氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备制造技术

本申请涉及氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备，辊刷件与设备主体滚动相连，清洗组件设于设备主体上，清洗组件和辊刷件依次设置，第一驱动气缸和第二驱动气缸依次设于设备主体上，第一限位门和烘干器设于第一驱动气缸的驱动端相背的两侧，第二限位门与第二驱动气缸相连，在设备主体驱动氮化铝陶瓷基片移动至第一位置时，清洗组件开启，辊刷件转动；在设备主体驱动氮化铝陶瓷基片移动至第二位置时，第二驱动气缸驱动第二限位门移动至与氮化铝陶瓷基片限位配合，第一驱动气缸驱动第一限位门移动，烘干器开启。上述方案能够解决陶瓷基板在清洗后会附有杂质，而在划线过程中，杂质会影响激光对氮化铝陶瓷基板划线的槽深精度的把控，从而导致划线效果不佳。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及氮化铝陶瓷基片，特别是涉及一种氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备。

技术介绍

1、氮化铝具有优良的导热性（为氧化铝陶瓷的 5-10倍），较低的介电常数和清洗介质损耗，可靠的绝缘性能，优良的力学性能，无毒，耐高温，耐化学腐蚀，且与硅的热膨胀系数相近，广泛应用于通讯器件、高亮度led、电力电子器件等行业，是理想的大规模集成电路散热基板和封装材料。

2、氮化铝陶瓷基板采用流延法进行加工时，通常先在陶瓷粉料中加入溶剂、分散剂、粘结剂、增塑剂等成分，球磨得到稳定、均一的陶瓷浆料，陶瓷浆料经过脱泡处理后在流延机上进行流延，干燥后形成一层生瓷片，生瓷片按照需要的尺寸进行烧结、清洗、划线等工序，得到陶瓷薄片。

3、相关技术中，在氮化铝陶瓷基板的清洗工艺过程中，通过湿法清洗工艺对氮化铝陶瓷基板进行清洗，具体地，将氮化铝陶瓷基板依次经过酸洗和水洗工序，氮化铝陶瓷基板在经过激光划线后，划线位置存留有黑边（即氧化铝等杂质），通过酸洗工序能够将黑边进行溶解，再经过水洗来稀释氮化铝陶瓷基板附着的酸液和杂质，然而陶瓷基板在清洗后表面会附着有氮化硼粉、酸碱残留物等杂质，而在划线过程中，杂质会影响激光对氮化铝陶瓷基板划线的槽深精度的把控，从而导致划线效果不佳。

技术实现思路

1、基于此，提供一种氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备，以解决相关技术中陶瓷基板在清洗后表面会附着有氮化硼粉、酸碱残留物等杂质，而在划线过程中，杂质会影响激光对氮化铝陶瓷基板划线的槽深精度的把控，从而导致划线效果不佳的问题。</p>

2、一种氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备，包括设备主体、辊刷件、第一驱动气缸、第二驱动气缸、第一限位门、第二限位门、烘干器和清洗组件，所述辊刷件与所述设备主体滚动相连，所述清洗组件设于所述设备主体上，所述清洗组件和所述辊刷件沿重力方向依次设置，所述第一驱动气缸和所述第二驱动气缸在沿第一方向上依次间隔设于所述设备主体上，所述第一限位门和所述烘干器设于所述第一驱动气缸的驱动端沿所述第一方向相背的两侧，所述第二限位门与所述第二驱动气缸的驱动端相连，所述设备主体承载有氮化铝陶瓷基片，在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于第一状态的情况下，所述设备主体驱动所述氮化铝陶瓷基片移动至第一位置，所述清洗组件开启，所述氮化铝陶瓷基片与所述辊刷件接触，所述辊刷件转动；在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于第二状态的情况下，所述设备主体驱动所述氮化铝陶瓷基片移动至第二位置，所述第二驱动气缸驱动所述第二限位门移动至与所述氮化铝陶瓷基片限位配合，所述第一驱动气缸驱动所述第一限位门移动，所述烘干器随所述第一限位门移动而邻近所述氮化铝陶瓷基片，所述烘干器开启。

