【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及铁基导电板，尤其涉及一种铁基导电板及其制作方法。
技术介绍
1、市场上现有的常用的导电基板的结构为铝基金属板+绝缘层+铜箔，在完成后需要在铜箔表面进行无铅喷锡、抗氧化、化学沉镍金、电镍金、沉银或印刷碳油加工处理；此类铝基导电基板应用于各个电子产品领域，但现有的导电基板制作方法复杂，不易操作。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种铁基导电板及其制作方法。
2、为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：
3、一种铁基导电板的制作方法，包括：
4、s1、开料，将预设的整块大板料下料，裁切成预设尺寸的铁板；
5、s2、覆铜，使用黑色绝缘半固化片作为粘接材料，在铁板的上下表面覆上铜箔，得到铁基覆铜板；
6、s3、线路图形转移，将线路导电图形转移到铁基覆铜板的表面，并对需要加工的线路进行铜箔加厚处理，在需要加工的线路上覆盖一层锡金属；
7、s4、蚀刻电路，用蚀刻液将未覆盖锡金属的铜箔去掉，蚀刻出线路图，得到线路板；
8、s5、在蚀刻的线路图上电镀导电膜；
9、s6、丝印文字；
10、s7、打靶孔、锣刻、v-cut成型；
11、s8、功能测试和出货检验。
12、优选的，所述s1后还包括：s11、一次钻孔，在铁板上的设计位置处钻出第一通孔，并在第一通孔内填满环氧树脂；在所述s2后，还包括：s21、在s11中
13、优选的，在所述s2中，半固化片和铜箔按照设计的数量和顺序层叠多层。
14、优选的，所述s3包括：
15、先对铁基覆铜板进行清洁磨刷，烘干后，涂上感光油墨；
16、利用光化学原理，使用菲林将图形线路的形状，曝光显影转移到铁基覆铜板上，再利用化学原理，经过显影、退膜，去除掉不需要的油墨，制作出所需要的图形线路；
17、利用电镀设备，把完成图形转移的线路板，通过电化学反应，将铜离子吸附到需要加工的线路的铜箔上，进行铜箔加厚处理，再在需要加工的线路上覆盖一层锡金属。
18、优选的，所述s4包括：
19、对遗留下来的油墨，采用化学清洗的方法显影干净，裸露出未镀锡的铜箔；
20、用蚀刻液蚀刻掉显露出来的铜箔，得到干净的绝缘基底；
21、化学清洗电镀的锡金属，得到完整的线路图纸。
22、优选的，所述s5包括：
23、先处理干净铜箔上的油膜、杂质、氧化层；
24、再经过酸洗，预浸，在铜箔导电面电镀一层导电膜，线路铜箔表面变成黑色，并保持导电性。
25、优选的，在所述s5后，还包括：
26、涂布阻焊涂层。
27、优选的，所述涂布阻焊涂层包括：
28、清洁电路以去除污垢和其他污染物，然后干燥线路板表面；
29、接下来，将线路板装入用于阻焊油墨涂层的垂直涂层机中，在线路板上添加阻焊层；
30、预硬化，进行低温快速初步硬化，用已准备的阻焊图形菲林覆盖线路板上，通过光化学反应，对图层进行局部聚合。
31、一种铁基导电板，采用所述的铁基导电板制作方法制作。
32、与现有技术相比，本专利技术的有益效果是:
33、本专利技术设计一种铁基导电板及其制作方法，对表面铁基导电板进行黑色导电膜处理工艺，能保持导电性，还能够防氧化，耐摩擦，并呈现黑色的外观。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种铁基导电板的制作方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述一种铁基导电板的制作方法，其特征在于，所述S1后还包括：S11、一次钻孔，在铁板上的设计位置处钻出第一通孔，并在第一通孔内填满环氧树脂；在所述S2后，还包括：S21、在S11中填充的环氧树脂中钻出第二通孔，并通过沉铜工艺在第二通孔表面覆上一层铜。
3.根据权利要求1所述一种铁基导电板的制作方法，其特征在于，在所述S2中，半固化片和铜箔按照设计的数量和顺序层叠多层。
4.根据权利要求1所述一种铁基导电板的制作方法，其特征在于，所述S3包括：
5.根据权利要求4所述一种铁基导电板的制作方法，其特征在于，所述S4包括：
6.根据权利要求5所述一种铁基导电板的制作方法，其特征在于，所述S5包括：
7.根据权利要求1所述一种铁基导电板的制作方法，其特征在于，在所述S5后，还包括：涂布阻焊涂层。
8.根据权利要求7所述一种铁基导电板的制作方法，其特征在于，所述涂布阻焊涂层包括：
9.一种铁基导电板，其特征在于，采用如权利要求1
...【技术特征摘要】
1.一种铁基导电板的制作方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述一种铁基导电板的制作方法，其特征在于，所述s1后还包括：s11、一次钻孔，在铁板上的设计位置处钻出第一通孔，并在第一通孔内填满环氧树脂；在所述s2后，还包括：s21、在s11中填充的环氧树脂中钻出第二通孔，并通过沉铜工艺在第二通孔表面覆上一层铜。
3.根据权利要求1所述一种铁基导电板的制作方法，其特征在于，在所述s2中，半固化片和铜箔按照设计的数量和顺序层叠多层。
4.根据权利要求1所述一种铁基导电板的制作...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘洪，
申请(专利权)人：深圳市卓越华予电路有限公司，
类型：发明
国别省市：
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