一种分散式纳米材料生产用研磨装置及其使用方法制造方法及图纸

技术编号:41129097 阅读:18 留言:0更新日期:2024-04-30 17:57
本发明专利技术涉及研磨领域,具体是涉及一种分散式纳米材料生产用研磨装置及其使用方法,一种分散式纳米材料生产用研磨装置,设置在研磨料仓中,研磨料仓的顶部和底部分别开设有进料口和出料口,研磨料仓中的上半部设有振动料斗,研磨料仓上设有振动器,研磨料仓中设有旋转轴,研磨装置包括一级研磨组件和分散机构,分散机构设有离心盘和范围控制组件,一级研磨组件和范围控制组件之间还设有分散撒料组件,本发明专利技术通过离心盘对纳米材料的离心甩出,使得纳米材料分散的洒落在分散撒料组件上,而随着范围控制组件控制着纳米材料甩出的范围,使得纳米材料均匀的分布在分散撒料组件的各个部分,从而以分散的形式进入一级研磨组件中,提高了研磨效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及研磨领域,具体是涉及一种分散式纳米材料生产用研磨装置,还涉及一种分散式纳米材料生产用研磨装置的使用方法。


技术介绍

1、现有的研磨分散器及研磨装置在工作时,在分散器高速转动的作用下研磨球在筒体内壁运动,无法形成多个研磨环流,使得远离分散器的研磨球和物料无法与分布在分散器较近区域的研磨球和物料之间和上下分布的研磨球和物料之间产生接触,研磨效率较低,而采用一般的磨盘式分散结构进行分散,容易导致纳米材料在研磨时发生堆积的现象,造成纳米材料研磨效率低下,需要更长的工作时间,从而会影响后续的生产。

2、公告号为cn112517141b的中国专利一种碳纳米管浆料生产用高效磨盘式分散结构及分散方法,包括壳体、分散装置、提升装置,所述壳体底部设置支撑架,所述壳体顶部一侧设有进料斗,壳体内部的上下两端分别设有研磨腔和输送腔,所述研磨腔与输送腔之间设有研磨隔板,所述研磨隔板上开设有多个漏孔,使得研磨腔与输送腔之间通过所述漏孔进行连通,所述研磨腔的上端设有圆环状的导料凸台,所述导料凸台上表面呈向下倾斜设置,研磨腔的内壁上设有研磨内衬,所述壳体底部两侧分本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种分散式纳米材料生产用研磨装置,设置在研磨料仓(1)中,研磨料仓(1)的顶部和底部分别开设有进料口(11)和出料口(12),研磨料仓(1)中的上半部设有振动料斗(2),研磨料仓(1)上设有用以驱动振动料斗(2)的振动器(21),研磨料仓(1)中设有与振动料斗(2)同轴的旋转轴(3),研磨料仓(1)的顶部设有用以驱动旋转轴(3)的主电机(31),研磨装置包括安装在旋转轴(3)上且位于研磨料仓(1)下半部的一级研磨组件(4)以及一级研磨组件(4)下方设置的二级研磨组件(6),其特征在于,研磨装置还包括用以将纳米材料分散开供一级研磨组件(4)研磨的分散机构(5),分散机构(5)设有离心盘...

【技术特征摘要】

1.一种分散式纳米材料生产用研磨装置,设置在研磨料仓(1)中,研磨料仓(1)的顶部和底部分别开设有进料口(11)和出料口(12),研磨料仓(1)中的上半部设有振动料斗(2),研磨料仓(1)上设有用以驱动振动料斗(2)的振动器(21),研磨料仓(1)中设有与振动料斗(2)同轴的旋转轴(3),研磨料仓(1)的顶部设有用以驱动旋转轴(3)的主电机(31),研磨装置包括安装在旋转轴(3)上且位于研磨料仓(1)下半部的一级研磨组件(4)以及一级研磨组件(4)下方设置的二级研磨组件(6),其特征在于,研磨装置还包括用以将纳米材料分散开供一级研磨组件(4)研磨的分散机构(5),分散机构(5)设有离心盘(51),离心盘(51)固定套设在旋转轴(3)上,离心盘(51)位于振动料斗(2)的下方,离心盘(51)的顶面沿着其圆周方向均匀分布有多个与旋转轴(3)相切的离心条(511),分散机构(5)还设有用以控制纳米材料在离心力下被甩出距离的范围控制组件(52),离心盘(51)处于范围控制组件(52)中,范围控制组件(52)位于一级研磨组件(4)的上方,一级研磨组件(4)和范围控制组件(52)之间还设有分散撒料组件(53);

2.根据权利要求1所述的一种分散式纳米材料生产用研磨装置,其特征在于,变径驱动件(522)设有旋转环(5221),旋转环(5221)转动套设在研磨料仓(1)中,每个第一弧片(5211)与旋转环(5221)之间均铰接设有一个连杆(5222),研磨料仓(1)中设有用以驱动旋转环(5221)转动的旋转驱动器(5223),当旋转环(5221)正反往复旋转时,第一弧片(5211)在连杆(5222)的推拉下处于远离或靠近离心盘(51)的运动状态。

3.根据权利要求1所述的一种分散式纳米材料生产用研磨装置,其特征在于,分散撒料组件(53)设有固定底盘(531)和旋转底盘(532),固定底盘(531)设置在变径套环(521)的下方,固定底盘(531)与研磨料仓(1)固定连接,固定底盘(531)与离心盘(51)之间通过轴承连接,固定底盘(531)上从内到外沿着其圆周方向均匀开设有若干个落料口(5311),旋转底盘(532)转动设置在固定底盘(531)的底部,旋转底盘(532)与离心盘(51)同轴且固定连接,旋转底盘(532)上沿着其圆周方向均匀开设有若干个从中心向边缘方向延伸的条口(5321),固定底盘(531)的底部沿着其圆周方向均匀设有若干个与旋转底盘(532)的表面所接触的条形刮板(5312),每个条形刮板(5312)均平行于固定底盘(531)的轴心线。

4.根据权利要求1所述的一种分散式纳米材料生产用研磨装置,其特征在于,一级研磨组件(4)设有固定锥筒(41)、第一旋转锥筒(42)和第二旋转锥筒(43),固定锥筒(41)同轴且固定设置在研磨料仓(1)的下半部,固定锥筒(41)位于旋转底盘(532)的中部,第一旋转锥筒(42)同轴套设在固定锥筒(41)的内部,第二旋转锥筒(43)同轴套设在固定锥筒(41)的外部,第一旋转锥筒(42)的顶部与旋转底盘(532)的内侧固定,第一旋转锥筒(42)的底部与旋转轴(3)固定,第二旋转锥筒(43)的上端与旋转底盘(532)的外侧固定,第二旋转锥筒(43)的底部与研磨料仓(...

【专利技术属性】
技术研发人员:曹丰慧
申请(专利权)人:大庆师范学院
类型:发明
国别省市:

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