【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于电镀,具体涉及一种半导体无氰电镀金镀液的制备方法及装置。
技术介绍
1、镀金是利用电解或者化学方法,将金均匀地附着在金属或者其他物体的表面,形成的一层薄金。镀金可以用来装饰物体,也可以对物体起到防腐蚀的作用,同时利用金良好的导电性能,可以减小电阻,提高导电率,因此电镀金在半导体中有着广泛应用。
2、目前电镀金主要分为氰化物镀金和无氰化物镀金两类,氰化物镀金化学稳定性好,金盐制备简单、成本低,镀层光亮性好,性能优异。但是氰化物镀金含有剧毒的氰化物,对环境和操作人员有害,因此限制了有氰电镀的应用。
3、在公开号为cn 115787009 a的中国专利中,提到了一种半导体无氰电镀金镀液,所述镀液包含:金的亚硫酸盐15—30g/l、导电盐20—40g/l、ph缓冲剂5—10g/l、络合剂10—15g/l、添加剂5—10mg/l;所述添加剂包括酒石酸锑钾、亚硒酸铵、聚乙二醇和异构醇聚氧乙烯醚;所述络合剂为乙二胺四亚甲基膦酸和丙二胺的复配,上述提供的半导体无氰电镀金镀液,镀金层厚度均一,镀金层粒子结晶细化,提高
...【技术保护点】
1.一种半导体无氰电镀金镀液,其特征在于,按质量分数比包括:
2.根据权利要求1所述的一种半导体无氰电镀金镀液,其特征在于:所述金盐为氯金酸盐、亚硫酸金盐和硫代硫酸金钠中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的一种半导体无氰电镀金镀液,其特征在于:所述配位剂为亚硫酸钾或亚硫酸钠,用于将金盐中金还原为一价并配位。
4.根据权利要求1所述的一种半导体无氰电镀金镀液,其特征在于:所述高效能添加剂为乙二胺四乙酸。
5.根据权利要求1所述的一种半导体无氰电镀金镀液,其特征在于:所述光亮剂为盐酸氨基脲或硫酸高铈,用于提高电镀层表面的
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【技术特征摘要】
1.一种半导体无氰电镀金镀液,其特征在于,按质量分数比包括:
2.根据权利要求1所述的一种半导体无氰电镀金镀液,其特征在于:所述金盐为氯金酸盐、亚硫酸金盐和硫代硫酸金钠中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的一种半导体无氰电镀金镀液,其特征在于:所述配位剂为亚硫酸钾或亚硫酸钠,用于将金盐中金还原为一价并配位。
4.根据权利要求1所述的一种半导体无氰电镀金镀液,其特征在于:所述高效能添加剂为乙二胺四乙酸。
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【专利技术属性】
技术研发人员:王彤,李京波,张梦龙,任长友,邓川,
申请(专利权)人:深圳市联合蓝海应用材料科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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