【技术实现步骤摘要】
本说明书涉及清洗设备领域，特别涉及一种槽式清洗装置自动化调节系统与方法。
技术介绍
1、光伏硅片的槽式清洗一般分为多个步骤，需要针对金属颗粒杂质和有机物杂质，分别设置不同的清洗液。在生产线中的连续清洗作业过程中，不同批次硅片所需的清洁步骤与清洁力度有所区别。现有技术通过设置药液补充装置、循环过滤装置的做法，往往不能及时掌控清洗液的成分波动信息，而是根据后续的清洗结果来判断前序工艺中清洗液的清洗效果，这样存在滞后性，且不能保证准确度，智能化程度较低。例如，cn107755311b公开了一种硅片水平清洗装置，在槽式清洗机内，硅片在花篮等机构的承载下，以垂直于水平面的竖直状态，经过酸洗槽和/或碱洗槽、多个漂洗槽，完成清洗过程。这种清洗方式存在纯水用量高、化学药剂添加量大、废水处理困难、能耗较高、自动化程度低、清洗速度慢等缺点，在一定程度上造成了清洁资源的不合理分配，降低了清洁效率。
2、因此，需要一种槽式清洗装置自动化调节系统与方法，以实现智能化清洗流程管控，同时提高清洗质量与效率。
技术实现思路
1、本说明书实施例之一提供一种槽式清洗装置自动化调节系统，所述系统被配置于槽式清洗装置中；包括：温度监控装置，被配置为监控并调控清洗槽内的清洗液温度，包括部署于所述清洗槽的侧壁和底部的加热膜，以及温度传感器；体积监测装置，被配置为监测清洗槽内的清洗液体积，包括部署于所述清洗槽内的液位仪；压力调控部件，配置为调控冲洗装置的冲洗压力；补液控制部件，被配置为控制补液装置对所述清洗槽内的清
2、本说明书实施例之一提供一种槽式清洗装置自动化调节方法，其特征在于所述方法基于槽式清洗装置自动化调节系统中控制组件的处理器执行，包括：基于清洗液特征，确定清洗参数，所述清洗参数包括冲洗压力；基于所述冲洗压力，确定压力调控指令，以调整冲洗装置的参数；以及基于调整后的冲洗压力对应的清洗质量，确定补液周期的调整值；基于调整后补液周期，确定补液指令，以控制补液装置对清洗槽内的清洗液进行补充。
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1.一种槽式清洗装置自动化调节系统，所述系统被配置于槽式清洗装置中；包括：
2.如权利要求1所述的槽式清洗装置自动化调节系统，其特征在于，所述处理器进一步用于：
3.如权利要求2所述的槽式清洗装置自动化调节系统，其特征在于，所述系统还包括第二图像监测装置，所述第二图像监测装置被配置为获取所述光伏硅片表面的初始图像数据；
4.如权利要求1所述的槽式清洗装置自动化调节系统，其特征在于，所述处理器还被配置为：
5.如权利要求1所述的槽式清洗装置自动化调节系统，其特征在于，所述处理器还被配置为：
6.一种槽式清洗装置自动化调节方法，其特征在于所述方法基于槽式清洗装置自动化调节系统中控制组件的处理器执行，包括：
7.如权利要求6所述的槽式清洗装置自动化调节方法，其特征在于，所述基于清洗液特征，确定清洗参数，包括：
8.如权利要求7所述的槽式清洗装置自动化调节方法，其特征在于，所述方法还包括：
9.如权利要求6所述的槽式清洗装置自动化调节方法，其特征在于，所述基于调整后的冲洗压力对应的清洗质量，确
10.如权利要求6所述的槽式清洗装置自动化调节方法，其特征在于，所述方法还包括：
...【技术特征摘要】
1.一种槽式清洗装置自动化调节系统，所述系统被配置于槽式清洗装置中；包括：
2.如权利要求1所述的槽式清洗装置自动化调节系统，其特征在于，所述处理器进一步用于：
3.如权利要求2所述的槽式清洗装置自动化调节系统，其特征在于，所述系统还包括第二图像监测装置，所述第二图像监测装置被配置为获取所述光伏硅片表面的初始图像数据；
4.如权利要求1所述的槽式清洗装置自动化调节系统，其特征在于，所述处理器还被配置为：
5.如权利要求1所述的槽式清洗装置自动化调节系统，其特征在于，所述处理器还被配置为：
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【专利技术属性】
技术研发人员：张淋，袁成，
申请(专利权)人：苏州普伊特自动化系统有限公司，
类型：发明
国别省市：
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