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流路器件以及分离处理用器件制造技术

技术编号:41211359 阅读:4 留言:0更新日期:2024-05-09 23:34
流路器件具备第一板状构件以及第二板状构件,并具有第一流路、第一孔、第二孔、接合部、非接合部以及一对断开部。第一板状构件具有第一面以及第二面。第二板状构件具有一部分接合于第二面的第三面以及第四面。第一流路位于第二面与第三面之间。第一孔与第一流路的第一端部区域连通。第二孔与第一流路的第二端部区域连通。接合部是在第一流路的宽度方向的两侧在第二面与第三面之间凹部与凸部接合的部分。非接合部在第一流路的宽度方向的两侧位于凸部与第一流路之间。一对断开部在第一流路的宽度方向的两侧将非接合部在长度方向上断开。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及流路器件以及分离处理用器件


技术介绍

1、已知有具有用于从包含多种粒子的流体分离特定的种类的粒子的微细的流路(也称为分离流路)的分离用的流路器件与具有用于对包含由该分离用的流路器件分离并回收的特定的粒子的流体(也称为检体)进行计测的流路(也称为计测流路)的计测用的流路器件连结而成的分离处理用器件(例如,参照专利文献1的记载)。在该分离处理用器件中,计测用的流路器件具有用于将检体导入计测流路的第一孔以及用于从计测流路回收检体的第二孔。并且,计测用的流路器件例如能够通过在将形成有槽的树脂制的第一板状构件与树脂制的第二板状构件以第二板状构件堵塞第一板状构件的槽的形态层叠的状态下,将第一板状构件与第二板状构件接合,从而形成。

2、另外,已知有通过将在表面设置有凹状槽的第一板状构件与平坦的第二板状构件层叠并接合,从而制造利用第一板状构件的凹状槽以及第二板状构件的表面在内部形成有的流路的流路器件的技术(例如,参照专利文献2、3的记载)。在该技术中,例如,在第一板状构件与第二板状构件的接合前,在第一板状构件的接合面,在用于形成流路的凹状槽以及其周围配置沿着凹状槽的接合用的凸部,在第二板状构件的接合面,在与接合用的凸部对置的部位配置接合用的凹部。并且,例如在第一板状构件与第二板状构件的接合时,以接合用的凸部的前端接触到接合用的凹部的底部的形态层叠第一板状构件与第二板状构件,并利用超声波熔敷等将接合用的凸部接合于接合用的凹部。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1:国际公开第2019/151150号

6、专利文献2:日本特开2007-283677号公报

7、专利文献3:日本特开2014-233960号公报


技术实现思路

1、公开流路器件以及分离处理用器件。

2、流路器件的一方案具备第一板状构件以及第二板状构件,并具有槽状的第一流路、第一孔、第二孔、接合部、非接合部以及一对断开部。所述第一板状构件具有第一面以及与该第一面相反的第二面。所述第二板状构件是具有第三面以及与该第三面相反的第四面并且层叠于所述第一板状构件的构件。所述第三面的一部分处于接合于所述第二面的状态。所述槽状的第一流路位于所述第二面与所述第三面之间并且在所述第一面以及所述第四面均不开口。所述第一孔与所述槽状的第一流路中的该槽状的第一流路的第一长度方向的第一端部区域连通并且在所述第一面或者所述第四面开口。所述第二孔与所述槽状的第一流路中的所述第一长度方向上的与所述第一端部区域相反的第二端部区域连通并且在所述第四面开口。所述接合部在沿着与所述槽状的第一流路的所述第一长度方向垂直的所述第二面的宽度方向的两侧沿着所述槽状的第一流路配置。所述接合部是在所述第二面包括凹部并且所述第三面包括凸部的情况、或者所述第二面包括所述凸部并且所述第三面包括所述凹部的情况下,所述凸部与所述凹部接合的部分。所述非接合部在所述槽状的第一流路的所述宽度方向的两侧沿着所述槽状的第一流路位于所述凸部与所述槽状的第一流路之间。所述非接合部是所述第二面与所述第三面接触或接近的部分。所述一对断开部在所述槽状的第一流路的所述宽度方向的两侧将所述非接合部在所述第一长度方向上断开。所述一对断开部将位于所述槽状的第一流路中的所述第一长度方向上的所述第一端部区域与所述第二端部区域之间的一部分的区域和所述凸部之间填充。

3、分离处理用器件的一方案具备包括上述一方案的流路器件的第一流路器件以及位于该第一流路器件的所述第一面上的第二流路器件。所述第一孔在所述第一面开口。所述第二流路器件具有第五面以及第六面,并且具有槽状的分离流路以及第四孔。所述第五面位于与所述第一面相反的一侧。所述第六面位于与所述第五面相反的所述第一面侧。所述槽状的分离流路在所述第五面不开口。所述第四孔与所述分离流路连通并且在所述第六面开口。所述第四孔与所述第一孔连接。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种流路器件,其中,

2.根据权利要求1所述的流路器件,其中,

3.根据权利要求2所述的流路器件,其中,

4.根据权利要求1至3中任一项所述的流路器件,其中,

5.一种分离处理用器件,其中,

6.根据权利要求5所述的分离处理用器件,其中,

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种流路器件,其中,

2.根据权利要求1所述的流路器件,其中,

3.根据权利要求2所述的流路器件,其中,

4.根...

【专利技术属性】
技术研发人员:笹原正光
申请(专利权)人:京瓷株式会社
类型:发明
国别省市:

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