【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及具备沿着规定的行驶路径行驶而输送容器的输送车并用于将惰性气体供给至前述容器的内部的气体供给系统。
技术介绍
1、例如,在半导体制造工厂等,半导体晶圆或玻璃基板以容纳于专用的容器的状态由输送车输送。在容器内,为了抑制半导体晶圆等的氧化或防止尘埃对半导体晶圆等的附着等,惰性气体作为净化气体被注入。这样的技术例如在日本特开2016-021429号公报(专利文献1)中公开。
技术实现思路
1、在这种领域中,如在专利文献1中还公开的,大多使用进行容器的保管和向所保管的容器的惰性气体的供给的净化储料器。然而,为了向容器内供给惰性气体,输送车必须将对象的容器输送到净化储料器。另外,惰性气体的供给只能在容器保管于净化储料器内的期间进行。
2、鉴于上述实际状况,期望实现能够将惰性气体供给至由输送车输送途中的容器的气体供给系统。
3、用于解决上述课题的技术如以下那样。
4、一种气体供给系统,其是具备沿着规定的行驶路径行驶而输送容器的输送车并用于将惰性气体供给至
...【技术保护点】
1.一种气体供给系统,其是具备沿着规定的行驶路径行驶而输送容器的输送车并用于将惰性气体供给至所述容器的内部的气体供给系统,
2.根据权利要求1所述的气体供给系统,其中,
3.根据权利要求1所述的气体供给系统,其中,
4.根据权利要求3所述的气体供给系统,其中,
5.根据权利要求4所述的气体供给系统,其中,
6.根据权利要求1至4中的任一项所述的气体供给系统,其中,
7.根据权利要求6所述的气体供给系统,其中,
8.根据权利要求6所述的气体供给系统,其中,
【技术特征摘要】
1.一种气体供给系统,其是具备沿着规定的行驶路径行驶而输送容器的输送车并用于将惰性气体供给至所述容器的内部的气体供给系统,
2.根据权利要求1所述的气体供给系统,其中,
3.根据权利要求1所述的气体供给系统,其中,
4.根据权利要求3所...
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