3、优选地，上述一种氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备中，所述设备主体包括壳体、滚筒输送组件和驱动电机，所述辊刷件和所述滚筒输送组件均与所述壳体滚动相连，所述清洗组件、所述辊刷件和所述滚筒输送组件沿所述重力方向依次设置，所述驱动电机设于所述壳体上，所述驱动电机的驱动端与所述滚筒输送组件通过传动链条传动配合，所述滚筒输送组件承载有氮化铝陶瓷基片，在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于所述第一状态的情况下，所述驱动电机驱动所述滚筒输送组件转动，所述氮化铝陶瓷基片随所述滚筒输送组件转动而移动至所述第一位置处，所述氮化铝陶瓷基片位于所述辊刷件和所述滚筒输送组件之间，且所述辊刷件和所述滚筒输送组件均与所述氮化铝陶瓷基片接触；在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于所述第二状态的情况下，所述驱动电机驱动所述滚筒输送组件转动，所述氮化铝陶瓷基片随所述滚筒输送组件转动而移动至所述第二位置处。

4、优选地，上述一种氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备中，所述辊刷件包括电动滚筒和金刚石辊刷层，所述金刚石辊刷层套设在所述电动滚筒上，所述电动滚筒与所述设备主体滚动相连。

5、优选地，上述一种氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备中，所述辊刷件为多个，所述多个辊刷件沿所述第一方向依次与所述设备主体滚动相连，在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于所述第一状态的情况下，所述第一驱动气缸驱动所述第一限位门移动至与所述氮化铝陶瓷基片限位配合，所述多个辊刷件均转动。

6、优选地，上述一种氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备中，还包括气吹组件和气源箱，所述气源箱设于所述设备主体上，所述气吹组件与所述气源箱连通，所述气吹组件和所述第二限位门设于所述第二驱动气缸的驱动端沿所述第一方向相背的两侧，在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于第三状态的情况下，所述设备主体驱动所述氮化铝陶瓷基片移动至第三位置，所述第二驱动气缸驱动所述第二限位门移动，所述气吹组件随所述第二限位门移动而邻近所述氮化铝陶瓷基片，所述气源箱开启。

7、优选地，上述一种氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备中，还包括第三驱动气缸和第三限位门，所述第一驱动气缸、所述第二驱动气缸和所述第三驱动气缸在沿第一方向上依次间隔设于所述设备主体上，所述第三限位门与所述第三驱动气缸的驱动端相连，在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于所述第三状态的情况下，所述第三驱动气缸驱动所述第三限位门移动至与所述氮化铝陶瓷基片限位配合。

8、优选地，上述一种氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备中，所述清洗组件包括水箱和浇水管组，所述水箱和所述浇水管组设于所述设备主体上，所述浇水管组和所述辊刷件沿重力方向依次设置。

9、优选地，上述一种氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备中，还包括接水盘，所述接水盘可拆卸地设于所述壳体上，所述清洗组件、所述辊刷件、所述滚筒输送组件和所述接水盘沿所述重力方向依次设置。

10、本申请采用的技术方案能够达到以下有益效果：

11、在本申请公开的氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备中，辊刷件与设备主体滚动相连，清洗组件设于设备主体上，清洗组件和辊刷件沿重力方向依次设置，第一驱动气缸和第二驱动气缸在沿第一方向上依次间隔设于设备主体上，第一限位门和烘干器设于第一驱动气缸的驱动端沿第一方向（即输送方向）相背的两侧，第二限位门与第二驱动气缸的驱动端相连，设备主体承载有氮化铝陶瓷基片。

