【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及研磨领域，具体是涉及一种分散式纳米材料生产用研磨装置，还涉及一种分散式纳米材料生产用研磨装置的使用方法。
技术介绍
1、现有的研磨分散器及研磨装置在工作时，在分散器高速转动的作用下研磨球在筒体内壁运动，无法形成多个研磨环流，使得远离分散器的研磨球和物料无法与分布在分散器较近区域的研磨球和物料之间和上下分布的研磨球和物料之间产生接触，研磨效率较低，而采用一般的磨盘式分散结构进行分散，容易导致纳米材料在研磨时发生堆积的现象，造成纳米材料研磨效率低下，需要更长的工作时间，从而会影响后续的生产。
2、公告号为cn112517141b的中国专利一种碳纳米管浆料生产用高效磨盘式分散结构及分散方法，包括壳体、分散装置、提升装置，所述壳体底部设置支撑架，所述壳体顶部一侧设有进料斗，壳体内部的上下两端分别设有研磨腔和输送腔，所述研磨腔与输送腔之间设有研磨隔板，所述研磨隔板上开设有多个漏孔，使得研磨腔与输送腔之间通过所述漏孔进行连通，所述研磨腔的上端设有圆环状的导料凸台，所述导料凸台上表面呈向下倾斜设置，研磨腔的内壁上设有研磨内衬，所述壳体底部两侧分别连接设有出料管和导料管，所述出料管和导料管与所述输送腔连通，且出料管和导料管均呈倾斜向下设置，所述出料管和导料管靠近壳体的一端中分别设置有第一电磁阀和第二电磁阀；所述分散装置包括第一电机、第二电机、上转轴、下转轴，所述第一电机和第二电机分别固定设置在壳体的顶部和底部，所述第一电机的输出轴贯穿壳体顶部并连接所述上转轴，所述上转轴的底端垂直连接有研磨篮，所述研磨篮为中空结构，且研
3、根据上述专利所述，该专利通过第一电机带动研磨篮转动，并且研磨篮与研磨腔上研磨内衬相配合对碳纳米管浆料进行研磨分散，同时浆料通过研磨篮上的通孔流入到研磨篮的内腔中，并通过上磨盘和下磨盘与研磨篮的内壁配合进行研磨分散，然而该专利的纳米材料在进入研磨篮中后是处于集中的状态，在研磨时不能保证完全分散开来，从而容易导致纳米材料在研磨篮中堆积，造成研磨效率低下，因此，目前需要一种能够分散开纳米材料再进行研磨的研磨装置。
技术实现思路
1、针对现技术所存在的问题，提供一种分散式纳米材料生产用研磨装置，本专利技术通过离心盘对纳米材料的离心甩出，使得纳米材料分散的洒落在分散撒料组件上，而随着范围控制组件控制着纳米材料甩出的范围，使得纳米材料均匀的分布在分散撒料组件的各个部分，从而以分散的形式进入一级研磨组件中，提高了研磨效率。
2、为解决现有技术问题，本专利技术提供一种分散式纳米材料生产用研磨装置，设置在研磨料仓中，研磨料仓的顶部和底部分别开设有进料口和出料口，研磨料仓中的上半部设有振动料斗，研磨料仓上设有用以驱动振动料斗的振动器，研磨料仓中设有与振动料斗同轴的旋转轴，研磨料仓的顶部设有用以驱动旋转轴的主电机，研磨装置包括安装在旋转轴上且位于研磨料仓下半部的一级研磨组件以及一级研磨组件下方设置的二级研磨组件，研磨装置还包括用以将纳米材料分散开供一级研磨组件研磨的分散机构，分散机构设有离心盘，离心盘固定套设在旋转轴上，离心盘位于振动料斗的下方，离心盘的顶面沿着其圆周方向均匀分布有多个与旋转轴相切的离心条，分散机构还设有用以控制纳米材料在离心力下被甩出距离的范围控制组件，离心盘处于范围控制组件中，范围控制组件位于一级研磨组件的上方，一级研磨组件和范围控制组件之间还设有分散撒料组件，范围控制组件设有变径套环，变径套环同轴套设在离心盘上，研磨料仓的内部设