【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及合成设备，尤其是涉及一种合成装置及合成仪。
技术介绍
1、合成柱是承载载体并让载体在内部完成各种合成动作以及合成的部件。目前，合成柱通常是一个整体，采用peek材料将中间部分掏空，形成容纳载体的内孔，合成柱的底部开孔用于试剂排出。
2、然而，peek材质不透明，不方便观察合成柱内反应情况，且合成柱内孔太深，加工刀具太长容易发生抖动，导致内孔表面存在纹路，存在残留试剂的风险；此外，合成柱的底部开孔容易被载体遮住，导致试剂排出受阻，影响整体效率和载体干燥。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术的第一个目的是提供一种合成装置，旨在便于内孔加工及试剂的排出。
2、本专利技术的第二个目的是提供一种合成仪。
3、为了实现上述第一个目的，本专利技术提供了如下方案：
4、一种合成装置，包括：
5、具有内腔且两端敞口设置的反应主体；
6、封堵所述反应主体的底端开口的过滤结构，所述过滤结构包括过滤主体及密封件，所述过滤主体延伸至所述反应主体的内腔预设长度，所述密封件密封连接所述过滤主体的第一侧壁及所述反应主体的内壁，所述过滤主体位于所述密封件的上方的第二侧壁与所述反应主体的内壁之间具有预设的间隙，且所述过滤主体内开设有流通通道，所述流通通道的第一开口端位于所述反应主体外，用于连接管件，所述流通通道的第二开口端位于所述第二侧壁上。
7、在一个具体的实施方案中，所述过滤结构还包括设置在所述过滤主体的顶端的凸
8、在另一个具体的实施方案中，所述凸起为弧形凸起或者锥形凸起；
9、和/或
10、所述凸起的底端的边沿与所述过滤主体的顶端的边沿平齐设置。
11、在另一个具体的实施方案中，所述第二侧壁上开设有第一凹槽，且所述第一凹槽开设在所述第二侧壁的底端，所述流通通道的第二开口端开设在所述第一凹槽内；
12、和/或
13、所述流通通道包括主通道和子通道，所述主通道开设在所述过滤主体的底端，且沿着所述过滤主体的高度方向延伸，并在预设位置处分为至少1个所述子通道，且各个所述子通道分别延伸至所述第一凹槽内，所述主通道背离所述子通道的那端为所述流通通道的第一开口端，所述子通道与所述第一凹槽的连通口为所述流通通道的第二开口端。
14、在另一个具体的实施方案中，所述密封件包括密封圈；
15、所述过滤主体的第一侧壁上开设有第二凹槽，所述密封圈密封套装在所述第二凹槽内，且密封连接所述反应主体的内壁。
16、在另一个具体的实施方案中，所述第一侧壁的顶端与所述第二侧壁的底端连接，且所述第一侧壁至少连接所述第二侧壁的那部分与所述反应主体的内壁紧配合。
17、在另一个具体的实施方案中，所述过滤主体的底端设置有与所述反应主体的底端限位抵接的凸台。
18、在另一个具体的实施方案中，所述合成装置还包括套接在所述反应主体的底端外，且与所述凸台的顶端抵接的第一防护件。
19、在另一个具体的实施方案中，所述合成装置还包括第二防护件；
20、所述第二防护件套接在所述反应主体的顶端外；
21、所述第二防护件的顶端设置有环状耳，所述环状耳上开设有用于连接外接件的连接孔。
22、在另一个具体的实施方案中，所述第一防护件与所述反应主体的外壁间隙配合，并通过胶粘接；
23、和/或
24、所述第一防护件采用耐磨材料制成；
25、和/或
26、所述第二防护件与所述反应主体的外壁间隙配合，并通过胶粘接；
27、和/或
28、所述第二防护件采用耐磨材料制成；
29、和/或
30、所述过滤主体呈圆柱状，且所述第一凹槽为环绕所述过滤主体的周向设置的环形凹槽，所述主通道沿着所述过滤主体的轴向开设，所述子通道沿着所述过滤主体的径向开设，且当所述子通道的个数大于或者等于2个时，所有所述子通道沿着所述过滤主体的轴心线环形均布在所述过滤主体上；
31、和/或
32、所述流通通道的第一开口端处设置有与管路连接件螺纹连接的螺纹孔，且所述管路连接件用于插接管件。
33、在另一个具体的实施方案中，所述反应主体为透明管体。
34、根据本专利技术的各个实施方案可以根据需要任意组合，这些组合之后所得的实施方案也在本专利技术范围内，是本专利技术具体实施方式的一部分。
35、本专利技术提供的合成装置，由于反应主体为具有内腔且两端敞口设置的结构，因此，采用刀具加工反应主体的内腔时，可以分别从反应主体的两端伸进反应主体内进行加工，避免了仅能从一端进入加工内孔造成的刀具太长发生抖动使得内孔存在纹路的现象，即本专利技术便于加工内孔。
