本发明专利技术涉及化工原料研磨设备技术领域，具体为一种自动清理的化工原料研磨装置，包括呈水平设置的加工台，所述加工台的顶部固定设置有驱动电缸，所述驱动电缸的伸缩端设置有研磨化工原料的研磨装置，所述加工台的顶部还设置有放置化工原料的承载装置。本发明专利技术中能够通过驱动杆的不断下移使研磨架持续对化工原料施加压力，进而使化工原料研磨的更加彻底。另外，本发明专利技术对化工原料进行研磨之后，能够有效的对研磨架进行全面的清洁处理，进而避免有化工原料残留至研磨架上，避免对后续的化工原料研磨造成影响。
1、化工原料种类多，且它的用途非常广泛，同时化工原料主要分为有机化工原料和无机化工原料，且危险品也是化工行业的原料、中间体和产品，其运输方式的选择主要是针对相关产品的物理化学性质来选择。化工原料制成的化学品种类很多，而且每年还有大量的化学品问世，在将化工原料制成化学品时，有的固态化工原料需要被研磨成粉末状，以便于后续加工。
2、现有专利（公告号：cn113731590b）公开了一种可对两种不同固态化工原料块分别进行干研的设备，包括有三角槽架、n型连接架、异型多槽导向箱、旋转研磨机构等；其它支撑设备上设有一对三角槽架，三角槽架一侧设置有滑槽,两三角槽架对应设置，两三角槽架之间共同联接有一对n型连接架，两n型连接架对应设置，两n型连接架上共同联接有异型多槽导向箱，异型多槽导向箱上具有一对矩形槽，旋转研磨机构设于异型多槽导向箱上。通过螺母架与螺杆及其上装置的配合，在螺母架的作用下，螺杆及其上装置会转动，使得研磨盘充分地将放置板上的固态化工原料块研磨，达到了能够自动地将放置板上的固态化工原料块充分研磨的效果。
3、在实现该专利技术过程中，专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题没有得到解决：现有的研磨设备对化工化工原料进行研磨操作时，其研磨设备的研磨头在进行研磨之后，端部会存在化工化工原料的残留，对后续材料进行研磨时需由操作人员对其端部进行清洁处理，导致研磨过程繁琐，需不断的对其进行清洁，影响其研磨的加工效率。
>技术实现思路1、本专利技术的目的在于提供一种自动清理的化工原料研磨装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种自动清理的化工原料研磨装置，包括呈水平设置的加工台，所述加工台的顶部固定设置有驱动电缸，所述驱动电缸的伸缩端设置有研磨化工原料的研磨装置，所述加工台的顶部还设置有放置化工原料的承载装置。
3、优选的，所述研磨装置包括固定设置在驱动电缸伸缩端上的驱动杆，所述驱动杆外套设有旋转筒，所述旋转筒与加工台转动配合，所述旋转筒的外壁上设置有限位槽，所述限位槽由竖向槽和斜槽构成，所述驱动杆的外壁上固定设置有固定架，所述固定架上设置有与限位槽配合的卡块。
4、优选的，所述旋转筒的外壁上围绕旋转筒的圆周设置有四组限位块，所述旋转筒外壁上的限位块上卡接有限位盘且限位盘能够相对限位块上下滑动，所述驱动杆的外壁对称设置有卡接架，所述限位盘上开设有环槽，所述卡接架与环槽接触配合。
5、优选的，所述限位盘上固定设置有对称设置的支撑架，所述支撑架的底部设置有底板，所述底板上转动设置有旋转杆，所述旋转杆上固定连接有小齿轮，所述驱动杆的底部固定设置有与小齿轮相啮合的大齿轮，所述旋转杆上固定设置有传动盘，所述底板上还转动设置有转动杆，所述转动杆上固定设置有驱动盘，所述传动盘和驱动盘之间设置有传动皮带，所述转动杆上固定设置有研磨架。