有用以驱使变径套环改变口径的变径驱动件，当离心盘上的纳米材料被抛出的过程中，变径套环的口径处于从小到大再从大到小往复变化的状态，变径套环由多个第一弧片构成，多个第一弧片之间围绕形成变径套环，每两个相邻的第一弧片之间均设有一个第二弧片，第二弧片与第一弧片共轴心，每个第一弧片的外表面均开设有供第二弧片围绕轴心转动的卡槽，变径套环与研磨料仓的内壁之间设有一个橡胶环套，每个第一弧片的顶部均与橡胶环套固定连接，每个第一弧片的底部均设有一个滑块，固定底盘上对应每个滑块的条形刮板上沿着其长度方向均开设有供滑块滑动的滑槽，滑槽向外延伸的尽头处设有触碰开关，当滑块与触碰开关接触时，变径驱动件控制着第一弧片处于朝向靠近离心盘的方向所移动的状态。
3、优选的，变径驱动件设有旋转环，旋转环转动套设在研磨料仓中，每个第一弧片与旋转环之间均铰接设有一个连杆，研磨料仓中设有用以驱动旋转环转动的旋转驱动器，当旋转环正反往复旋转时，第一弧片在连杆的推拉下处于远离或靠近离心盘的运动状态。
4、优选的，分散撒料组件设有固定底盘和旋转底盘，固定底盘设置在变径套环的下方，固定底盘与研磨料仓固定连接，固定底盘与离心盘之间通过轴承连接，固定底盘上从内到外沿着其圆周方向均匀开设有若干个落料口，旋转底盘转动设置在固定底盘的底部，旋转底盘与离心盘同轴且固定连接，旋转底盘上沿着其圆周方向均匀开设有若干个从中心向边缘方向延伸的条口。
5、优选的，固定底盘的底部沿着其圆周方向均匀设有若干个与旋转底盘的表面所接触的条形刮板，每个条形刮板均平行于固定底盘的轴心线。
6、优选的，一级研磨组件设有固定锥筒、第一旋转锥筒和第二旋转锥筒，固定锥筒同轴且固定设置在研磨料仓的下半部，固定锥筒位于旋转底盘的中部，第一旋转锥筒同轴套设在固定锥筒的内部，第二旋转锥筒同轴套设在固定锥筒的外部，第一旋转锥筒的顶部与旋转底盘的内侧固定，第一旋转锥筒的底部与旋转轴固定，第二旋转锥筒的上端与旋转底盘的外侧固定，第二旋转锥筒的底部与研磨料仓之间通过轴承连接，第一旋转锥筒和固定锥筒之间形成第一研磨腔，第二旋转锥筒和固定锥筒之间形成第二研磨腔，固定锥筒的内壁设有布满的第一内研磨凸点，固定锥筒的外壁设有布满的第一外研磨凸点，第一旋转锥筒的外侧设有布满的第二外研磨凸点，第二旋转锥筒的内侧设有布满的第二内研磨凸点。<本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种分散式纳米材料生产用研磨装置，设置在研磨料仓（1）中，研磨料仓（1）的顶部和底部分别开设有进料口（11）和出料口（12），研磨料仓（1）中的上半部设有振动料斗（2），研磨料仓（1）上设有用以驱动振动料斗（2）的振动器（21），研磨料仓（1）中设有与振动料斗（2）同轴的旋转轴（3），研磨料仓（1）的顶部设有用以驱动旋转轴（3）的主电机（31），研磨装置包括安装在旋转轴（3）上且位于研磨料仓（1）下半部的一级研磨组件（4）以及一级研磨组件（4）下方设置的二级研磨组件（6），其特征在于，研磨装置还包括用以将纳米材料分散开供一级研磨组件（4）研磨的分散机构（5），分散机构（5）设有离心盘（51），离心盘（51）固定套设在旋转轴（3）上，离心盘（51）位于振动料斗（2）的下方，离心盘（51）的顶面沿着其圆周方向均匀分布有多个与旋转轴（3）相切的离心条（511），分散机构（5）还设有用以控制纳米材料在离心力下被甩出距离的范围控制组件（52），离心盘（51）处于范围控制组件（52）中，范围控制组件（52）位于一级研磨组件（4）的上方，一级研磨组件（4）和范围控制组件（52）之间还设有分