36、本专利技术中，通过设置密封件来密封反应主体及过滤主体，实现了过滤结构封堵反应主体的底端，使得试剂仅能通过过滤结构上的流通通道排出。由于过滤主体位于密封件的上方的第二侧壁与反应主体的内壁之间具有预设的间隙，而预设的间隙使得仅允许试剂进入，而载体并不能进入，因此，避免了芯片遮住试剂流出的开口导致试剂排出受阻的问题，进入流通通道的试剂能够沿着连接的管件输送出去。
37、为了实现上述第二个目的，本专利技术提供了如下方案：
38、一种合成仪，包括试剂供给装置、气体供给装置及如上述中任意一项所述的合成装置；
39、所述试剂供给装置用于给所述合成装置的流通通道供给试剂；
40、所述气体供给装置连通所述合成装置的顶端开口，以给所述合成装置供给气体。
41、由于本专利技术提供的合成仪包括上述任意一项中的合成装置，因此，合成装置所具有的有益效果均是本专利技术公开的合成仪所包含的。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种合成装置(1000)，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的合成装置(1000)，其特征在于，所述过滤结构(200)还包括设置在所述过滤主体(201)的顶端的凸起(201e)，且沿着底端到顶端的方向，所述凸起(201e)的横截面逐渐减小。
3.如权利要求2所述的合成装置(1000)，其特征在于，所述凸起(201e)为弧形凸起或者锥形凸起；
4.如权利要求1所述的合成装置(1000)，其特征在于，所述第二侧壁(201b)上开设有第一凹槽(201b-1)，且所述第一凹槽(201b-1)开设在所述第二侧壁(201b)的底端，所述流通通道(201c)的第二开口端开设在所述第一凹槽(201b-1)内；
5.如权利要求4所述的合成装置(1000)，其特征在于，所述密封件(202)包括密封圈；
6.如权利要求5所述的合成装置(1000)，其特征在于，所述第一侧壁(201a)的顶端与所述第二侧壁(201b)的底端连接，且所述第一侧壁(201a)至少连接所述第二侧壁(201b)的那部分与所述反应主体(100)的内壁紧配合。p>
7.如权利要求4所述的合成装置(1000)，其特征在于，所述过滤主体(201)的底端设置有与所述反应主体(100)的底端限位抵接的凸台(201d)。
8.如权利要求7所述的合成装置(1000)，其特征在于，还包括套接在所述反应主体(100)的底端外，且与所述凸台(201d)的顶端抵接的第一防护件(300)。
9.如权利要求8所述的合成装置(1000)，其特征在于，还包括第二防护件(400)；
10.如权利要求9所述的合成装置(1000)，其特征在于，所述第一防护件(300)与所述反应主体(100)的外壁间隙配合，并通过胶粘接；
11.如权利要求1-10中任意一项所述的合成装置(1000)，其特征在于，所述反应主体(100)为透明管体。
12.一种合成仪，其特征在于，包括试剂供给装置、气体供给装置及如权利要求1-11中任意一项所述的合成装置(1000)；
...【技术特征摘要】
1.一种合成装置(1000)，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的合成装置(1000)，其特征在于，所述过滤结构(200)还包括设置在所述过滤主体(201)的顶端的凸起(201e)，且沿着底端到顶端的方向，所述凸起(201e)的横截面逐渐减小。
3.如权利要求2所述的合成装置(1000)，其特征在于，所述凸起(201e)为弧形凸起或者锥形凸起；
4.如权利要求1所述的合成装置(1000)，其特征在于，所述第二侧壁(201b)上开设有第一凹槽(201b-1)，且所述第一凹槽(201b-1)开设在所述第二侧壁(201b)的底端，所述流通通道(201c)的第二开口端开设在所述第一凹槽(201b-1)内；
5.如权利要求4所述的合成装置(1000)，其特征在于，所述密封件(202)包括密封圈；
6.如权利要求5所述的合成装置(1000)，其特征在于，所述第一侧壁(201a)的顶端与所述第二侧壁(201b)的底端连接，且所述第一侧壁(201a)至...
【专利技术属性】
技术研发人员：孟宗发，蔡冬，朱礼浩，胡定龙，沈梦哲，沈玥，梁承龙，
申请(专利权)人：深圳华大生命科学研究院，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。