6、优选的，所述研磨架内转动设置有研磨块，所述研磨块的两端设置有卡接槽，所述底板上固定设置有旋转电机，所述旋转电机的主轴连接有旋转伸缩杆，所述旋转伸缩杆的端面呈圆台形设置且旋转伸缩杆与研磨块上的卡接槽能够卡接，两组所述卡接架的外壁上设置有呈倾斜设置的柔性清洁毛刷。
7、优选的，所述加工台的内壁上还滑动设置有移动架，所述移动架与加工台的内壁之间设置有拉簧，所述移动架上还固定设置有固定杆，拉簧套设在固定杆外部，所述固定杆的端部设置有呈伸缩设置的锲形块，锲形块位于拉簧的上部，所述固定架的侧壁上还设置有等间距设置的挡杆，所述挡杆能够驱动锲形块上下移动，所述加工台的内壁位于锲形块的下方还设置有倾斜设置的挡板，挡板能够驱动锲形块收缩，所述加工台的内壁上设置有相对滑动设置的两个移动齿板，所述移动架与其中一个移动齿板固定连接，所述加工台的内壁上还转动设置有与两组移动齿板相啮合的旋转齿轮，两组所述移动齿板上均设置有连接架，所述连接架上开设有滑槽。
8、优选的，所述承载装置包括固定设置在加工台表面上的承载座，所述承载座上固定设置有三角架，所述三角架上对称设置有相对铰接设置的承载架，所述承载架与承载座之间设置有平衡弹簧，所述承载架的另一端铰接设置有平衡架。
9、优选的，所述承载座的顶部还转动设置有研磨盒，两组平衡架的一端分别与研磨盒的侧底部相连接，所述研磨盒的两端均固定设置有定位杆，两组所述定位杆分别与两组连接架上的滑槽滑动连接，所述研磨盒的底部设有滤孔，所述承载座上位于研磨盒的底部设有料盒。
10、与现有技术相比，本专利技术的有益效果：
11、本专利技术中，对化工化工原料进行研磨处理时，通过设置的驱动电缸带动驱动杆向下移动，驱动杆上的两组卡接架与限位盘上的环槽接触，进而带动限位盘在旋转筒上下移，而限位盘下移则会带动支撑架以及底板向下移动，进而将设置在底板上的研磨架带动下压，使研磨架对化工原料进行研磨处理时，通过驱动杆的不断下移使研磨架能够持续对化工原料施加压力，进而使化工原料研磨的更加彻底。
12、本专利技术中，当化工原料研磨结束之后，随着驱动电缸带动驱动杆上移，固定架上的卡块则会与旋转筒上的限位槽的斜槽接触，进而使旋转筒发生旋转，而旋转筒转动则会带动卡接的限位盘旋转，限位盘转动进而带动两组支撑架以及底板围绕旋转筒的圆周旋转，此时设置在底板上的小齿轮则会与驱动杆端部上的大齿轮接触，进而使小齿轮发生旋转，而小齿轮旋转则会带动旋转杆转动，旋转杆通过传动盘以及传动皮带使驱动盘旋转，驱动盘带动转动杆则会使研磨架翻转，进而使研磨之后的研磨架实现翻转，且同时配合支撑架和底板的转动进而能够使翻转的研磨架与设置在卡接架外壁上的柔性清洁毛刷有效接触，进而将研磨架进行全面有效的清洁处理，而研磨架在翻转时，旋转伸缩杆能够与研磨块分离，而当研磨架旋转至一圈时则能够与另一组研磨块卡接，进而能够继续进行下一次的研磨作业，通过此设置对化工原料进行研磨之后能够有效的对研磨架进行全面的清洁处理，进而避免有化工原料残留至研磨架上对后续的化工原料研磨造成影响。
13、本专利技术中，当研磨架与化工原料接触时，通过设置的旋转电机则能够带动主轴上的旋转伸缩杆旋转，而旋转伸缩杆与研磨块上的卡接槽接触，进而带动研磨块在研磨架内旋转，进而对化工原料进行研磨作业时，通过研磨块的转动能够提高对化工原料研磨的效率。
