261111 阅读:23 留言:0更新日期:2024-05-11 09:19
本发明专利技术涉及一种低相干光干涉型四方柱阵列微结构形貌精密检测装置及方法,该检测装置包括低相干光源、光纤耦合器、显微探测臂、参考臂、反射式光栅光谱仪和计算机;所述低相干光源的低相干光被引到光纤耦合器后分别进入显微探测臂和参考臂,进入参考臂的光经一对消色差透镜平行、聚焦到熔融石英玻璃表面并被其反射而回,形成参考光;进入显微探测臂的光经透镜平行后,由显微物镜聚焦到四方柱阵列微结构表面并被其背向散射而回,形成探测光;所述参考光、探测光在光纤耦合器处相遇并发生干涉;所述干涉信号进入反射式光栅光谱仪,被反射式光栅光谱仪采集并传输至计算机。该检测装置及方法有利于提高四方柱阵列微结构表面检测的精度和效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及非接触式光学检测,具体涉及一种低相干光干涉型四方柱阵列微结构形貌精密检测装置及方法


技术介绍

1、功能微结构器件通常是指在三维空间上具有微米或亚微米量级的纹理组织结构。这些微结构器件中,四方柱阵列微结构具有代表性,通过精心设计的几何特征,以获得所需的性能优势,广泛应用于各个领域,包括微电子、微光学、生物医学等。随着微制造工艺往大规模高精度的方向发展,对四方柱阵列表面轮廓形貌的准确表征与评价的需求与日俱增。四方柱阵列的表面单元几何尺寸会影响器件的浸润性、光学特性、摩擦磨损特性等。传统的检测方法如:扫描电子显微镜、原子力显微镜和白光干涉仪等,存在效率低、成本高、破坏性检测等问题。

2、因此,寻求一种非接触式、高精度、高效率的检测装置和方法来揭示四方柱阵列微结构细节,对于四方柱阵列微结构器件的研究及制备工艺的优化具有重要意义。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种低相干光干涉型四方柱阵列微结构形貌精密检测装置及方法,该检测装置及方法有利于提高四方柱阵列微结构表面检测的精度和效率本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种低相干光干涉型四方柱阵列微结构形貌精密检测装置,其特征在于,包括低相干光源、光纤耦合器、显微探测臂、参考臂、反射式光栅光谱仪和计算机;所述低相干光源的低相干光被引到光纤耦合器后分别进入显微探测臂和参考臂,进入参考臂的光经一对消色差透镜平行、聚焦到熔融石英玻璃表面并被其反射而回,形成参考光;进入显微探测臂的光经透镜平行后,由显微物镜聚焦到四方柱阵列微结构表面并被其背向散射而回,形成探测光;所述参考光、探测光在光纤耦合器处相遇并发生干涉;所述干涉信号进入反射式光栅光谱仪,被反射式光栅光谱仪采集并传输至计算机。

2.根据权利要求1所述的低相干光干涉型四方柱阵列微结构形貌精密...

【技术特征摘要】

1.一种低相干光干涉型四方柱阵列微结构形貌精密检测装置,其特征在于,包括低相干光源、光纤耦合器、显微探测臂、参考臂、反射式光栅光谱仪和计算机;所述低相干光源的低相干光被引到光纤耦合器后分别进入显微探测臂和参考臂,进入参考臂的光经一对消色差透镜平行、聚焦到熔融石英玻璃表面并被其反射而回,形成参考光;进入显微探测臂的光经透镜平行后,由显微物镜聚焦到四方柱阵列微结构表面并被其背向散射而回,形成探测光;所述参考光、探测光在光纤耦合器处相遇并发生干涉;所述干涉信号进入反射式光栅光谱仪,被反射式光栅光谱仪采集并传输至计算机。

2.根据权利要求1所述的低相干光干涉型四方柱阵列微结构形貌精密检测装置,其特征在于,所述光纤耦合器是分光比为50:50的2×2单模光纤耦合器;所述低相干光源是中心波长为880nm的超辐射发光二极管。

3.根据权利要求1所述的低相干光干涉型四方柱阵列微结构形貌精密检测装置,其特征在于,所述显微探测臂由光纤apc接头、第一透镜、套筒及显微物镜组成;当光纤耦合器的分光端口输出的光接光纤apc接口进入套筒后,先经套筒内的第一透镜准直为平行光,然后通过显微物镜聚焦在四方柱阵列微结构表面形成亚微米级的聚焦光斑,聚焦在四方柱阵列微结构表面的反射光经原路返回光纤耦合器;所述四方柱阵列微结构置于水平台上,所述显微探测臂安装于调焦扫描架上,由调焦扫描架带动其对四方柱阵列微结构表面进行xy扫描;调焦扫描架带动...

【专利技术属性】
技术研发人员:钟舜聪周桂仲张秋坤林杰文
申请(专利权)人:福州大学
类型:发明
国别省市:

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