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发光元件阵列、发光设备、电子设备和光子晶体结构制造技术

技术编号:41098026 阅读:10 留言:0更新日期:2024-04-25 13:55
提供在杂散光抑制、增强亮度和降低功耗方面得到改善的发光元件阵列、发光设备、电子设备和光子晶体结构。所述发光元件阵列设有具有发光表面的多个发光元件。形成多个发光单元,所述多个发光单元具有至少一个前述发光元件并且能够控制来自发光元件的发光表面的发光。向所述多个发光单元设置光学调整层,所述光学调整层的至少部分具有折射率周期性改变的周期结构部分。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开涉及发光元件阵列、发光设备、电子设备和光子晶体结构


技术介绍

1、伴随小型化和高清化,使用诸如半导体发光元件阵列之类的发光元件阵列的发光设备有望被应用于诸如增强现实(ar)、虚拟现实(vr)和混合现实(mr)之类的各种领域。在发光元件阵列中,希望抑制在作为像素等的发光单元中产生的光传播到相邻发光单元的状态,即,抑制杂散光,并且,进一步希望高亮度和低功耗。

2、例如,专利文献1的技术提出一种器件,该器件包括:包含设置在n型区域和p型区域之间的发光区域的结构;和结构的下表面的至少一部分上的反射器。对于该器件,在结构中,在对应于发光区域的第一部分的结构的第一区域中形成多个孔。对应于发光区域的第二部分的结构的多个第二区域不具有孔,并且,第二区域中的每一个对应于发光区域的第二部分并且被第一区域包围。器件还被配置为使得当被正向偏置时,电流被注入到第二区域中并且在第一区域中不存在电流。

3、引文列表

4、专利文献

5、专利文献1:日本专利特许公开no.2003-163368


技术实现思路

1、本专利技术要解决的问题

2、专利文献1的技术在上述杂散光抑制、高亮度和低功耗的方面具有进一步改善的空间。

3、鉴于上述要点,提出了本公开,并且,本公开的目的是提供在杂散光抑制、高亮度和低功耗的方面得到改善的发光元件阵列、发光设备、电子设备和光子晶体结构。

4、问题的解决方案

5、本公开为例如(1)一种发光元件阵列,该发光元件阵列包括:包括发光表面的多个发光元件,其中,形成包括发光元件中的至少一个并且能够控制来自发光元件的发光表面的发光的多个发光单元(像素),以及该多个发光单元设有光学调整层,该光学调整层至少部分地包括折射率周期性改变的周期结构部分。

6、另外,本公开是(2)一种光子晶体结构,用于发光设备中,并且在至少一部分中包括光子晶体部分,在该光子晶体部分中,折射率至少沿着面方向(plane direction)周期性地改变。

7、本公开是(3)一种发光设备,使用根据(1)所述的发光元件阵列。

8、本公开是(4)一种电子设备,使用根据(1)所述的发光元件阵列。

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【技术保护点】

1.一种发光元件阵列,包括:

2.根据权利要求1所述的发光元件阵列,

3.根据权利要求2所述的发光元件阵列,

4.根据权利要求1所述的发光元件阵列,

5.根据权利要求1所述的发光元件阵列,

6.根据权利要求5所述的发光元件阵列,

7.根据权利要求6所述的发光元件阵列,

8.根据权利要求6所述的发光元件阵列,

9.根据权利要求6所述的发光元件阵列,

10.根据权利要求1所述的发光元件阵列,

11.根据权利要求1所述的发光元件阵列,

12.根据权利要求11所述的发光元件阵列,还包括:

13.根据权利要求1所述的发光元件阵列,

14.根据权利要求1所述的发光元件阵列,

15.根据权利要求1所述的发光元件阵列,

16.根据权利要求1所述的发光元件阵列,

17.根据权利要求1的发光元件阵列,

18.一种光子晶体结构,用于发光设备中,并且在至少一部分中包括光子晶体部分,在所述光子晶体部分中,折射率至少沿着面方向周期性地改变。

19.一种发光设备,使用根据权利要求1所述的发光元件阵列。

20.一种电子设备,使用根据权利要求1所述的发光元件阵列。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种发光元件阵列,包括:

2.根据权利要求1所述的发光元件阵列,

3.根据权利要求2所述的发光元件阵列,

4.根据权利要求1所述的发光元件阵列,

5.根据权利要求1所述的发光元件阵列,

6.根据权利要求5所述的发光元件阵列,

7.根据权利要求6所述的发光元件阵列,

8.根据权利要求6所述的发光元件阵列,

9.根据权利要求6所述的发光元件阵列,

10.根据权利要求1所述的发光元件阵列,

11.根据权利要求1所述的发光元件阵列,

12.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员:友田胜宽上田一也安田淳琵琶刚志内藤宏树西中逸平大前晓
申请(专利权)人:索尼半导体解决方案公司
类型:发明
国别省市:

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