14、本专利技术中，当驱动杆在驱动电缸的带动下下移时，驱动杆上的固定架则会同步下移，通过设置在固定架上的挡杆则会与锲形块接触，进而带动锲形块同步下移，锲形块带动移动架下移则会使其中一组移动齿板在加工台的内壁上滑动，而其中一个移动齿板向下滑动时则会与旋转齿轮接触，进而通过旋转齿轮的旋转则会使另一组移动齿板朝上移动，从而使两组移动齿板朝向相反的方向移动，而锲形块在挡杆的带动下与呈倾斜设置的挡板接触时，锲形块则会收缩进而通过拉簧反作用力使其移动架复位与下一组挡杆接触配合，进而带动两组移动齿板往复移动，随后设置在本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种自动清理的化工原料研磨装置，其特征在于：包括呈水平设置的加工台（1），所述加工台（1）的顶部固定设置有驱动电缸（11），所述驱动电缸（11）的伸缩端设置有研磨化工原料的研磨装置（2），所述加工台（1）的顶部还设置有放置化工原料的承载装置（6）。
2.根据权利要求1所述的一种自动清理的化工原料研磨装置，其特征在于：所述研磨装置（2）包括固定设置在驱动电缸（11）伸缩端上的驱动杆（21），所述驱动杆（21）外套设有旋转筒（22），所述旋转筒（22）与加工台（1）转动配合，所述旋转筒（22）的外壁上设置有限位槽（23），所述限位槽（23）由竖向槽（231）和斜槽（232）构成，所述驱动杆（21）的外壁上固定设置有固定架（24），所述固定架（24）上设置有与限位槽（23）接触的卡块（25）。
3.根据权利要求2所述的一种自动清理的化工原料研磨装置，其特征在于：所述旋转筒（22）的外壁上围绕旋转筒（22）的圆周设置有四组限位块（26），所述旋转筒（22）外壁上的限位块（26）上卡接有限位盘（3）且限位盘（3）能够相对限位块（26）上下滑动，所述驱动杆（21）的外壁对称设置有卡接架（31），所述限位盘（3）上开设有环槽，所述卡接架（31）与环槽接触配合。
4.根据权利要求3所述的一种自动清理的化工原料研磨装置，其特征在于：所述限位盘（3）上固定设置有对称设置的支撑架（32），所述支撑架（32）的底部设置有底板（33），所述底板（33）上转动设置有旋转杆（34），所述旋转杆（34）上固定连接有小齿轮（35），所述驱动杆（21）的底部固定设置有与小齿轮（35）相啮合的大齿轮（36），所述旋转杆（34）上固定设置有传动盘（37），所述底板（33）上还转动设置有转动杆（38），所述转动杆（38）上固定设置有驱动盘（39），所述传动盘（37）和驱动盘（39）之间设置有传动皮带（391），所述转动杆（38）上固定设置有研磨架（4）。
5.根据权利要求4所述的一种自动清理的化工原料研磨装置，其特征在于：所述研磨架（4）内转动设置有研磨块（41），所述研磨块（41）的两端设置有卡接槽（42），所述底板（33）上固定设置有旋转电机（43），所述旋转电机（43）的主轴连接有旋转伸缩杆（44），所述旋转伸缩杆（44）的端面呈圆台形设置且旋转伸缩杆（44）与研磨块（41）上的卡接槽（42）能够卡接，两组所述卡接架（31）的外壁上设置有呈倾斜设置的柔性清洁毛刷（45）。
6.根据权利要求5所述的一种自动清理的化工原料研磨装置，其特征在于：所述加工台（1）的内壁上还滑动设置有移动架（5），所述移动架（5）与加工台（1）的内壁之间设置有拉簧（51），所述移动架（5）上还固定设置有固定杆（52），拉簧（51）套设在固定杆（52）外部，所述固定杆（52）的端部设置有呈伸缩设置的锲形块（53），锲形块（53）位于拉簧（51）的上部，所述固定架（24）的侧壁上还设置有等间距设置的挡杆（54），所述挡杆（54）能够驱动锲形块（53）上下移动，所述加工台（1）的内壁位于锲形块（53）的下方还设置有倾斜设置的挡板（55），挡板（55）能够驱动锲形块（53）收缩，所述加工台（1）的内壁上设置有相对滑动设置的两个移动齿板（56），所述移动架（5）与其中一个移动齿板（56）固定连接，所述加工台（1）的内壁上还转动设置有与两组移动齿板（56）相啮合的旋转齿轮（57），两组所述移动齿板（56）上均设置有连接架（58），所述连接架（58）上开设有滑槽（59）。
