一种旋转溅射靶及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种旋转溅射靶及其制作方法。包括底座、竖直放置的金属内筒和套设在金属内筒外的圆筒形靶材，圆筒形靶材与底座之间相密封；在金属内筒内设置有第一加热器，在圆筒形靶材外套设有第二加热器；在金属内筒和圆筒形靶材达到低熔点金属的熔化温度后，在金属内筒与圆筒形靶材之间填充熔融状态的低熔点金属，然后冷却圆筒形靶材。本发明专利技术使得陶瓷圆筒形靶材与机械强度较高、易于密封与导电导热的金属衬底圆筒紧密可靠地接合，提高了陶瓷圆筒形靶材的利用率，具有放电稳定、使用功率高、镀膜效率高等优点；用垂直方法对旋转靶和衬底圆筒之间用低熔点金属进行粘接，解决了圆筒形靶材粘接的难点问题，操作简单方便。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及物理气相沉积磁控溅射薄膜技术，具体地说是。
技术介绍
旋转圆筒形靶材以其高的圆筒形靶材利用率、放电稳定、使用功率高、镀膜效率高 而受到磁控溅射镀膜业界的青睐。起先使用的主要是金属旋转圆筒形靶材，采用在较高熔 点金属圆筒上浇铸圆筒形靶材金属的方法获得金属旋转靶。 专利技术专利名称一种旋转磁控溅射靶，申请号200710022277. 4，公开了一种旋转 磁控溅射靶，包括极靴、永磁体及中空圆柱圆筒形靶材，永磁体沿中空圆柱圆筒形靶材的轴 向嵌于极靴内，所述极靴沿圆周方向在朝基体一侧120度范围内均匀设置三排永磁体，所 述永磁体包括长永久磁条和短永久磁条，其中间位置布置短永久磁条，两侧位置各为一长 永久磁条，所述中空圆柱圆筒形靶材的外周安装有屏蔽罩，所述屏蔽罩在永磁体面向基体 的一面开有溅射口 ；所述长短磁条的极性相反，极化方向垂直于溅射阴极中心轴线，极靴两 端的磁环与长短永久磁条构成闭合跑道形磁力线；工作放电时，朝向基体一侧的120度范 围内构成一个封闭的沿轴向的跑道形放电轨迹对基体进行镀膜，背向基体的一侧无磁场控 制。 上述专利公开的技术方案无法实现中空圆柱圆筒形靶材的制本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种旋转溅射靶，其特征是：包括金属内筒（１）和与其同轴心的圆筒形靶材（２）以及设置在金属内筒（１）和圆筒形靶材（２）之间的低熔点金属粘接层（３ａ）；沿金属内筒（１）的轴线，在金属内筒（１）外表面粘接有至少一段圆筒形靶材（２）。

【技术特征摘要】
一种旋转溅射靶，其特征是包括金属内筒(1)和与其同轴心的圆筒形靶材(2)以及设置在金属内筒(1)和圆筒形靶材(2)之间的低熔点金属粘接层(3a)；沿金属内筒(1)的轴线，在金属内筒(1)外表面粘接有至少一段圆筒形靶材(2)。2. 根据权利要求l所述的一种旋转溅射靶，其特征是所述的圆筒形靶材(2)为金属、合金、氧化物陶瓷圆筒或非氧化物陶瓷圆筒。3. —种旋转溅射靶的制作方法，其特征是包括底座(4)、竖直放置在底座(4)上金属内筒(1)和套设在金属内筒(1)外的圆筒形靶材(2)，圆筒形靶材(2)与底座之间相密封；在金属内筒(1)内设置有将金属内筒(1)加热到低熔点金属(3)熔化温度的第一加热器 (5)，在圆筒形靶材(2)外套设有将圆筒形靶材(2)加热到低熔点金属(3)熔化温度的第 二加热器(6);使金属内筒(1)和圆筒形靶材(2)达到低熔点金属(3)的熔化温度后，在金 属内筒(1)与圆筒形靶材(2)之间填充熔融状态的低熔点金属(3)，然后冷却圆筒形靶材 (2)。4. 根据权利要求3所述的一种旋转溅射靶的制作方法，其特征是在金属内筒(1)上 粘接一段圆筒形靶材(2)后，在该段圆筒形靶材(2)片的上方排列下一段圆筒形靶材(2a) 并密封下一段圆筒形靶材(2a)的下端，在下一段圆筒形靶材(2a)与金属内筒(1)之间填 充熔融状态的低熔点金属(3)，冷却后...

【专利技术属性】
技术研发人员：王琦，
申请(专利权)人：王琦，
类型：发明
国别省市：97[中国|宁波]