一种正装LED芯片及其制备方法技术

技术编号:41205422 阅读:29 留言:0更新日期:2024-05-07 22:31
本发明专利技术公开了一种正装LED芯片及其制备方法,涉及半导体技术领域,该正装LED芯片包括外延片、以及依次层叠于外延片上的电流阻挡层、透明导电层、接触层、反射层、钝化层、包覆层以及焊线层,反射层包括Al材料层,钝化层包括氧化物层,钝化层层叠于反射层上时,反射层中至少部分的Al材料层被钝化层中的氧化物层氧化,以在反射层和钝化层之间形成包覆另一部分反射层的氧化层,氧化层和反射层上开设有供至少部分包覆层穿设的连接孔,通过该设置,从而可以防止焊线层的Au与反射层的Al之间出现迁移互溶,避免二者互溶产生中间相产物,使得在一些高温大电流的情况下,可以避免LED芯片的电压飙升,进而引发LED芯片失效的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体,具体为一种正装led芯片led芯片及制备方法。


技术介绍

1、led芯片是一种固态的半导体器件,led的心脏是一个半导体的晶片,晶片的一端附在一个支架上,一端是负极,另一端连接电源的正极,使整个晶片被环氧树脂封装起来。

2、传统的正装led芯片主要由外延片、芯片结构以及电极结构组成,外延片包含衬底、n型半导体、量子阱、p型半导体;芯片结构包含电流阻挡层、透明导电层、n型和p型电极、钝化层;电极结构包含接触层、反射层、包覆层和焊线层组成,反射层一般为al,焊线层一般为au,通过金属al对提高对光的反射能力,利用焊线层au进行打线,以实现电性连接。

3、然而,焊线层的au和反射层的al会沿着透明导电层形成的界面进行扩散,特别是在一些高温大电流的情况下,焊线层的au和反射层的al二者会进行互溶并产生中间相产物,从而导致led芯片的电压飙升,进而引发led芯片失效。


技术实现思路

1、基于此,本专利技术的目的是提供一种正装led芯片及其制备方法,以解决
技术介绍
中,现有的l本文档来自技高网
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【技术保护点】

1.一种正装LED芯片,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的正装LED芯片,其特征在于,所述钝化层中氧化物层的材料为SiO2、Al2O3中的任意一种,且所述钝化层的厚度为

3.根据权利要求1所述的正装LED芯片,其特征在于,所述电流阻挡层的厚度为且所述电流阻挡层的材料为SiO2。

4.根据权利要求1所述的正装LED芯片,其特征在于,所述透明导电层的材料为ITO,且所述透明导电层的厚度为

5.根据权利要求1所述的正装LED芯片,其特征在于,所述接触层的材料为Cr、Ti、Ni中的任意一种,且所述接触层的厚度为

6.根据权利要...

【技术特征摘要】

1.一种正装led芯片,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的正装led芯片,其特征在于,所述钝化层中氧化物层的材料为sio2、al2o3中的任意一种,且所述钝化层的厚度为

3.根据权利要求1所述的正装led芯片,其特征在于,所述电流阻挡层的厚度为且所述电流阻挡层的材料为sio2。

4.根据权利要求1所述的正装led芯片,其特征在于,所述透明导电层的材料为ito,且所述透明导电层的厚度为

5.根据权利要求1所述的正装led芯片,其特征在于,所述接触层的材料为cr、ti、ni中的任意一种,且所述接触层的厚度为

6.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员:张星星李美玲林潇雄胡加辉金从龙
申请(专利权)人:江西兆驰半导体有限公司
类型:发明
国别省市:

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