12、在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于第一状态（即辊刷状态）的情况下，设备主体驱动氮化铝陶瓷基片移动至第一位置，清洗组件开启，清洗组件沿重力方向喷水至辊刷件和氮化铝陶瓷基片，氮化铝陶瓷基片与辊刷件接触，辊刷件转动，辊刷件能够对移动的氮化铝陶瓷基片的表面进行辊刷打磨，以使氮化铝陶瓷基片表面附着的氮化硼粉、酸碱残留物等杂质能够被辊刷下来，清洗组件喷出的水不仅能够对辊刷件起到润滑作用，避免氮化铝陶瓷基片被刮伤，同时，清洗组件喷出的水能够清洗冲刷杂质，从而提高氮化铝陶瓷基片表面的洁净度，从而保证后续划线工艺的效果。

13、在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于第二状态（即烘干状态）的情况下，设备主体驱动氮化铝陶瓷基片移动至第二位置，第二驱动气缸驱动第二限位门移动至与氮化铝陶瓷基片限位配合，以避免氮化铝陶瓷基片过度移动，第一驱动气缸驱动第一限位门移动，烘干器随第一限位门移动而邻近氮化铝陶瓷基片，烘干器开启，以使烘干器能够对本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备，其特征在于，包括设备主体、辊刷件、第一驱动气缸、第二驱动气缸、第一限位门、第二限位门、烘干器和清洗组件，所述辊刷件与所述设备主体滚动相连，所述清洗组件设于所述设备主体上，所述清洗组件和所述辊刷件沿重力方向依次设置，所述第一驱动气缸和所述第二驱动气缸在沿第一方向上依次间隔设于所述设备主体上，所述第一限位门和所述烘干器设于所述第一驱动气缸的驱动端沿所述第一方向相背的两侧，所述第二限位门与所述第二驱动气缸的驱动端相连，所述设备主体承载有氮化铝陶瓷基片，在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于第一状态的情况下，所述设备主体驱动所述氮化铝陶瓷基片移动至第一位置，所述清洗组件开启，所述氮化铝陶瓷基片与所述辊刷件接触，所述辊刷件转动；在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于第二状态的情况下，所述设备主体驱动所述氮化铝陶瓷基片移动至第二位置，所述第二驱动气缸驱动所述第二限位门移动至与所述氮化铝陶瓷基片限位配合，所述第一驱动气缸驱动所述第一限位门移动，所述烘干器随所述第一限位门移动而邻近所述氮化铝陶瓷基片，所述烘干器开启。

2.根据权利要求1所述的氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备，其特征在于，所述设备主体包括壳体、滚筒输送组件和驱动电机，所述辊刷件和所述滚筒输送组件均与所述壳体滚动相连，所述清洗组件、所述辊刷件和所述滚筒输送组件沿所述重力方向依次设置，所述驱动电机设于所述壳体上，所述驱动电机的驱动端与所述滚筒输送组件通过传动链条传动配合，所述滚筒输送组件承载有氮化铝陶瓷基片，在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于所述第一状态的情况下，所述驱动电机驱动所述滚筒输送组件转动，所述氮化铝陶瓷基片随所述滚筒输送组件转动而移动至所述第一位置处，所述氮化铝陶瓷基片位于所述辊刷件和所述滚筒输送组件之间，且所述辊刷件和所述滚筒输送组件均与所述氮化铝陶瓷基片接触；在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于所述第二状态的情况下，所述驱动电机驱动所述滚筒输送组件转动，所述氮化铝陶瓷基片随所述滚筒输送组件转动而移动至所述第二位置处。

3.根据权利要求1所述的氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备，其特征在于，所述辊刷件包括电动滚筒和金刚石辊刷层，所述金刚石辊刷层套设在所述电动滚筒上，所述电动滚筒与所述设备主体滚动相连。

4.根据权利要求1所述的氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备，其特征在于，所述辊刷件为多个，所述多个辊刷件沿所述第一方向依次与所述设备主体滚动相连，在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于所述第一状态的情况下，所述第一驱动气缸驱动所述第一限位门移动至与所述氮化铝陶瓷基片限位配合，所述多个辊刷件均转动。

