消偏振分光片及光学显示设备、光学测量设备制造技术

技术编号:41084553 阅读:2 留言:0更新日期:2024-04-25 10:39
本技术公开了一种消偏振分光片,包括基片及消偏振分光膜层组,消偏振分光膜层组设于基片表面,消偏振分光膜层组包括反射膜层及两组消偏振膜层组,反射膜层设于两组消偏振膜层组之间,消偏振膜层组包括五氧化二钽涂层及二氧化硅涂层;其中,五氧化二钽涂层与二氧化硅涂层交替堆叠三至五层以形成消偏振膜层组。能够提高消除偏振效应的效果,P偏光与S偏光的分光特性分离度小,使得S偏光、P偏光具有相近的出光效率,色散低、颜色中性度好,测量误差小,光线的透过率提高,成像更清晰,色还原真实。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光学相关,特别涉及一种消偏振分光片及光学显示设备及光学测量设备。


技术介绍

1、分光片广泛应用于光电仪器、激光系统、光电显示系统和光存储等领域,通常情况下偏振分光片常常倾斜使用,把入射光分束成反射光和透过的折射光两部分。当光线斜入射到光学薄膜时,会产生偏振效应,使得反射光中s偏振为主,折射光中p偏振为主,人们常利用这种特性来设计和制造偏振分光器等光学偏振器件。但在另一些光学系统应用中又希望能够消除偏振效应。因此存在一种消偏振分光片,能够尽量地消除偏振效应,尽可能地使反射光及折射光保持入射光的偏振态,以用于光学测量、成像等领域上,在现有技术中,消偏振分光片的偏振效应还是比较大,会导致存在较大的测量误差,其次,s偏光、p偏光分离大,使得出光效率低,光线的透过率低,导致成像不清晰。


技术实现思路

1、本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本技术提出一种消偏振分光片,能够提高分光片的消偏振效果、提高出光效率及光线透过率。

2、根据本技术的第一方面实施例的消偏振分光片,包括:基片及消偏振分光膜层组,所述消偏振分光膜层组设于所述基片表面,所述消偏振分光膜层组包括反射膜层及两组消偏振膜层组,所述反射膜层设于两层所述消偏振膜层组之间,所述消偏振膜层组包括五氧化二钽涂层及二氧化硅涂层;其中,所述五氧化二钽涂层与所述二氧化硅涂层交替堆叠三至五层以形成所述消偏振膜层组。

3、根据本技术实施例的消偏振分光片,至少具有如下有益效果:通过设置消偏振分光膜层组,能够提高消除偏振效应的效果,消偏振分光膜层组中的消偏振膜层组与反射膜层配合能够使得入射光中的s偏振光及p偏振光具有相近的反射率及透射率,以保持入射光的偏振态,消偏振膜层组中的五氧化二钽涂层为偏振材料,二氧化硅为高透明材质,而两组消偏振膜层组之间的反射膜层,能够提高反射率,三者配合堆叠,能够调整s偏振光及p偏振光的反射率及透射率,进而能够调整s偏振及p偏振的分离度,提高出光效率,通过上述结构,能够提高消除偏振效应的效果,p偏光与s偏光的分光特性分离度小,使得s偏光、p偏光具有相近的出光效率,色散低、颜色中性度好,测量误差小,光线的透过率提高,成像更清晰,色还原真实。

4、根据本技术的一些实施例,所述反射膜层为金属银涂层。

5、根据本技术的一些实施例,所述消偏振膜层组包括三个涂层,自上往下依次为所述五氧化二钽涂层、所述二氧化硅涂层及所述五氧化二钽涂层,或者自上往下依次为所述二氧化硅涂层、所述五氧化二钽涂层及所述二氧化硅涂层。

6、根据本技术的一些实施例,所述消偏振分光膜层组包括七个涂层,自上往下依次为所述五氧化二钽涂层、所述二氧化硅涂层、所述五氧化二钽涂层、所述金属银涂层、所述五氧化二钽涂层、所述二氧化硅涂层及所述五氧化二钽涂层。

7、根据本技术的一些实施例,所述消偏振分光膜层组的厚度为350nm。

8、根据本技术的一些实施例,所述基片厚度为1.5±0.3mm。

9、根据本技术的一些实施例,所述基片采用玻璃制成。

10、根据本技术的一些实施例,所述基片采用h-k9l光学玻璃制成。

11、根据本技术的第二方面实施例的一种光学显示设备,包括采用上述消偏振分光片的一种光学显示设备。

12、根据本技术实施例的一种光学显示设备,至少具有如下有益效果:通过采用上述的消偏振分光片,能够提高消除偏振效应的效果,p偏光与s偏光的分光特性分离度小,使得s偏光、p偏光具有相近的出光效率,使得光学显示设备的色散低、颜色中性度好,光线的透过率提高,成像更清晰,色的还原真实。

13、根据本技术的第三方面实施例的一种光学测量设备,包括采用上述消偏振分光片的一种光学测量设备。

14、根据本技术实施例的一种光学测量设备,至少具有如下有益效果:通过采用上述的消偏振分光片,能够提高消除偏振效应的效果,p偏光与s偏光的分光特性分离度小,使得s偏光、p偏光具有相近的出光效率,使得反射光与折射光能够大致保持入射光的偏振态,使得能够减少光学测量设备的测量误差。

15、本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本技术的实践了解到。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.消偏振分光片,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的消偏振分光片,其特征在于,所述反射膜层(210)为金属银涂层(211)。

3.根据权利要求1所述的消偏振分光片,其特征在于,所述消偏振膜层组(220)包括三个涂层,自上往下依次为所述五氧化二钽涂层(221)、所述二氧化硅涂层(222)及所述五氧化二钽涂层(221),或者自上往下依次为所述二氧化硅涂层(222)、所述五氧化二钽涂层(221)及所述二氧化硅涂层(222)。

4.根据权利要求2所述的消偏振分光片,其特征在于,所述消偏振分光膜层组的厚度为350nm。

5.根据权利要求1所述的消偏振分光片,其特征在于,所述基片(100)厚度为1.5±0.3mm。

6.根据权利要求5所述的消偏振分光片,其特征在于,所述基片(100)采用玻璃制成。

7.根据权利要求6所述的消偏振分光片,其特征在于,所述基片(100)采用H-K9L光学玻璃制成。

8.一种光学显示设备,包括根据权利要求1至7中任一项所述的消偏振分光片。

9.一种光学测量设备,包括根据权利要求1至7中任一项所述的消偏振分光片。

...

【技术特征摘要】

1.消偏振分光片,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的消偏振分光片,其特征在于,所述反射膜层(210)为金属银涂层(211)。

3.根据权利要求1所述的消偏振分光片,其特征在于,所述消偏振膜层组(220)包括三个涂层,自上往下依次为所述五氧化二钽涂层(221)、所述二氧化硅涂层(222)及所述五氧化二钽涂层(221),或者自上往下依次为所述二氧化硅涂层(222)、所述五氧化二钽涂层(221)及所述二氧化硅涂层(222)。

4.根据权利要求2所述的消偏振分光片,其特征在于,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:闪雷雷朱小康
申请(专利权)人:大鼎光学薄膜中山有限公司
类型:新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1