【技术实现步骤摘要】
本技术涉及研磨机，具体涉及一种研磨抛光机静压结构。
技术介绍
1、前市场上现有的研磨抛光机一般都包括床身、上磨盘、下磨盘、砂液容器、砂液管、砂盘和立柱，晶体产品放置在上磨盘和下磨盘之间进行研磨抛光，砂液从砂液容器经过砂液管流到砂盘上，再经过砂盘上的通孔和砂液管流到上磨盘上，最后经过上磨盘上的通孔达到上下磨盘之间，辅助研磨。
2、目前大多下磨盘在使用过程中，通过滚动轴承进行承压，轴承的成本高，并且与下磨盘之间容易有间隙，很难达到精度，使用起来有一定的局限性。
技术实现思路
1、本技术的目的是提供一种研磨抛光机静压结构，减少下磨盘与固定支撑件之间的间隙，提高下磨盘上端面旋转时的精度。
2、为实现以上目的，本技术通过以下技术方案予以实现：
3、设计一种研磨抛光机静压结构，包括固定件、回转件和主轴，所述固定件与回转件的上表面均通过开设的通孔套设在所述主轴的外部，所述固定件通过稳定机构与回转件连接，且所述回转件位于固定件的上方，所述回转件通过连接件与主轴固定，所述...
【技术保护点】
1.一种研磨抛光机静压结构，其特征在于：包括固定件、回转件和主轴（1），所述固定件与回转件的上表面均通过开设的通孔套设在所述主轴（1）的外部，所述固定件通过稳定机构与回转件连接，且所述回转件位于固定件的上方，所述回转件通过连接件与主轴（1）固定，所述稳定机构包括定位块（2）和定位槽（3）。
2.根据权利要求1所述的一种研磨抛光机静压结构，其特征在于：所述定位槽（3）的内底壁与所述定位块（2）之间设置有润滑层（4），所述定位块（2）通过所述润滑层（4）与所述定位槽（3）的内底壁接触连接。
3.根据权利要求2所述的一种研磨抛光机静压结构，其特征在于...
【技术特征摘要】
1.一种研磨抛光机静压结构，其特征在于：包括固定件、回转件和主轴（1），所述固定件与回转件的上表面均通过开设的通孔套设在所述主轴（1）的外部，所述固定件通过稳定机构与回转件连接，且所述回转件位于固定件的上方，所述回转件通过连接件与主轴（1）固定，所述稳定机构包括定位块（2）和定位槽（3）。
2.根据权利要求1所述的一种研磨抛光机静压结构，其特征在于：所述定位槽（3）的内底壁与所述定位块（2）之间设置有润滑层（4），所述定位块（2）通过所述润滑层（4）与所述定位槽（3）的内底壁接触连接。
3.根据权利要求2所述的一种研磨抛光机静压结构，其特征在于：所述回转件包括回转盘（6），所述定位块（2）固定设置在所述回转盘（6）的下表面。
4.根据权利要求3所述的一种研磨抛光机静压结构，其特征在于：所述固定件包括固定盘（5），所述定位槽（3）开设在所述固定盘（5）的上表面，所述固定盘（5）的外表面开设有进油口（7），所述进油口（7）与定...
【专利技术属性】
技术研发人员：高令，谭志强，李叶明，张红超，黄俊达，
申请(专利权)人：西可装备制造衡阳有限公司，
类型：新型
国别省市：
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