5.根据权利要求1所述的氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备，其特征在于，还包括气吹组件和气源箱，所述气源箱设于所述设备主体上，所述气吹组件与所述气源箱连通，所述气吹组件和所述第二限位门设于所述第二驱动气缸的驱动端沿所述第一方向相背的两侧，在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于第三状态的情况下，所述设备主体驱动所述氮化铝陶瓷基片移动至第三位置，所述第二驱动气缸驱动所述第二限位门移动，所述气吹组件随所述第二限位门移动而邻近所述氮化铝陶瓷基片，所述气源箱开启。

6.根据权利要求5所述的氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备，其特征在于，还包括第三驱动气缸和第三限位门，所述第一驱动气缸、所述第二驱动气缸和所述第三驱动气缸在沿第一方向上依次间隔设于所述设备主体上，所述第三限位门与所述第三驱动气缸的驱动端相连，在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于所述第三状态的情况下，所述第三驱动气缸驱动所述第三限位门移动至与所述氮化铝陶瓷基片限位配合。

7.根据权利要求1所述的氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备，其特征在于，所述清洗组件包括水箱和浇水管组，所述水箱和所述浇水管组设于所述设备主体上，所述浇水管组和所述辊刷件沿重力方向依次设置。

8.根据权利要求2所述的氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备，其特征在于，还包括接水盘，所述接水盘可拆卸地设于所述壳体上，所述清洗组件、所述辊刷件、所述滚筒输送组件和所述接水盘沿所述重力方向依次设置。

...

【技术特征摘要】

1.一种氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备，其特征在于，包括设备主体、辊刷件、第一驱动气缸、第二驱动气缸、第一限位门、第二限位门、烘干器和清洗组件，所述辊刷件与所述设备主体滚动相连，所述清洗组件设于所述设备主体上，所述清洗组件和所述辊刷件沿重力方向依次设置，所述第一驱动气缸和所述第二驱动气缸在沿第一方向上依次间隔设于所述设备主体上，所述第一限位门和所述烘干器设于所述第一驱动气缸的驱动端沿所述第一方向相背的两侧，所述第二限位门与所述第二驱动气缸的驱动端相连，所述设备主体承载有氮化铝陶瓷基片，在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于第一状态的情况下，所述设备主体驱动所述氮化铝陶瓷基片移动至第一位置，所述清洗组件开启，所述氮化铝陶瓷基片与所述辊刷件接触，所述辊刷件转动；在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于第二状态的情况下，所述设备主体驱动所述氮化铝陶瓷基片移动至第二位置，所述第二驱动气缸驱动所述第二限位门移动至与所述氮化铝陶瓷基片限位配合，所述第一驱动气缸驱动所述第一限位门移动，所述烘干器随所述第一限位门移动而邻近所述氮化铝陶瓷基片，所述烘干器开启。

2.根据权利要求1所述的氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备，其特征在于，所述设备主体包括壳体、滚筒输送组件和驱动电机，所述辊刷件和所述滚筒输送组件均与所述壳体滚动相连，所述清洗组件、所述辊刷件和所述滚筒输送组件沿所述重力方向依次设置，所述驱动电机设于所述壳体上，所述驱动电机的驱动端与所述滚筒输送组件通过传动链条传动配合，所述滚筒输送组件承载有氮化铝陶瓷基片，在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于所述第一状态的情况下，所述驱动电机驱动所述滚筒输送组件转动，所述氮化铝陶瓷基片随所述滚筒输送组件转动而移动至所述第一位置处，所述氮化铝陶瓷基片位于所述辊刷件和所述滚筒输送组件之间，且所述辊刷件和所述滚筒输送组件均与所述氮化铝陶瓷基片接触；在氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备处于所述第二状态的情况下，所述驱动电机驱动所述滚筒输送组件转动，所述氮化铝陶瓷基片随所述滚筒输送组件转动而移动至所述第二位置...

【专利技术属性】
技术研发人员：关玉龙，袁振侠，马平，何雪冰，付民善，
申请(专利权)人：宁夏北瓷新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：