7.根据权利要求6所述的一种自动清理的化工原料研磨装置，其特征在于：所述承载装置（6）包括固定设置在加工台（1）表面上的承载座（61），所述承载座（61）上固定设置有三角架（62），所述三角架（62）上对称设置有相对铰接设置的承载架（63），所述承载架（63）与承载座（61）之间设置有平衡弹簧（64），所述承载架（63）的另一端铰接设置有平衡架（65）。
8.根据权利要求7所述的一种自动清理的化工原料研磨装置，其特征在于：所述承载座（61）的顶部还转动设置有研磨盒（66），两组平衡架（65）的一端分别与研磨盒（66）的侧底部相连接，所述研磨盒（66）的两端均固定设置有定位杆（67），两组所述定位杆（67）分别与两组连接架（58）上的滑槽（59）滑动连接，所述研磨盒（66）的底部设有滤孔，所述承载座（61）上位于研磨盒（66）的底部设有料盒（68）。
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【技术特征摘要】
1.一种自动清理的化工原料研磨装置，其特征在于：包括呈水平设置的加工台（1），所述加工台（1）的顶部固定设置有驱动电缸（11），所述驱动电缸（11）的伸缩端设置有研磨化工原料的研磨装置（2），所述加工台（1）的顶部还设置有放置化工原料的承载装置（6）。
2.根据权利要求1所述的一种自动清理的化工原料研磨装置，其特征在于：所述研磨装置（2）包括固定设置在驱动电缸（11）伸缩端上的驱动杆（21），所述驱动杆（21）外套设有旋转筒（22），所述旋转筒（22）与加工台（1）转动配合，所述旋转筒（22）的外壁上设置有限位槽（23），所述限位槽（23）由竖向槽（231）和斜槽（232）构成，所述驱动杆（21）的外壁上固定设置有固定架（24），所述固定架（24）上设置有与限位槽（23）接触的卡块（25）。
3.根据权利要求2所述的一种自动清理的化工原料研磨装置，其特征在于：所述旋转筒（22）的外壁上围绕旋转筒（22）的圆周设置有四组限位块（26），所述旋转筒（22）外壁上的限位块（26）上卡接有限位盘（3）且限位盘（3）能够相对限位块（26）上下滑动，所述驱动杆（21）的外壁对称设置有卡接架（31），所述限位盘（3）上开设有环槽，所述卡接架（31）与环槽接触配合。
4.根据权利要求3所述的一种自动清理的化工原料研磨装置，其特征在于：所述限位盘（3）上固定设置有对称设置的支撑架（32），所述支撑架（32）的底部设置有底板（33），所述底板（33）上转动设置有旋转杆（34），所述旋转杆（34）上固定连接有小齿轮（35），所述驱动杆（21）的底部固定设置有与小齿轮（35）相啮合的大齿轮（36），所述旋转杆（34）上固定设置有传动盘（37），所述底板（33）上还转动设置有转动杆（38），所述转动杆（38）上固定设置有驱动盘（39），所述传动盘（37）和驱动盘（39）之间设置有传动皮带（391），所述转动杆（38）上固定设置有研磨架（4）。
5.根据权利要求4所述的一种自动清理的化工原料研磨装置，其特征在于：所述研磨架（4）内转动设置有研磨块（41），所述研磨块（41）的两端设置有卡接槽（42），所述底板（33）上固定设置有旋转电机（43），所...
【专利技术属性】
技术研发人员：王立军，岳玉娟，王斌，刘存，
申请(专利权)人：山东阿林达科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：
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