2.根据权利要求1所述的一种分散式纳米材料生产用研磨装置，其特征在于，变径驱动件（522）设有旋转环（5221），旋转环（5221）转动套设在研磨料仓（1）中，每个第一弧片（5211）与旋转环（5221）之间均铰接设有一个连杆（5222），研磨料仓（1）中设有用以驱动旋转环（5221）转动的旋转驱动器（5223），当旋转环（5221）正反往复旋转时，第一弧片（5211）在连杆（5222）的推拉下处于远离或靠近离心盘（51）的运动状态。
3.根据权利要求1所述的一种分散式纳米材料生产用研磨装置，其特征在于，分散撒料组件（53）设有固定底盘（531）和旋转底盘（532），固定底盘（531）设置在变径套环（521）的下方，固定底盘（531）与研磨料仓（1）固定连接，固定底盘（531）与离心盘（51）之间通过轴承连接，固定底盘（531）上从内到外沿着其圆周方向均匀开设有若干个落料口（5311），旋转底盘（532）转动设置在固定底盘（531）的底部，旋转底盘（532）与离心盘（51）同轴且固定连接，旋转底盘（532）上沿着其圆周方向均匀开设有若干个从中心向边缘方向延伸的条口（5321），固定底盘（531）的底部沿着其圆周方向均匀设有若干个与旋转底盘（532）的表面所接触的条形刮板（5312），每个条形刮板（5312）均平行于固定底盘（531）的轴心线。
4.根据权利要求1所述的一种分散式纳米材料生产用研磨装置，其特征在于，一级研磨组件（4）设有固定锥筒（41）、第一旋转锥筒（42）和第二旋转锥筒（43），固定锥筒（41）同轴且固定设置在研磨料仓（1）的下半部，固定锥筒（41）位于旋转底盘（532）的中部，第一旋转锥筒（42）同轴套设在固定锥筒（41）的内部，第二旋转锥筒（43）同轴套设在固定锥筒（41）的外部，第一旋转锥筒（42）的顶部与旋转底盘（532）的内侧固定，第一旋转锥筒（42）的底部与旋转轴（3）固定，第二旋转锥筒（43）的上端与旋转底盘（532）的外侧固定，第二旋转锥筒（43）的底部与研磨料仓（1）之间通过轴承连接，第一旋转锥筒（42）和固定锥筒（41）之间形成第一研磨腔，第二旋转锥筒（43）和固定锥筒（41）之间形成第二研磨腔，固定锥筒（41）的内壁设有布满的第一内研磨凸点（411），固定锥筒（41）的外壁设有布满的第一外研磨凸点（412），第一旋转锥筒（42）的外侧设有布满的第二外研磨凸点（421），第二旋转锥筒（43）的内侧设有布满的第二内研磨凸点（431）。
5.根据权利要求1所述的一种分散式纳米材料生产用研磨装置，其特征在于，二级研磨组件（6）包括：安装支架体一（7）和安装支架体二（47），安装支架体一（7）和安装支架体二（47）固定连接于研磨料仓（1）的支架上，两组出料管（9）一端通过安装套环（8）与出料口（12）进行安装，两组出料管（9）另一端固定贯穿安装支架体一（7）并延伸至二级研磨架（28）内，出料管（9）外壁安装有转动阀（10），且转动阀（10）外壁套接有驱动齿轮一（13），第一连杆（14）一端与安装套环（8）底部转动连接，第一连杆（14）另一端与安装支架体一（7）顶部转动连接，驱动齿轮二（15）和驱动齿轮三（16）从上到下固定套接于第一连杆（14）外壁，且驱动齿轮一（13）与驱动齿轮二（15）相啮合，齿杆（17）与驱动齿轮三（16）相啮合，固定板一（18）一侧与齿杆（17）固定连接，固定板一（18）另一侧固定连接有连接块（22），连接块（22）上开设有定...
