【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电子束，尤其涉及一种电子束分束模块及电子束分束模块制备方法。
技术介绍
1、电子束光刻机通过高能电子束轰击光刻胶，刻写数据图案，在高分辨率、高精度掩模制备中具有不可替代的作用。但是，随着芯片特征尺寸的不断减小，使用单电子束光刻机制备掩模存在产率过低的问题，限制了其在工业中的应用。近些年研发的多电子束光刻机通过大量电子束阵列方式进行曝光，可极大地提高掩模版的加工制作效率。但是，作为产生阵列电子束的关键器件——电子束分束模块，其工作原理是依靠其上设置的光阑孔阵列来产生阵列电子束，即来自电子枪的电子束在通过光阑孔阵列后形成所需的阵列电子束，来自电子枪的大部分电子会被分束模块上未设置光阑孔的区域所截留。因此，电子束分束模块在工作过程中会截留来自电子枪的大部分电子，而这些高能电子撞击在分束模块上会产生严重的热效应，导致其上面的光阑孔在热应力的作用下发生畸变，影响通过光阑孔的电子束在掩模板上形成的束斑形状，导致图形精度下降，严重影响多电子束光刻机的性能。由于分束模块的特殊结构(多光阑孔结构)和工作中所处的真空密闭环境因而难以实现通过外...
【技术保护点】
1.一种电子束分束模块，其特征在于，包括有分束模块本体，所述分束模块本体的一侧面上设置有反射层，所述反射层上设置有荧光粉层，所述荧光粉层由阴极射线荧光粉形成。
2.根据权利要求1所述的电子束分束模块，其特征在于，所述分束模块本体包括第一基底和第二基底，所述第一基底和所述第二基底组合形成分束模块本体，所述反射层设置在第一基底的远离第二基底的一面上。
3.根据权利要求1所述的电子束分束模块，其特征在于，所述荧光粉层厚度为9μm。
4.根据权利要求1所述的电子束分束模块，其特征在于，所述反射层厚度为1μm。
5.根据权利要求2...
【技术特征摘要】
1.一种电子束分束模块，其特征在于，包括有分束模块本体，所述分束模块本体的一侧面上设置有反射层，所述反射层上设置有荧光粉层，所述荧光粉层由阴极射线荧光粉形成。
2.根据权利要求1所述的电子束分束模块，其特征在于，所述分束模块本体包括第一基底和第二基底，所述第一基底和所述第二基底组合形成分束模块本体，所述反射层设置在第一基底的远离第二基底的一面上。
3.根据权利要求1所述的电子束分束模块，其特征在于，所述荧光粉层厚度为9μm。
4.根据权利要求1所述的电子束分束模块，其特征在于，所述反射层厚度为1μm。
5.根据权利要求2所述的电子束分束模块，其特征在于，所述第一基底厚度为20μm，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：张衍俊，刘珠明，陈志涛，
申请(专利权)人：广东省科学院半导体研究所，
类型：发明
国别省市：
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