【技术实现步骤摘要】
本说明书涉及硅片清洗设备领域，特别涉及一种链式清洗设备控制系统和方法。
技术介绍
1、在光伏行业中，光伏硅片是制备光伏晶硅电池的重要材料。在使用光伏硅片前，需要对其进行清洗，去除表面污染物，以保证光伏晶硅电池的电性能和成品率。光伏硅片表面污染物主要为：颗粒、金属杂质、有机物、自然氧化层、静电等。湿化学法可以利用溶液、酸碱、表面活性剂、水及其混合物,通过腐蚀、溶解、化学反应等方法，去除光伏硅片表面的污染物。目前光伏行业在利用湿化学法对光伏硅片清洗时，主要有链式清洗和槽式清洗解决方案。链式清洗可以将光伏硅片水平平铺在链式输送线上，水平经过注有药液或清水的槽体进行清洗，中间可以有停顿以延长清洗时间，或通过调节链速控制清洗时间以实现不停顿在线清洗。在清洗光伏硅片表面污染物时，链式清洗相对于槽式清洗更有优势，但是统一使用一条链式输送清洗生产线，不能满足同时设置多流程的不同清洗时间/周期的需要，进而可能影响清洗质量和额外的清洗时间和清洗成本。如何在不降低清洗质量的前提下，合理调控不同清洗槽的清洗时间，以及链式输送线的输送速度，是一个待解决问题。
2、为解决上述问题，cn106169434b提出了一种晶体硅运输清洗装置，该装置整合全自动插片机和链式清洗机功能，通过上料冶具输送系统，吸片输送系统，缺陷产品处理系统等直接将清洗完成的硅片输送到分检机，能够发挥链式清洗的上下料优势，在一定程度上减少光伏硅片的清洗时间及清洗成本，但是输送线统一的输送速度可能导致清洗后的光伏硅片不满足清洗要求。
3、因此希望提供一种链式清洗设备控
技术实现思路
1、本说明书一个或多个实施例提供一种链式清洗设备控制系统，该系统包括：输送线调控部件、补液部件、机械臂、温控部件、吹扫调控装置和控制组件；所述输送线调控部件被配置为基于传动部件，控制链式输送线输送承载光伏硅片的花篮的输送间隔；所述补液部件被配置为基于多个补液管和补液阀门，向对应的清洗槽补充药液，所述清洗槽至少包括一个子槽；所述机械臂部署于所述清洗槽的上方，所述机械臂被配置为基于固定时间间隔将所述花篮下压至所述清洗槽内的所述药液中；所述温控部件被配置为控制所述药液的温度，所述温控部件包括加热膜，所述加热膜部署于所述清洗槽的侧壁及底部；所述吹扫调控装置被配置为控制吹扫装置的吹扫参数，所述吹扫参数包括吹扫气流强度、吹扫温度中至少一种；所述吹扫装置部署于至少一个所述清洗槽的上方，所述吹扫装置被配置为对所述光伏硅片进行吹扫；所述控制组件至少包括处理器，所述控制组件被配置为：基于待清洗光伏硅片的清洁特征，确定清洗槽分布参数并生成第一补液指令，将所述第一补液指令发送至所述补液部件，所述清洗槽分布参数包括清洗槽数量、各清洗槽对应的子槽数量以及各子槽中的药液类型中至少一种；基于各子槽的药液温度数据，确定至少一个所述清洗槽的最后一个子槽上方的所述吹扫装置对应的温调吹扫参数，并生成吹扫控制指令，将所述吹扫控制指令发送至所述吹扫调控装置。
2、本说明书一个或多个实施例提供一种链式清洗设备控制方法，该方法包括：基于待清洗光伏硅片的清洁特征，确定清洗槽分布参数并生成第一补液指令，将所述第一补液指令发送至补液部件，所述清洗槽分布参数包括清洗槽数量、各清洗槽对应的子槽数量以及各子槽中的药液类型中至少一种；基于各子槽的药液温度数据，确定至少一个所述清洗槽的最后一个子槽上方的吹扫装置对应的温调吹扫参数，并生成吹扫控制指令，将所述吹扫控制指令发送至吹扫调控装置。
3、本说明书一个或多个实施例提供一种链式清洗设备控制装置，所述装置包括至少一个处理器以及至少一个存储器；所述至少一个存储器用于存储计算机指令；所述至少一个处理器用于执行所述计算机指令中的至少部分指令以实现上述实施例中任一项所述的链式清洗设备控制方法。
4、本说明书一个或多个实施例提供一种计算机可读存储介质，所述存储介质存储计算机指令，当计算机读取所述计算机指令时，所述计算机执行上述实施例中任一项所述的链式清洗设备控制方法。
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1.一种链式清洗设备控制系统，其特征在于，包括：输送线调控部件、补液部件、机械臂、温控部件、吹扫调控装置和控制组件；
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统还包括图像获取装置，所述图像获取装置被配置为获取光伏硅片表面的图像数据，所述控制组件还被配置为：
3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统还包括硅片监测装置和药液监测装置，所述硅片监测装置被配置为监测离开所述清洗槽之后的所述光伏硅片的温度；所述药液监测装置部署于所述子槽内，被配置为监测所述子槽内的所述药液温度数据，所述控制组件还被配置为：
4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述控制组件还被配置为：
5.一种链式清洗设备控制方法，其特征在于，包括：
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述确定清洗槽分布参数还包括：
7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述确定至少一个所述清洗槽的最后一个子槽上方的吹扫装置对应的温调吹扫参数还包括：
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
9
10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述存储介质存储计算机指令，当计算机读取所述计算机指令时，所述计算机执行如权利要求5至8中任意一项所述的链式清洗设备控制方法。
...【技术特征摘要】
1.一种链式清洗设备控制系统，其特征在于，包括：输送线调控部件、补液部件、机械臂、温控部件、吹扫调控装置和控制组件；
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统还包括图像获取装置，所述图像获取装置被配置为获取光伏硅片表面的图像数据，所述控制组件还被配置为：
3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统还包括硅片监测装置和药液监测装置，所述硅片监测装置被配置为监测离开所述清洗槽之后的所述光伏硅片的温度；所述药液监测装置部署于所述子槽内，被配置为监测所述子槽内的所述药液温度数据，所述控制组件还被配置为：
4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述控制组件还被配置为：
<...【专利技术属性】
技术研发人员：张淋，袁成，
申请(专利权)人：苏州普伊特自动化系统有限公司，
类型：发明
国别省市：
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