【技术特征摘要】
1.一种分散式纳米材料生产用研磨装置，设置在研磨料仓（1）中，研磨料仓（1）的顶部和底部分别开设有进料口（11）和出料口（12），研磨料仓（1）中的上半部设有振动料斗（2），研磨料仓（1）上设有用以驱动振动料斗（2）的振动器（21），研磨料仓（1）中设有与振动料斗（2）同轴的旋转轴（3），研磨料仓（1）的顶部设有用以驱动旋转轴（3）的主电机（31），研磨装置包括安装在旋转轴（3）上且位于研磨料仓（1）下半部的一级研磨组件（4）以及一级研磨组件（4）下方设置的二级研磨组件（6），其特征在于，研磨装置还包括用以将纳米材料分散开供一级研磨组件（4）研磨的分散机构（5），分散机构（5）设有离心盘（51），离心盘（51）固定套设在旋转轴（3）上，离心盘（51）位于振动料斗（2）的下方，离心盘（51）的顶面沿着其圆周方向均匀分布有多个与旋转轴（3）相切的离心条（511），分散机构（5）还设有用以控制纳米材料在离心力下被甩出距离的范围控制组件（52），离心盘（51）处于范围控制组件（52）中，范围控制组件（52）位于一级研磨组件（4）的上方，一级研磨组件（4）和范围控制组件（52）之间还设有分散撒料组件（53）；
2.根据权利要求1所述的一种分散式纳米材料生产用研磨装置，其特征在于，变径驱动件（522）设有旋转环（5221），旋转环（5221）转动套设在研磨料仓（1）中，每个第一弧片（5211）与旋转环（5221）之间均铰接设有一个连杆（5222），研磨料仓（1）中设有用以驱动旋转环（5221）转动的旋转驱动器（5223），当旋转环（5221）正反往复旋转时，第一弧片（5211）在连杆（5222）的推拉下处于远离或靠近离心盘（51）的运动状态。
3.根据权利要求1所述的一种分散式纳米材料生产用研磨装置，其特征在于，分散撒料组件（53）设有固定底盘（531）和旋转底盘（532），固定底盘（531）设置在变径套环（521）的下方，固定底盘（531）与研磨料仓（1）固定连接，固定底盘（531）与离心盘（51）之间通过轴承连接，固定底盘（531）上从内到外沿着其圆周方向均匀开设有若干个落料口（5311），旋转底盘（532）转动设置在固定底盘（531）的底部，旋转底盘（532）与离心盘（51）同轴且固定连接，旋转底盘（532）上沿着其圆周方向均匀开设有若干个从中心向边缘方向延伸的条口（5321），固定底盘（531）的底部沿着其圆周方向均匀设有若干个与旋转底盘（532）的表面所接触的条形刮板（5312），每个条形刮板（5312）均平行于固定底盘（531）的轴心线。
4.根据权利要求1所述的一种分散式纳米材料生产用研磨装置，其特征在于，一级研磨组件（4）设有固定锥筒（41）、第一旋转锥筒（42）和第二旋转锥筒（43），固定锥筒（41）同轴且固定设置在研磨料仓（1）的下半部，固定锥筒（41）位于旋转底盘（532）的中部，第一旋转锥筒（42）同轴套设在固定锥筒（41）的内部，第二旋转锥筒（43）同轴套设在固定锥筒（41）的外部，第一旋转锥筒（42）的顶部与旋转底盘（532）的内侧固定，第一旋转锥筒（42）的底部与旋转轴（3）固定，第二旋转锥筒（43）的上端与旋转底盘（532）的外侧固定，第二旋转锥筒（43）的底部与研磨料仓（...
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